技術(shù)總結(jié)
本實用新型涉及一種真空鍍膜離子鍍裝置的陰極磁控裝置，包括相互連接的電機和支架，支架中間設(shè)有至少一根與電機相連的轉(zhuǎn)動軸，轉(zhuǎn)動軸上設(shè)有圓柱體滾柱，該圓柱體滾柱上開設(shè)凹槽，凹槽內(nèi)設(shè)有磁鐵。本實用新型在PVD涂層設(shè)備鍍膜過程中，通過調(diào)節(jié)陰極背后磁控系統(tǒng)的電機速度，來調(diào)節(jié)磁鐵轉(zhuǎn)動速度，最終調(diào)整陰極表面電弧的速度和刻蝕區(qū)域，從而減小鍍膜過程的液滴大小并達到提高靶材的利用率。

技術(shù)研發(fā)人員：單永賢
受保護的技術(shù)使用者：上海金科納米涂層技術(shù)有限公司
文檔號碼：201620652256
技術(shù)研發(fā)日：2016.06.28
技術(shù)公布日：2017.01.04