1.一種應(yīng)用于高熔點(diǎn)高活性金屬材料的多功能熔鑄設(shè)備，其特征在于應(yīng)用于高熔點(diǎn)高活性金屬材料的多功能熔鑄設(shè)備由真空室(1)、感應(yīng)線圈(2)、坩堝(3)、物料進(jìn)給裝置(4)、羅茨泵(5)、機(jī)械泵(6)、懸浮線圈(7)、等離子發(fā)射裝置(8)、升降裝置(9)、氣氛控制系統(tǒng)(10)、底部支架(11)、保溫層(12)、翻轉(zhuǎn)裝置(13)、澆液漏斗(14)、模殼(15)、石墨加熱體(16)、測控溫裝置(17)、水冷銅盤(18)、拉伸裝置(19)和水冷軸(20)組成；
升降裝置(9)設(shè)置在真空室(1)上壁的外側(cè)，等離子發(fā)射裝置(8)和升降裝置(9)固定在一起，等離子發(fā)射裝置(8)穿過真空室(1)上壁的孔進(jìn)入真空室(1)內(nèi)，坩堝(3)與設(shè)置在真空室(1)內(nèi)壁的翻轉(zhuǎn)裝置(13)固定在一起，坩堝(3)外壁設(shè)置有感應(yīng)線圈(2)，并且坩堝(3)設(shè)置在等離子發(fā)射裝置(8)的正下方；所述的升降裝置(9)是能將等離子發(fā)射裝置(8)上下移動的機(jī)械裝置；所述的翻轉(zhuǎn)裝置(13)是能在豎直面內(nèi)帶動坩堝(3)同步旋轉(zhuǎn)的機(jī)械裝置；
物料進(jìn)給裝置(4)設(shè)置在真空室(1)上壁外側(cè)靠近升降裝置(9)處；在真空室(1)內(nèi)物料進(jìn)給裝置(4)的正下方設(shè)置兩端敞口的圓柱形石墨加熱體(16)，石墨加熱體(16)內(nèi)壁設(shè)置保溫層(12)，保溫層(12)內(nèi)設(shè)置模殼(15)，所述的石墨加熱體(16)的頂部設(shè)置一個澆液漏斗(14)，澆液漏斗(14)下端出口伸入到模殼(15)內(nèi)，澆液漏斗(14)上方設(shè)置懸浮線圈(7)，模殼(15)的側(cè)壁與真空室(1)外的測控溫裝置(17)連通，在模殼(15)的下端面設(shè)置水冷銅盤(18)，水冷銅盤(18)下端面連通水冷軸(20)，水冷軸(20)的底部設(shè)置拉伸裝置(19)；所述的物料進(jìn)給裝置(4)是可以上下移動的機(jī)械裝置；所述的拉伸裝置(19)是可以帶動水冷軸(20)上下移動的設(shè)備；
真空室(1)的下方設(shè)置底部支架(11)，羅茨泵(5)和機(jī)械泵(6)連通，機(jī)械泵(6)和真空室(1)連通，氣氛控制系統(tǒng)(20)與真空室(1)連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應(yīng)用于高熔點(diǎn)高活性金屬材料的多功能熔鑄設(shè)備，其特征在于所述的保溫層(12)是石棉或石墨氈。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應(yīng)用于高熔點(diǎn)高活性金屬材料的多功能熔鑄設(shè)備，其特征在于所述的坩堝(3)是水冷銅坩堝。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應(yīng)用于高熔點(diǎn)高活性金屬材料的多功能熔鑄設(shè)備，其特征在于所述的坩堝(3)是石墨坩堝。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應(yīng)用于高熔點(diǎn)高活性金屬材料的多功能熔鑄設(shè)備，其特征在于所述的模殼(15)的材質(zhì)為氧化釔或氧化鋯。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應(yīng)用于高熔點(diǎn)高活性金屬材料的多功能熔鑄設(shè)備，其特征在于所述的等離子發(fā)射裝置(8)與真空室(1)之間設(shè)置有絕緣密封圈。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應(yīng)用于高熔點(diǎn)高活性金屬材料的多功能熔鑄設(shè)備，其特征在于所述的物料進(jìn)給裝置(4)與真空室(1)之間設(shè)置有絕緣密封圈。