技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型涉及勻氣裝置的技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種安裝于化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)或原子層沉積系統(tǒng)的反應(yīng)腔內(nèi)的勻氣桶，其中，勻氣桶包括用于勻氣的第一勻氣盤組、桶體及第二勻氣盤組，第一勻氣盤組和第二勻氣盤組分別封蓋于桶體兩端的開口上。本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案，通過在反應(yīng)腔中設(shè)置勻氣桶，將勻氣桶的第一勻氣盤組、桶體和第二勻氣盤組設(shè)置在反應(yīng)腔內(nèi)，并通過調(diào)整第一勻氣盤組、桶體和第二勻氣盤組來控制不同位置的氣體的流量和流速，從而實(shí)現(xiàn)了調(diào)節(jié)進(jìn)入勻氣桶的氣體的均勻性，有效地保證了膜層厚度的均勻性。

技術(shù)研發(fā)人員：楊永亮;黃慶新;李娜;鐘民;張泓筠
受保護(hù)的技術(shù)使用者：凱里學(xué)院
文檔號碼：201621353058
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.08
技術(shù)公布日：2017.06.16