本實(shí)用新型涉及稀土冶金領(lǐng)域，特別涉及一種用于旋轉(zhuǎn)式氫碎爐的噴淋設(shè)備。

背景技術(shù)：

釹鐵硼作為稀土永磁材料的一種具有極高的磁能積和矯頑力，同時(shí)高能量密度的優(yōu)點(diǎn)使釹鐵硼永磁材料在現(xiàn)代工業(yè)和電子技術(shù)中獲得了廣泛應(yīng)用，從而使儀器儀表、電聲電機(jī)、磁選磁化等設(shè)備的小型化、輕量化、薄型化成為可能。釹鐵硼輻射環(huán)即由釹鐵硼制作的圓環(huán)狀永磁材料，它從成本上改變了以往輻射環(huán)型燒結(jié)釹鐵硼產(chǎn)品只能靠磁瓦拼裝的局面，大大提高了該產(chǎn)品的性能，目前釹鐵硼輻射環(huán)的生產(chǎn)工藝主要包括熔煉、制粉、成型和燒結(jié)，在制粉過程中需要經(jīng)過氫碎爐及氣磨機(jī)等設(shè)備加工，以減小粉末顆粒大小，其中氫碎爐在每次工作過后需要快速降溫，以便再次使用。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于克服了上述缺陷，提供一種使用方便，降溫迅速的用于旋轉(zhuǎn)式氫碎爐的噴淋設(shè)備。

為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為：

一種用于旋轉(zhuǎn)式氫碎爐的噴淋設(shè)備，包括底座、集水槽、支撐桿和噴淋管，所述集水槽為中空的半圓柱體，所述集水槽開口朝上安裝在底座上，所述集水槽底部設(shè)有出水口，所述支撐桿數(shù)量為兩個(gè)，所述兩個(gè)支撐桿朝上豎直設(shè)置在集水槽兩端，所述噴淋管的兩端分別與兩個(gè)支撐桿的頂端連接，所述噴淋管上沿長度方向間隔設(shè)置有一個(gè)以上的噴淋頭，所述噴淋管一端封閉另一端設(shè)有進(jìn)水口，所述底座下方設(shè)有一個(gè)以上的滾輪。

進(jìn)一步的，所述噴淋頭通過定型軟管與噴淋管連接。

進(jìn)一步的，所述底座包括兩個(gè)支撐架和連接所述兩個(gè)支撐架的連接桿，所述支撐架由兩個(gè)鋼管交叉焊接組成。

進(jìn)一步的，所述滾輪的數(shù)量為四個(gè)，所述四個(gè)滾輪分別設(shè)置在底座底面的四個(gè)頂角處。

進(jìn)一步的，所述出水口上設(shè)有過濾網(wǎng)。

本實(shí)用新型的有益效果在于：氫碎爐氫碎完畢后將外殼打開，可將冷卻裝置移動至爐芯下方，通過外接水泵對爐芯進(jìn)行冷卻，噴淋頭可直接朝向爐芯噴水，排水面積大，冷卻效果好，并且落下的水留在集水槽中，可再次循環(huán)使用，節(jié)省水資源。

附圖說明

圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例用于旋轉(zhuǎn)式氫碎爐的噴淋設(shè)備的立體圖；

圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例用于旋轉(zhuǎn)式氫碎爐的噴淋設(shè)備的主視圖。

標(biāo)號說明：

1、底座；2、集水槽；3、支撐桿；4、噴淋管。

具體實(shí)施方式

為詳細(xì)說明本實(shí)用新型的技術(shù)內(nèi)容、構(gòu)造特征、所實(shí)現(xiàn)目的及效果，以下結(jié)合實(shí)施方式并配合附圖詳予說明。

本實(shí)用新型最關(guān)鍵的構(gòu)思在于：噴淋頭可直接朝向爐芯噴水，排水面積大，冷卻效果好，并且落下的水留在集水槽中，可再次循環(huán)使用，節(jié)省水資源。

請參閱圖1至圖2所示，本實(shí)施例的用于旋轉(zhuǎn)式氫碎爐的噴淋設(shè)備，包括底座1、集水槽2、支撐桿3和噴淋管4，所述集水槽2為中空的半圓柱體，所述集水槽2開口朝上安裝在底座1上，所述集水槽2底部設(shè)有出水口，所述支撐桿3數(shù)量為兩個(gè)，所述兩個(gè)支撐桿3朝上豎直設(shè)置在集水槽2兩端，所述噴淋管4的兩端分別與兩個(gè)支撐桿3的頂端連接，所述噴淋管4上沿長度方向間隔設(shè)置有一個(gè)以上的噴淋頭，所述噴淋管4一端封閉另一端設(shè)有進(jìn)水口，所述底座1下方設(shè)有一個(gè)以上的滾輪。

本實(shí)用新型的工作過程為：先將進(jìn)水口和出水口分別與水泵的進(jìn)出水管連接，在集水槽2內(nèi)裝水，氫碎爐打開后將裝置移動到氫碎爐下方，打開水泵對爐芯噴水降溫。

從上述描述可知，本實(shí)用新型的有益效果在于：氫碎爐氫碎完畢后將外殼打開，可將冷卻裝置移動至爐芯下方，通過外接水泵對爐芯進(jìn)行冷卻，噴淋頭可直接朝向爐芯噴水，排水面積大，冷卻效果好，并且落下的水留在集水槽2中，可再次循環(huán)使用，節(jié)省水資源。

進(jìn)一步的，所述噴淋頭通過定型軟管與噴淋管4連接。

由上述描述可知，噴淋頭通過定型軟管與噴淋管4連接，使得噴淋頭可任意轉(zhuǎn)動并定位，通過調(diào)整可使每個(gè)噴淋頭都朝向爐芯方向，提高冷卻效率。

進(jìn)一步的，所述底座1包括兩個(gè)支撐架和連接所述兩個(gè)支撐架的連接桿，所述支撐架由兩個(gè)鋼管交叉焊接組成。

由上述描述可知，底座1通過桿件拼裝組成，結(jié)構(gòu)牢固，重量輕。

進(jìn)一步的，所述滾輪的數(shù)量為四個(gè)，所述四個(gè)滾輪分別設(shè)置在底座1底面的四個(gè)頂角處。

進(jìn)一步的，所述出水口上設(shè)有過濾網(wǎng)。

由上述描述可知，出水口上設(shè)有過濾網(wǎng)，防止雜物進(jìn)入水泵中，影響水泵正常使用。

請參照圖1至圖2所示，本實(shí)用新型的實(shí)施例一為：

一種用于旋轉(zhuǎn)式氫碎爐的噴淋設(shè)備，包括底座1、集水槽2、支撐桿3和噴淋管4，所述集水槽2為中空的半圓柱體，所述集水槽2開口朝上安裝在底座1上，所述集水槽2底部設(shè)有出水口，所述支撐桿3數(shù)量為兩個(gè)，所述兩個(gè)支撐桿3朝上豎直設(shè)置在集水槽2兩端，所述噴淋管4的兩端分別與兩個(gè)支撐桿3的頂端連接，所述噴淋管4上沿長度方向間隔設(shè)置有一個(gè)以上的噴淋頭，所述噴淋管4一端封閉另一端設(shè)有進(jìn)水口，所述底座1下方設(shè)有一個(gè)以上的滾輪，所述噴淋頭通過定型軟管與噴淋管4連接，所述底座1包括兩個(gè)支撐架和連接所述兩個(gè)支撐架的連接桿，所述支撐架由兩個(gè)鋼管交叉焊接組成，所述滾輪的數(shù)量為四個(gè)，所述四個(gè)滾輪分別設(shè)置在底座1底面的四個(gè)頂角處，所述出水口上設(shè)有過濾網(wǎng)。

綜上所述，本實(shí)用新型提供的用于旋轉(zhuǎn)式氫碎爐的噴淋設(shè)備，氫碎爐氫碎完畢后將外殼打開，可將冷卻裝置移動至爐芯下方，通過外接水泵對爐芯進(jìn)行冷卻，噴淋頭可直接朝向爐芯噴水，排水面積大，冷卻效果好，并且落下的水留在集水槽中，可再次循環(huán)使用，節(jié)省水資源，噴淋頭通過定型軟管與噴淋管連接，使得噴淋頭可任意轉(zhuǎn)動并定位，通過調(diào)整可使每個(gè)噴淋頭都朝向爐芯方向，提高冷卻效率，底座通過桿件拼裝組成，結(jié)構(gòu)牢固，重量輕，出水口上設(shè)有過濾網(wǎng)，防止雜物進(jìn)入水泵中，影響水泵正常使用。

以上所述僅為本實(shí)用新型的實(shí)施例，并非因此限制本實(shí)用新型的專利范圍，凡是利用本實(shí)用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。