技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種磁場(chǎng)提供裝置、磁控濺射設(shè)備及采用該設(shè)備的方法。該裝置包括：多個(gè)磁場(chǎng)檢測(cè)元件，在一檢測(cè)平面內(nèi)呈陣列分布，用于檢測(cè)所述檢測(cè)平面內(nèi)不同位置的磁場(chǎng)強(qiáng)度；多個(gè)磁鐵單元，分別與所述檢測(cè)平面相對(duì)設(shè)置，多個(gè)磁場(chǎng)檢測(cè)元件位于所述磁鐵單元的磁場(chǎng)中；多個(gè)調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)，每一磁鐵單元分別與一個(gè)調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)相連接，通過(guò)調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)，所述磁鐵單元相對(duì)于檢測(cè)平面的距離變化，以調(diào)節(jié)磁場(chǎng)檢測(cè)元件檢測(cè)獲得的磁場(chǎng)強(qiáng)度，所述檢測(cè)平面上的磁場(chǎng)強(qiáng)度均勻。本發(fā)明所述裝置，利用磁場(chǎng)檢測(cè)元件檢測(cè)距離磁鐵單元預(yù)定距離的檢測(cè)平面上的磁場(chǎng)強(qiáng)度，利用與磁鐵單元相連接的調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)對(duì)檢測(cè)平面位置處磁場(chǎng)強(qiáng)度的調(diào)節(jié)，能夠在檢測(cè)平面上獲得均勻磁場(chǎng)強(qiáng)度。

技術(shù)研發(fā)人員：杜建華;王鑫
受保護(hù)的技術(shù)使用者：京東方科技集團(tuán)股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.04.27
技術(shù)公布日：2017.08.04