技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)公開一種電子束蒸發(fā)型鍍膜機(jī)的擋板用修正設(shè)備，該修正設(shè)備包括蒸發(fā)源模擬光源、密封腔、安裝部、傘狀載件盤和標(biāo)尺；其中，所述蒸發(fā)源模擬光源固定在所述密封腔的底部；所述傘狀載件盤可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置在所述密封腔的頂部，且所述傘狀載件盤上設(shè)置有安裝孔；所述安裝部固定在所述密封腔內(nèi)，且用于固定電子束蒸發(fā)型鍍膜機(jī)的擋板以使得所述擋板位于所述蒸發(fā)源模擬光源至所述安裝孔的光路上，所述標(biāo)尺用于測(cè)量所述擋板的寬度，所述擋板和所述標(biāo)尺能在所述傘狀載件盤上分別形成擋板投影和標(biāo)尺投影。上述修正設(shè)備能實(shí)現(xiàn)對(duì)電子束蒸發(fā)型鍍膜機(jī)的擋板實(shí)施修正。

技術(shù)研發(fā)人員：胡天佐;單明星;石國(guó)強(qiáng)
受保護(hù)的技術(shù)使用者：長(zhǎng)春博信光電子有限公司
文檔號(hào)碼：201621445340
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.27
技術(shù)公布日：2017.08.04