一種連續(xù)式等離子真空鍍膜裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本實(shí)用新型涉及鍍膜設(shè)備領(lǐng)域，具體是一種連續(xù)式等離子真空鍍膜裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]等離子全方位離子沉積技術(shù)，簡(jiǎn)稱為PIID技術(shù)，是等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積技術(shù)的一種，其原理是向鍍膜工件施加脈沖直流或者純直流，工件表面釋放電子與真空室內(nèi)的氣體發(fā)生碰撞，產(chǎn)生了等離子體，帶正電的離子和被激活的分子在工件表面成膜。利用PIID技術(shù)可以制備出類金剛石涂層，簡(jiǎn)稱DLC涂層；由于DLC涂層具有高硬度、低摩擦系數(shù)、耐磨耐腐蝕能等多種優(yōu)異的性能而被廣泛應(yīng)。
[0003]傳統(tǒng)的等離子鍍膜裝置，將工件置于鍍膜室內(nèi)后將鍍膜室內(nèi)空氣抽出形成真空后再充入Ar氣，利用電離子進(jìn)行鍍膜，往往需要進(jìn)行抽氣、充氣反復(fù)工作，所以能在最短時(shí)間將鍍膜室內(nèi)氣體抽出也是提高加工效率的重要因素，常規(guī)的鍍膜室抽真空管道在進(jìn)行抽真空工作時(shí)容易使得室內(nèi)形成空氣紊流，影響氣體排出速率;同時(shí)的，在進(jìn)行鍍膜時(shí)需要保證鍍膜室內(nèi)的高度密封。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本實(shí)用新型的目的在于提供一種連續(xù)式等離子真空鍍膜裝置，以解決上述【背景技術(shù)】中提出的問(wèn)題。
[0005]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:
[0006]—種連續(xù)式等離子真空鍍膜裝置，包括鍍膜室和真空管道，所述鍍膜室內(nèi)設(shè)有輸送帶，在鍍膜室頂面上沿輸送帶運(yùn)動(dòng)方向設(shè)置有若干離子罩，在輸送帶下方設(shè)有若干電弧濺射源，所述鍍膜室兩側(cè)分別設(shè)有第一隔離腔和第二隔離腔，在第一隔離腔與鍍膜室連接處和第二隔離腔與鍍膜室連接處分別設(shè)置有第一真空隔離閥和第二真空隔離閥，在第一隔離腔上方設(shè)有第一抽氣口，在第一隔離腔上相對(duì)第一真空隔離閥一側(cè)設(shè)有第一隔離腔門，在第二隔離腔上方設(shè)有第二抽氣口，在第二隔離腔上相對(duì)第二真空隔離閥一側(cè)設(shè)有第二隔離腔門，在第一隔離腔和第二隔離腔內(nèi)均設(shè)有磁控濺射源;在鍍膜室下方設(shè)有真空管道，所述真空管道主體呈?’形，包括第一抽氣管、第二抽氣管和聚合管道，所述第一抽氣管和第二抽氣管上端均設(shè)置有上端接口，所述上端接口固定在鍍膜室底面上使得第一抽氣管和第二抽氣管與鍍膜室內(nèi)部相連通，第一抽氣管和第二抽氣管下端彎折并與聚合管道上端密封對(duì)接，在聚合管道下端設(shè)置有下端接口。
[0007]作為本實(shí)用新型進(jìn)一步的方案:所述相鄰兩個(gè)離子罩之間的距離相同。
[0008]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是:本裝置通過(guò)將第一隔離腔、鍍膜室和第二隔離腔依次連接并形成三個(gè)獨(dú)立的真空腔體，保證在進(jìn)行電離子鍍膜時(shí)鍍膜室內(nèi)的密封性及真空程度，并通過(guò)在鍍膜室下方設(shè)置包括第一抽氣管、第二抽氣管和聚合管道的真空管道進(jìn)行鍍膜室內(nèi)空氣的抽真空工作，平滑空氣排出的路徑，避免鍍膜室內(nèi)部空氣產(chǎn)生紊流，提高鍍膜室內(nèi)部空氣排出的速度和效率。
【附圖說(shuō)明】
[0009]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]圖中1-鍍膜室，11-輸送帶，12-離子罩，13-電弧濺射源，2-第一隔離腔，21-第一抽氣口，22-第一隔離腔門，23-第一真空隔離閥，3-第二隔離腔，31-第二抽氣口，32-第二隔離腔門，33-第二真空隔離閥，4-磁控濺射源，5-真空管道，51-第一抽氣管，52-第二抽氣管，53-聚合管道，54-下端接口，55-上端接口。
【具體實(shí)施方式】
[0011]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0012]請(qǐng)參閱圖1，本實(shí)用新型實(shí)施例中，一種連續(xù)式等離子真空鍍膜裝置，包括鍍膜室1和真空管道5，所述鍍膜室1內(nèi)設(shè)有輸送帶11，在鍍膜室1頂面上沿輸送帶11運(yùn)動(dòng)方向設(shè)置有若干離子罩12，相鄰兩個(gè)離子罩12之間的距離相同，在輸送帶11下方設(shè)有若干電弧濺射源11，利用電弧濺射源11對(duì)輸送帶11上的工件進(jìn)行濺射鍍膜，離子罩12用于捕捉逃逸的離子，所述鍍膜室1兩側(cè)分別設(shè)有第一隔離腔2和第二隔離腔3，在第一隔離腔2與鍍膜室1連接處和第二隔離腔3與鍍膜室1連接處分別設(shè)置有第一真空隔離閥23和第二真空隔離閥33，從而使得第一隔離腔2、鍍膜室1和第二隔離腔3依次連接并形成三個(gè)獨(dú)立的真空腔體，在第一隔離腔2上方設(shè)有第一抽氣口 21，在第一隔離腔2上相對(duì)第一真空隔離閥23—側(cè)設(shè)有第一隔離腔門22，在第二隔離腔3上方設(shè)有第二抽氣口 31，在第二隔離腔3上相對(duì)第二真空隔離閥33一側(cè)設(shè)有第二隔離腔門32，在第一隔離腔2和第二隔離腔3內(nèi)均設(shè)有磁控濺射源4，工件在進(jìn)入鍍膜室1前和溢出鍍膜室1后，可以通過(guò)磁控濺射源4來(lái)進(jìn)行先后濺射鍍膜，方便進(jìn)行不同膜層的鍍膜或是進(jìn)行合金膜的鍍膜，從而滿足更多要求的鍍膜需求。
[0013]在鍍膜室1下方設(shè)有真空管道5，所述真空管道5主體呈?’形，包括第一抽氣管51、第二抽氣管52和聚合管道53，所述第一抽氣管51和第二抽氣管52上端均設(shè)置有上端接口55，所述上端接口 55固定在鍍膜室1底面上使得第一抽氣管51和第二抽氣管52與鍍膜室1內(nèi)部相連通，第一抽氣管51和第二抽氣管52下端彎折并與聚合管道53上端密封對(duì)接，在聚合管道53下端設(shè)置有用于連接抽真空機(jī)的下端接口 54，通過(guò)第一抽氣管51和第二抽氣管52同時(shí)對(duì)鍍膜室1內(nèi)進(jìn)行抽真空工作，平滑空氣排出的路徑，避免鍍膜室1內(nèi)部空氣產(chǎn)生紊流，提高鍍膜室1內(nèi)部空氣排出的速度和效率。
[0014]本實(shí)用新型的工作原理是:本裝置通過(guò)將第一隔離腔2、鍍膜室1和第二隔離腔3依次連接并形成三個(gè)獨(dú)立的真空腔體，保證在進(jìn)行電離子鍍膜時(shí)鍍膜室1內(nèi)的密封性及真空程度，并通過(guò)在鍍膜室1下方設(shè)置包括第一抽氣管51、第二抽氣管52和聚合管道53的真空管道5進(jìn)行鍍膜室1內(nèi)空氣的抽真空工作，平滑空氣排出的路徑，避免鍍膜室1內(nèi)部空氣產(chǎn)生紊流，提高鍍膜室1內(nèi)部空氣排出的速度和效率。
[0015]對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，顯然本實(shí)用新型不限于上述示范性實(shí)施例的細(xì)節(jié)，而且在不背離本實(shí)用新型的精神或基本特征的情況下，能夠以其他的具體形式實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型。因此，無(wú)論從哪一點(diǎn)來(lái)看，均應(yīng)將實(shí)施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本實(shí)用新型的范圍由所附權(quán)利要求而不是上述說(shuō)明限定，因此旨在將落在權(quán)利要求的等同要件的含義和范圍內(nèi)的所有變化囊括在本實(shí)用新型內(nèi)。不應(yīng)將權(quán)利要求中的任何附圖標(biāo)記視為限制所涉及的權(quán)利要求。
[0016]此外，應(yīng)當(dāng)理解，雖然本說(shuō)明書按照實(shí)施方式加以描述，但并非每個(gè)實(shí)施方式僅包含一個(gè)獨(dú)立的技術(shù)方案，說(shuō)明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見(jiàn)，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)將說(shuō)明書作為一個(gè)整體，各實(shí)施例中的技術(shù)方案也可以經(jīng)適當(dāng)組合，形成本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的其他實(shí)施方式。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種連續(xù)式等離子真空鍍膜裝置，包括鍍膜室和真空管道，其特征在于，所述鍍膜室內(nèi)設(shè)有輸送帶，在鍍膜室頂面上沿輸送帶運(yùn)動(dòng)方向設(shè)置有若干離子罩，在輸送帶下方設(shè)有若干電弧濺射源，所述鍍膜室兩側(cè)分別設(shè)有第一隔離腔和第二隔離腔，在第一隔離腔與鍍膜室連接處和第二隔離腔與鍍膜室連接處分別設(shè)置有第一真空隔離閥和第二真空隔離閥，在第一隔離腔上方設(shè)有第一抽氣口，在第一隔離腔上相對(duì)第一真空隔離閥一側(cè)設(shè)有第一隔離腔門，在第二隔離腔上方設(shè)有第二抽氣口，在第二隔離腔上相對(duì)第二真空隔離閥一側(cè)設(shè)有第二隔離腔門，在第一隔離腔和第二隔離腔內(nèi)均設(shè)有磁控濺射源;在鍍膜室下方設(shè)有真空管道，所述真空管道主體呈?’形，包括第一抽氣管、第二抽氣管和聚合管道，所述第一抽氣管和第二抽氣管上端均設(shè)置有上端接口，所述上端接口固定在鍍膜室底面上使得第一抽氣管和第二抽氣管與鍍膜室內(nèi)部相連通，第一抽氣管和第二抽氣管下端彎折并與聚合管道上端密封對(duì)接，在聚合管道下端設(shè)置有下端接口。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種連續(xù)式等離子真空鍍膜裝置，其特征在于，所述相鄰兩個(gè)離子罩之間的距離相同。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種連續(xù)式等離子真空鍍膜裝置，包括鍍膜室和真空管道，所述鍍膜室內(nèi)設(shè)有輸送帶，在鍍膜室頂面上沿輸送帶運(yùn)動(dòng)方向設(shè)置有若干離子罩，在輸送帶下方設(shè)有若干電弧濺射源，所述鍍膜室兩側(cè)分別設(shè)有第一隔離腔和第二隔離腔，在第一隔離腔與鍍膜室連接處和第二隔離腔與鍍膜室連接處分別設(shè)置有第一真空隔離閥和第二真空隔離閥，在第一隔離腔上方設(shè)有第一抽氣口，在第一隔離腔上相對(duì)第一真空隔離閥一側(cè)設(shè)有第一隔離腔門，在第二隔離腔上方設(shè)有第二抽氣口，本裝置通過(guò)將第一隔離腔、鍍膜室和第二隔離腔依次連接并形成三個(gè)獨(dú)立的真空腔體，保證在進(jìn)行電離子鍍膜時(shí)鍍膜室內(nèi)的密封性及真空程度。
【IPC分類】C23C16/513
【公開(kāi)號(hào)】CN205115597
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520848334
【發(fā)明人】柯文祥
【申請(qǐng)人】東莞市中創(chuàng)塑膠制品有限公司
【公開(kāi)日】2016年3月30日
【申請(qǐng)日】2015年10月30日