1.一種蒸鍍掩膜板，其特征在于，所述蒸鍍掩膜板包括：框架及固定于所述框架上的支撐條；所述支撐條包括第一固定區(qū)，所述第一固定區(qū)內(nèi)設(shè)置有開口；所述框架包括第二固定區(qū)，所述第二固定區(qū)與所述第一固定區(qū)對應(yīng)，所述第二固定區(qū)內(nèi)設(shè)置有標(biāo)記；通過所述開口和所述標(biāo)記之間的相對位置能夠得到所述支撐條和所述框架之間的相對位置。
2.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩膜板，其特征在于，當(dāng)所述標(biāo)記位于所述開口的中間位置時，所述支撐條位于所述框架的位置適當(dāng)；當(dāng)所述標(biāo)記相對于所述開口偏上時，所述支撐條相對于所述框架偏下；當(dāng)所述標(biāo)記相對于所述開口偏下時，所述支撐條相對于所述框架偏上；當(dāng)所述標(biāo)記相對于所述開口偏左時，所述支撐條相對于所述框架偏右；當(dāng)所述標(biāo)記相對于所述開口偏右時，所述支撐條相對于所述框架偏左。
3.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩膜板，其特征在于，所述支撐條的數(shù)量為多個，每個支撐條均包括第一固定區(qū)，每個支撐條上的第一固定區(qū)內(nèi)均設(shè)置有開口；所述框架包括多個第二固定區(qū)，每個第二固定區(qū)內(nèi)均設(shè)置有標(biāo)記。
4.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的蒸鍍掩膜板，其特征在于，所述標(biāo)記在所述框架上的投影位于所述開口在所述框架上的投影內(nèi)。
5.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的蒸鍍掩膜板，其特征在于，所述開口位于所述第一固定區(qū)的中間位置。
6.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的蒸鍍掩膜板，其特征在于，所述開口為規(guī)則結(jié)構(gòu)。
7.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的蒸鍍掩膜板，其特征在于，所述標(biāo)記位于所述第二固定區(qū)的中間位置。
8.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的蒸鍍掩膜板，其特征在于，所述標(biāo)記為規(guī)則結(jié)構(gòu)。
9.一種蒸鍍掩膜板的制造方法，其特征在于，所述蒸鍍掩膜板的制造方法包括：
提供框架及支撐條；所述支撐條包括第一固定區(qū)，所述第一固定區(qū)內(nèi)設(shè)置有開口；所述框架包括第二固定區(qū)，所述第二固定區(qū)與所述第一固定區(qū)對應(yīng)，所述第二固定區(qū)內(nèi)設(shè)置有標(biāo)記；
將所述支撐條放置于所述框架上，并根據(jù)所述開口和所述標(biāo)記之間的相對位置調(diào)整所述支撐條與所述框架之間的相對位置；
將所述支撐條固定于所述框架上。
10.如權(quán)利要求9所述的蒸鍍掩膜板的制造方法，其特征在于，根據(jù)所述開口和所述標(biāo)記之間的相對位置調(diào)整所述支撐條與所述框架之間的相對位置主要包括：當(dāng)所述標(biāo)記相對于所述開口偏上時，將所述支撐條向上調(diào)整；當(dāng)所述標(biāo)記相對于所述開口偏下時，將所述支撐條向下調(diào)整；當(dāng)所述標(biāo)記相對于所述開口偏左時，將所述支撐條向左調(diào)整；當(dāng)所述標(biāo)記相對于所述開口偏右時，將所述支撐條向右調(diào)整。