1.勻氣桶，安裝于化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)或原子層沉積系統(tǒng)的反應(yīng)腔內(nèi)，其特征在于，所述勻氣桶包括用于勻氣的第一勻氣盤組、桶體及第二勻氣盤組，所述第一勻氣盤組和所述第二勻氣盤組分別封蓋于所述桶體兩端的開口上。
2.如權(quán)利要求1所述的勻氣桶，其特征在于，所述第一勻氣盤組包括圓盤，以及設(shè)置于所述圓盤一側(cè)面上的多個(gè)同心圓環(huán)，所述圓盤上開設(shè)有多個(gè)第一通孔，所述同心圓環(huán)上開設(shè)有對(duì)應(yīng)于所述多個(gè)第一通孔的多個(gè)第二通孔，且所述第一通孔和所述第二通孔重疊或交錯(cuò)形成通氣孔。
3.如權(quán)利要求2所述的勻氣桶，其特征在于，各所述同心圓環(huán)上的多個(gè)第二通孔沿其圓周均勻間隔分布，且所述圓盤上各第一通孔對(duì)應(yīng)于所述同心圓環(huán)上各所述第二通孔呈均勻間隔分布。
4.如權(quán)利要求2所述的勻氣桶，其特征在于，所述第一勻氣盤組還包括多個(gè)連接件，所述圓盤和所述多個(gè)同心圓環(huán)通過所述多個(gè)連接件連接。
5.如權(quán)利要求4所述的勻氣桶，其特征在于，所述同心圓環(huán)上還設(shè)有至少一用于調(diào)整所述圓盤與所述同心圓環(huán)相對(duì)位置的定位柱。
6.如權(quán)利要求2所述的勻氣桶，其特征在于，所述第一勻氣盤組還包括至少一把手，所述把手固設(shè)于所述圓盤的邊沿并自所述圓盤的表面向外延伸。
7.如權(quán)利要求1至6任一項(xiàng)所述的勻氣桶，其特征在于，所述第二勻氣盤組的結(jié)構(gòu)與所述第一勻氣盤組的結(jié)構(gòu)相同。
8.如權(quán)利要求1至6任一項(xiàng)所述的勻氣桶，其特征在于，所述桶體包括主圓筒，以及套設(shè)于所述主圓筒的外壁上的多個(gè)同軸圓筒，所述主圓筒上開設(shè)有多個(gè)第三通孔，所述同軸圓筒上開設(shè)有對(duì)應(yīng)于所述多個(gè)第三通孔的多個(gè)第四通孔，且所述第三通孔和所述第四通孔重疊或交錯(cuò)形成通氣孔。
9.如權(quán)利要求8所述的勻氣桶，其特征在于，各所述同軸圓筒上的多個(gè)第四通孔均勻間隔分布，且所述主圓筒上各第三通孔對(duì)應(yīng)于所述同軸圓筒上各所述第四通孔呈均勻間隔分布。
10.如權(quán)利要求8所述的勻氣桶，其特征在于，所述同軸圓筒上還設(shè)有至少一用于調(diào)整所述主圓筒與所述同軸圓筒相對(duì)位置的凸塊。