本實(shí)用新型涉及真空蒸鍍?cè)O(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種高溫電子束加熱樣品臺(tái)。

背景技術(shù)：

電子束蒸發(fā)是真空蒸鍍的一種方式，它是在鎢絲蒸發(fā)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的，電子束是一種高速的電子流，電子束蒸發(fā)是目前真空鍍膜技術(shù)中一種成熟且主要的鍍膜方法，它解決了電阻加熱方式中膜料與蒸鍍?cè)床牧现苯咏佑|容易互混的問(wèn)題?，F(xiàn)有用于電子束蒸發(fā)加熱的樣品臺(tái)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，功能單一，只是起到架起待加工樣品的作用，不能隨意調(diào)節(jié)臺(tái)面范圍，也沒(méi)有配套的防護(hù)裝置保護(hù)待加工樣品不從臺(tái)面掉落，一定程度上影響了樣品臺(tái)工作效率。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為了克服現(xiàn)有的上述的不足，本實(shí)用新型提供了一種高溫電子束加熱樣品臺(tái)。

本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是：一種高溫電子束加熱樣品臺(tái)，包括樣品臺(tái)主體，樣品臺(tái)主體外圍設(shè)有至少兩層伸縮臺(tái)圈，伸縮臺(tái)圈內(nèi)壁設(shè)有凹槽圈，伸縮臺(tái)圈外圍設(shè)有滑軌，滑軌上設(shè)有擋圈。

根據(jù)本實(shí)用新型的另一個(gè)實(shí)施例，進(jìn)一步包括凹槽圈設(shè)在伸縮臺(tái)圈頂端內(nèi)側(cè)。

根據(jù)本實(shí)用新型的另一個(gè)實(shí)施例，進(jìn)一步包括凹槽圈和擋圈契合。

根據(jù)本實(shí)用新型的另一個(gè)實(shí)施例，進(jìn)一步包括伸縮臺(tái)圈有三層。

本實(shí)用新型的有益效果是，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作方便，工作穩(wěn)定可靠，三層伸縮臺(tái)圈能根據(jù)使用需求輕松調(diào)節(jié)，擋圈能有效防止樣品掉落，有效提高設(shè)備工作效率。

附圖說(shuō)明

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說(shuō)明。

圖1是本實(shí)用新型的主視圖。

圖2是本實(shí)用新型的俯視圖。

圖中1.樣品臺(tái)主體，2.伸縮臺(tái)圈，3.凹槽圈，4.滑軌，5.擋圈。

具體實(shí)施方式

如圖1、2所示，一種高溫電子束加熱樣品臺(tái)，包括樣品臺(tái)主體1，樣品臺(tái)主體1外圍設(shè)有至少兩層伸縮臺(tái)圈2，伸縮臺(tái)圈2內(nèi)壁設(shè)有凹槽圈3，伸縮臺(tái)圈2外圍設(shè)有滑軌4，滑軌4上設(shè)有擋圈5，凹槽圈3設(shè)在伸縮臺(tái)圈2頂端內(nèi)側(cè)，凹槽圈3和擋圈5契合，伸縮臺(tái)圈2有三層。

使用時(shí)，樣品臺(tái)主體1外圍的三層伸縮臺(tái)圈2均能上下伸縮運(yùn)動(dòng)，從而增減樣品臺(tái)的載物面積，擋圈5在伸縮臺(tái)圈2外圍的滑軌4內(nèi)上下滑動(dòng)改變位置，當(dāng)?shù)诙由炜s臺(tái)圈2上升至和樣品臺(tái)主體1等高，伸縮臺(tái)圈2外側(cè)的擋圈5沿滑軌4上升，使之高出樣品臺(tái)面，起到很好的擋料作用，以此類推，三層伸縮臺(tái)圈2能三次增大載物面積。

改進(jìn)后的高溫電子束加熱樣品臺(tái)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作方便，工作穩(wěn)定可靠，三層伸縮臺(tái)圈能根據(jù)使用需求輕松調(diào)節(jié)，擋圈能有效防止樣品掉落，有效提高設(shè)備工作效率。

以上說(shuō)明對(duì)本實(shí)用新型而言只是說(shuō)明性的，而非限制性的，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員理解，在不脫離所附權(quán)利要求所限定的精神和范圍的情況下，可做出許多修改、變化或等效，但都將落入本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。