1.一種用于加工類金剛石涂層軸承的離子濺射鍍層機，其特征在于，包括真空室、離子源、真空泵、加熱器、離子中和器、移動鍍膜靶和旋轉(zhuǎn)基板支架；所述移動鍍膜靶、所述旋轉(zhuǎn)基板支架相對設(shè)置且均位于所述真空室內(nèi)，所述旋轉(zhuǎn)基板支架驅(qū)動待鍍層軸承旋轉(zhuǎn)運動且設(shè)置有用于固定所述待鍍層軸承的鍍膜夾具；所述移動鍍膜靶包括用于驅(qū)動靶材相對所述旋轉(zhuǎn)基板之間作往復(fù)運動的直線機構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于加工類金剛石涂層軸承的離子濺射鍍層機，其特征在于，所述移動鍍膜靶還包括用于放置靶材的靶材支架；所述靶材的兩側(cè)通過轉(zhuǎn)軸設(shè)置在所述靶材支架的一端，所述靶材支架的另一端與所述直線運動機構(gòu)連接。
3.一種基于權(quán)利要求1所述的離子濺射鍍層機的類金剛石涂層軸承加工方法，其特征在于，包括以下步驟：
使用離子源對相對所述旋轉(zhuǎn)基板作往復(fù)運動的由類金剛石材料制作而成的靶材進行轟擊，將從所述移動鍍膜靶濺射的靶材原子沉積在處于所述旋轉(zhuǎn)運動的所述待鍍層軸承表面形成涂層。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的類金剛石涂層軸承加工方法，其特征在于，所述使用離子源相對所述旋轉(zhuǎn)基板作往復(fù)運動的靶材進行轟擊之前，還包括利用射頻濺射儀對真空室進行預(yù)清洗。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的類金剛石涂層軸承加工方法，其特征在于，在所述使用離子源對相對所述旋轉(zhuǎn)基板作往復(fù)運動的由類金剛石材料制作而成的靶材進行轟擊時，所述真空室內(nèi)通入達到預(yù)設(shè)工作壓力的工作氣體，所述工作氣體包括氬氣、氪氣、氮氣、乙炔、甲烷、氫氣中的任一氣體。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的類金剛石涂層軸承加工方法，其特征在于，所述工作氣壓為6.0～8.0Pa。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的類金剛石涂層軸承加工方法，其特征在于，將從所述移動鍍膜靶濺射的靶材原子沉積在處于所述旋轉(zhuǎn)運動的所述待鍍層軸承表面的時間為14～17min。
8.一種基于權(quán)利要求3～7任意一項所述的類金剛石涂層軸承加工方法的類金剛石涂層軸承，其特征在于，類金剛石涂層軸承表面形成有所述涂層。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述類金剛石涂層軸承，其特征在于，所述類金剛石涂層軸承包括軸承本體；所述軸承本體包括軸承內(nèi)圈和軸承外圈，所述軸承內(nèi)圈和所述軸承外圈之間設(shè)置有滾動體；所述軸承內(nèi)圈與所述滾動體接觸面、所述軸承外圈與所述滾動體接觸面都設(shè)置有類金剛石涂層。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的類金剛石涂層軸承，其特征在于，所述金剛石涂層的厚度為0.5～0.8μm。