技術(shù)編號：12631457
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型涉及勻氣裝置的技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種勻氣桶。背景技術(shù)薄膜制備工藝是半導體制造工藝中的重要組成部分，一般分為物理成膜、化學成膜，以及物理與化學復合的制膜技術(shù)。其中，化學成膜方法中的原子層沉積(Atomiclayerdeposition，簡稱ALD)技術(shù)，以及化學氣相沉積(Chemicalvapordeposition，簡稱CVD)技術(shù)，都需要向反應系統(tǒng)中通入相應的反應氣體。目前，對于大腔體的CVD系統(tǒng)和ALD系統(tǒng)來說，膜層厚度的均勻性是一項非常重要的指標，而膜層厚度的均勻性常常受到進氣方...
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