技術(shù)特征：

1.一種鍍膜用磁性承載裝置，是用來(lái)承載至少一待鍍物，其特征在于：其包含：

一個(gè)基座，具有一個(gè)參考面；

一個(gè)導(dǎo)磁單元，設(shè)置于該基座的該參考面并具有多個(gè)沿一第一方向彼此間隔的凸柱；及

一個(gè)磁性單元，設(shè)置于該參考面；

其中，該導(dǎo)磁單元的各凸柱的一頂面的一高度是大于該磁性單元的一頂面的一高度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜用磁性承載裝置，其特征在于：該導(dǎo)磁單元還具有一個(gè)位于所述凸柱下的基部。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鍍膜用磁性承載裝置，其特征在于：各凸柱是于該參考面上呈一肋狀沿一實(shí)質(zhì)垂直于該第一方向的第二方向延伸。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的鍍膜用磁性承載裝置，其特征在于：該參考面是由該基座的一頂面所定義而成，且該導(dǎo)磁單元與該磁性單元是設(shè)置于該參考面上。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的鍍膜用磁性承載裝置，其特征在于：該磁性單元具有一對(duì)永久磁肋條，該對(duì)永久磁肋條是沿該第二方向延伸以分別位于所述凸柱的最外側(cè)的該兩凸柱外，該導(dǎo)磁單元的該基部于所述凸柱的最內(nèi)側(cè)相鄰?fù)怪g具有一個(gè)供放置該待鍍物的設(shè)置區(qū)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的鍍膜用磁性承載裝置，其特征在于：該導(dǎo)磁單元還具有一個(gè)圍壁，該圍壁圍繞該對(duì)永久磁肋條與該導(dǎo)磁單元的所述凸柱及該基部。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的鍍膜用磁性承載裝置，其特征在于：該基座具有一封閉容室及一位于該封閉容室外的頂面，該基座的該參考面是低于該基座的該頂面，該導(dǎo)磁單元與該磁性單元是以該參考面做為一界面，該導(dǎo)磁單元與該磁性單元是設(shè)置于該基座的該封閉容室內(nèi)，該導(dǎo)磁單元是位于該參考面上，且該磁性單元是位于該參考面下，該基座的該頂面具有一個(gè)供放置該待鍍物的設(shè)置區(qū)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的鍍膜用磁性承載裝置，其特征在于：該磁性單元具有多個(gè)永久磁肋條，所述永久磁肋條是沿該第二方向延伸以分別對(duì)應(yīng)設(shè)置于該導(dǎo)磁單元的所述凸柱下。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的鍍膜用磁性承載裝置，其特征在于：該導(dǎo)磁單元的相鄰?fù)怪g具有一第一間隙S₁，S₁介于0.5cm至5cm間；該磁性單元的相鄰永久磁肋條間具有一第二間隙S₂，S₂介于0.5cm至5cm間。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的鍍膜用磁性承載裝置，其特征在于：該導(dǎo)磁單元的各凸柱沿該第一方向具有一第一寬度W₁，W₁介于0.2cm至1cm間；該磁性單元的各永久磁肋條沿該第一方向具有一第二寬度W₂，W₂介于0.5cm至2cm間。