技術(shù)編號：12393929
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型涉及一種磁控裝置，具體的說是真空鍍膜離子鍍裝置的陰極磁控裝置。背景技術(shù)真空電弧離子鍍鍍膜技術(shù)為機械加工、工具等領(lǐng)域提供的耐磨涂層得到了廣泛的應(yīng)用，其原理是這種方法具有沉積速度快，結(jié)合力好等優(yōu)點。但是也存在有缺陷，比如以矩形金屬靶材為例，在離子鍍膜過程中會產(chǎn)生大量的金屬液滴，使得膜層表面粗糙度高、摩擦系數(shù)高，涂層質(zhì)量不好；電弧本身是連續(xù)隨機走動光斑產(chǎn)生的情況的現(xiàn)象，所以必須在金屬靶材背后制造磁場，通過電磁原理所產(chǎn)生的作用力，把光斑限制在特定范圍內(nèi)走動。矩形金屬靶材表面磁控系統(tǒng)原理如圖。為...
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