1.一種適用于HFCVD設(shè)備的溫度場補償裝置，所述的HFCVD設(shè)備包括密閉的反應(yīng)室，工作臺(9)，襯底(5)，試樣(6)和熱絲(4)，所述的工作臺(9)設(shè)置在反應(yīng)室內(nèi)，在工作臺(9)上放置所述襯底(5)，所述的熱絲(4)設(shè)置在工作臺(9)上，并懸于襯底(5)上方，所述的工作臺(9)內(nèi)還通循環(huán)冷卻水(7)，所述的反應(yīng)室上方還設(shè)有供反應(yīng)氣體通入的進氣口，其特征在于，所述的溫度場補償裝置包括設(shè)置在工作臺(9)上多塊熱反射板(2)，所述的反射板(2)相互連接成一體，并形成圍繞襯底(5)的反射蓋，在反射蓋的上部還開有供反應(yīng)氣體進出的通口。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于HFCVD設(shè)備的溫度場補償裝置，其特征在于，所述的反射板(2)的豎直截面分為兩部分，其中，下部豎直設(shè)置，上部呈弧形。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種適用于HFCVD設(shè)備的溫度場補償裝置，其特征在于，反射板(2)的豎直截面的弧形上部所對應(yīng)的圓心角的角度為120°。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于HFCVD設(shè)備的溫度場補償裝置，其特征在于，所述的反射板(2)為雙層設(shè)計，其中，內(nèi)層為耐熱鋼材層，外層為陶瓷材料層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種適用于HFCVD設(shè)備的溫度場補償裝置，其特征在于，所述的耐熱鋼材料的內(nèi)表面還打磨拋光至鏡面。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于HFCVD設(shè)備的溫度場補償裝置，其特征在于，在反應(yīng)室的進氣口處還布置有引流勻氣盤(1)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于HFCVD設(shè)備的溫度場補償裝置，其特征在于，所述的工作臺(9)在襯底(5)的四周還布置有支撐桿(3)，所述的反射板(2)的底部設(shè)有與支撐桿(3)匹配的安裝孔，利用支撐桿(3)插入安裝孔內(nèi)，使得反射板(2)固定在工作臺(9)上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于HFCVD設(shè)備的溫度場補償裝置，其特征在于，所述的反射板(2)設(shè)有四塊。