本發(fā)明涉及軸承加工領(lǐng)域，具體而言，涉及一種類金剛石涂層軸承及離子濺射鍍層機(jī)和軸承加工方法。

背景技術(shù)：

軸承是機(jī)械傳動(dòng)機(jī)構(gòu)中的支承件，它的質(zhì)量直接影響機(jī)械整機(jī)的工作性能。軸承在工作過(guò)程中承受壓力、剪力及疲勞沖擊摩擦等復(fù)雜受力。為了提高軸承的承載能力和惡劣環(huán)境下的機(jī)械性能，一致受到軸承工作者的重視。提高軸承疲勞性能的方法涉及材料、冶金、設(shè)計(jì)和加工能方面。隨著科技的進(jìn)步和各種新材料加工工藝的出現(xiàn)，不同類型的表面改性技術(shù)開(kāi)始引起人們的興趣。常見(jiàn)于軸承新能改善的表面改性方法有物理氣相沉積、高速氧火焰噴涂、離子注入、離子濺射等方法。目前較為常見(jiàn)的方法為離子注入和離子濺射法。

但是，通過(guò)離子注入法得到的改性層較薄，使一些重要部件比如航空發(fā)動(dòng)機(jī)主軸軸承經(jīng)受住高速、重載下長(zhǎng)期工作的考核，所以不適用于要求較高的軸承。

離子濺射形成保護(hù)涂層是改變金屬材料表面性能的新方法。離子濺射涂層是在部分真空的濺射室中輝光放電，產(chǎn)生正的氣體離子；在陰極(靶)和陽(yáng)極(試樣)間電壓的加速作用下，荷正電的離子轟擊陰極表面，使陰極表面材料原子化；形成的中性原子，從各個(gè)方向?yàn)R出，射落到試樣的表面，于是在試樣表面上形成一層均勻的涂層。通過(guò)離子濺射得到的薄膜均勻，并且具有良好的厚度，適合用于要求加高的軸承。

但目前階段，離子濺射主要用于實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行科研研究用，并未用于工業(yè)化生產(chǎn)。造成目前這種情況的技術(shù)難題在于，離子濺射對(duì)于濺射環(huán)境要求較高，對(duì)于濺射設(shè)備要求較高。并且在傳統(tǒng)的離子濺射作業(yè)中，涂層的沉積速率較低，使沉積產(chǎn)生不均勻的情況，使不同區(qū)域產(chǎn)生涂層厚度不同的情況，造成了軸承的無(wú)法使用。而在離子濺射沉積薄膜的過(guò)程中，影響涂層沉積速率的因素主要有離子源的束流、束壓、真空度和溫度。但是隨著實(shí)際生產(chǎn)的發(fā)現(xiàn)，離子濺射設(shè)備中靶材、基板和夾具的各種物理狀態(tài)，也是影響涂層沉積速率的一個(gè)不容忽視的原因。

目前在離子濺射實(shí)際生產(chǎn)中，離子源的束流、束壓、真空度和溫度都無(wú)法得到最優(yōu)的方案，造成了生產(chǎn)過(guò)程中軸承涂層的厚度具有差異性。

目前離子濺射設(shè)備中，靶材通常智能晃動(dòng)，無(wú)法在離子束轟擊的方向上做往復(fù)運(yùn)動(dòng)，所以濺射形成的有效涂層趨于有限?，F(xiàn)有的離子濺射還存在有效涂層面積小、膜厚均勻性不容易控制和涂層表面質(zhì)量差的缺陷。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種類金剛石涂層軸承，解決了軸承表面耐磨性和硬度不高的技術(shù)問(wèn)題；本發(fā)明還提供了一種軸承的加工方法，解決了傳統(tǒng)離子濺射法的有效鍍膜面積小、膜厚均勻性不容易控制和鍍膜表面質(zhì)量差的技術(shù)問(wèn)題，提供了一種鍍膜面積大、膜厚均勻性以控制的鍍膜表面質(zhì)量高的軸承。

本發(fā)明是這樣實(shí)現(xiàn)的：

一種用于加工類金剛石涂層軸承的離子濺射鍍層機(jī)，包括真空室、離子源、真空泵、加熱器、離子中和器、移動(dòng)鍍膜靶和旋轉(zhuǎn)基板支架。移動(dòng)鍍膜靶、旋轉(zhuǎn)基板支架相對(duì)設(shè)置且均位于真空室內(nèi)，旋轉(zhuǎn)基板支架驅(qū)動(dòng)待鍍層軸承旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)且設(shè)置有用于固定待鍍層軸承的鍍膜夾具；移動(dòng)鍍膜靶包括用于驅(qū)動(dòng)靶材相對(duì)旋轉(zhuǎn)基板之間作往復(fù)運(yùn)動(dòng)的直線機(jī)構(gòu)。

進(jìn)一步的，移動(dòng)鍍膜靶還包括用于放置靶材的靶材支架；所述靶材的兩側(cè)通過(guò)轉(zhuǎn)軸設(shè)置在所述靶材支架的一端，所述靶材支架的另一端與所述直線運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)連接。

一種利用離子濺射鍍層機(jī)的類金剛石涂層軸承加工方法，包括以下步驟：

使用離子源對(duì)相對(duì)旋轉(zhuǎn)基板作往復(fù)運(yùn)動(dòng)的由類金剛石材料制作而成的靶材進(jìn)行轟擊，將從移動(dòng)鍍膜靶濺射的靶材原子沉積在處于旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的待鍍層軸承表面形成涂層。

進(jìn)一步的，使用離子源相對(duì)旋轉(zhuǎn)基板作往復(fù)運(yùn)動(dòng)的靶材進(jìn)行轟擊之前，還包括利用射頻濺射儀對(duì)真空室進(jìn)行預(yù)清洗。

一種類金剛石涂層軸承加工方法，在使用離子源對(duì)相對(duì)旋轉(zhuǎn)基板作往復(fù)運(yùn)動(dòng)的由類金剛石材料制作而成的靶材進(jìn)行轟擊時(shí)，真空室內(nèi)通入達(dá)到預(yù)設(shè)工作壓力的工作氣體，工作氣體包括氬氣、氪氣、氮?dú)狻⒁胰?、甲烷、氫氣中的任一氣體。

進(jìn)一步的，工作氣壓為6.0～8.0Pa。

進(jìn)一步的，將從移動(dòng)鍍膜靶濺射的靶材原子沉積在處于旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的待鍍層軸承表面的時(shí)間為14～17min。

一種基于以上類金剛石涂層軸承加工方法的類金剛石涂層軸承表面形成有涂層。

進(jìn)一步的，類金剛石涂層軸承包括軸承本體。軸承本體包括軸承內(nèi)圈和軸承外圈，軸承內(nèi)圈和軸承外圈之間設(shè)置有滾動(dòng)體。軸承內(nèi)圈與滾動(dòng)體接觸面、軸承外圈與滾動(dòng)體接觸面都設(shè)置有類金剛石涂層。

進(jìn)一步的，金剛石涂層的厚度為0.5～0.8μm。

上述方案的有益效果：

本發(fā)明提供了一種類金剛石軸承，通過(guò)在軸承的表面鍍有類金剛石的涂層，增強(qiáng)了軸承內(nèi)圈和軸承外圈接觸面的表面硬度和耐磨性，使軸承的抗疲勞壽命得到了顯著的提高。

本發(fā)明還提供了一種加工類金剛石軸承的方法，實(shí)現(xiàn)了軸承表面涂層的均勻、涂層結(jié)構(gòu)致密，從而實(shí)現(xiàn)了軸承耐磨性和表面硬度的增強(qiáng)。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，應(yīng)當(dāng)理解，以下附圖僅示出了本發(fā)明的某些實(shí)施例，因此不應(yīng)被看作是對(duì)范圍的限定，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他相關(guān)的附圖。

圖1為本發(fā)明提供的軸承結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明提供的離子濺射裝置結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖標(biāo)記說(shuō)明：

圖標(biāo)：100-類金剛石涂層軸承；200-離子濺射裝置；110-軸承本體；111-軸承外圈；112-滾動(dòng)體；113-軸承內(nèi)圈；114-類金剛石涂層；201-真空室；202-離子源；203-真空泵；204-移動(dòng)鍍膜靶；205-加熱器；206-直線運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)；207-靶材；208-靶材支架；209-旋轉(zhuǎn)基板支架；210-鍍膜夾具；211-離子中和器。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方案進(jìn)行詳細(xì)描述，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員將會(huì)理解，下列實(shí)施例僅用于說(shuō)明本發(fā)明，而不應(yīng)視為限制本發(fā)明的范圍。實(shí)施例中未注明具體條件者，按照常規(guī)條件或制造商建議的條件進(jìn)行。所用試劑或儀器未注明生產(chǎn)廠商者，均為可以通過(guò)市售購(gòu)買(mǎi)獲得的常規(guī)產(chǎn)品。

以下針對(duì)本發(fā)明實(shí)施例提供的類金剛石涂層軸承100進(jìn)行具體說(shuō)明：

由圖1可知，類金剛石涂層軸承100包括軸承本體110，軸承本體110包括軸承內(nèi)圈113和軸承外圈111，軸承內(nèi)圈113和軸承外圈111之間設(shè)置有滾動(dòng)體112，軸承內(nèi)圈113與滾動(dòng)體112接觸面、軸承外圈111與滾動(dòng)體112接觸面都設(shè)置有類金剛石涂層114。類金剛石涂層的厚度為0.5～0.8μm，在本實(shí)施例中，類金剛石涂層114的厚度優(yōu)選為0.6μm。

由圖2可知，一種加工類金剛石涂層軸承100的離子濺射鍍膜機(jī)200，包括真空室201、離子源202、真空泵203、加熱器205、離子中和器211、移動(dòng)鍍膜靶204和旋轉(zhuǎn)基板支架209。

移動(dòng)鍍膜靶204設(shè)置在真空室201內(nèi)底部，旋轉(zhuǎn)基板支架209設(shè)置在移動(dòng)鍍膜支架上方，旋轉(zhuǎn)基板支架209設(shè)置有鍍膜夾具210。移動(dòng)鍍膜靶204包括直線運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)206、靶材支架208和靶材207。靶材207的兩側(cè)通過(guò)轉(zhuǎn)軸設(shè)置在靶材支架208的一端，靶材支架208的另一端與直線運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)206連接。

本實(shí)施例提供的離子濺射裝置200，通過(guò)設(shè)置有直線運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)206使靶材207相對(duì)離子束轟擊方向可以調(diào)整位置，增加了有效涂層的面積。通過(guò)設(shè)置有鍍膜夾具210可根據(jù)涂層均勻性調(diào)整其相對(duì)于靶材207的不同位置，使涂層均勻、應(yīng)力減小，涂層均勻性容易控制。

本實(shí)施例提供的離子濺射裝置200的工作原理如下：

將靶材207放置在靶材支架208上，把待涂層的軸承放置在鍍膜夾具210上，開(kāi)始進(jìn)行濺射工作前，先對(duì)真空室201進(jìn)行預(yù)清洗。清洗結(jié)束后，接通旋轉(zhuǎn)基板支架209使帶鍍層軸承旋轉(zhuǎn)，接通移動(dòng)鍍膜靶204使待鍍層軸承向離子中和器211方向移動(dòng)，接通離子中和器211轟擊待鍍層軸承表面，然后對(duì)移動(dòng)鍍膜靶204施加負(fù)電壓，產(chǎn)生輝光發(fā)電，接通離子源202產(chǎn)生離子轟擊靶材207表面，將靶材207原子從移動(dòng)鍍膜靶204表面濺射，沉積于待鍍層軸承表面，形成涂層。

類金剛石涂層軸承100加工方法，具體包括以下步驟：

(1)放靶材207，將壓制成型的類金剛石粉放置于靶材支架208，將待鍍層軸承放置在所述鍍膜夾具210上；

(2)預(yù)清洗，向真空室201內(nèi)通入氬氣并開(kāi)啟射頻濺射儀對(duì)真空室201進(jìn)行預(yù)清洗，射頻濺射儀為13.5MHz、2kW的射頻濺射儀；

(3)離子濺射沉積，對(duì)真空室201進(jìn)行抽真空至8×10^-5Pa，然后再通入氬氣、氪氣、氮?dú)?、乙炔、甲烷、氫氣中的任一氣體至6.0～8.0Pa，接通旋轉(zhuǎn)基板支架209使帶鍍層軸承旋轉(zhuǎn)，接通移動(dòng)鍍膜靶204使待鍍層軸承向離子中和器211方向移動(dòng)，接通離子中和器211轟擊待鍍層軸承表面14～17min，然后對(duì)移動(dòng)鍍膜靶204施加400～1000V的負(fù)電壓，產(chǎn)生輝光發(fā)電，接通離子源202產(chǎn)生離子轟擊靶材207表面，將靶材207原子從移動(dòng)鍍膜靶204表面濺射，沉積于待鍍層軸承表面；

(4)成涂層，待靶材207原子在待鍍層軸承表面堆積一段時(shí)間后，形成厚度為0.5～0.8μm的涂層，停止加工作業(yè)。

本實(shí)施例提供的離子濺射加工類金剛石軸承100的方法實(shí)現(xiàn)了軸承表面涂層的均勻、涂層結(jié)構(gòu)致密，從而實(shí)現(xiàn)了軸承耐磨性和表面硬度的增強(qiáng)，經(jīng)過(guò)被處理軸承內(nèi)圈113、軸承外圈111表面的最大納米硬度和彈性模量比未處理前軸承提高了270％和96％。

以下結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的類金剛石涂層軸承的加工方法作進(jìn)一步的詳細(xì)描述。

實(shí)施例一

參閱圖2，一種類金剛石涂層軸承的加工方法，具體包括以下步驟：

(1)放靶材207，將壓制成型的類金剛石粉放置于靶材207支架，將待鍍層軸承放置在所述鍍膜夾具210上；

(2)預(yù)清洗，向真空室201內(nèi)通入氬氣并開(kāi)啟射頻濺射儀對(duì)真空室201進(jìn)行預(yù)清洗，射頻參數(shù)為13.5MHz、2kW；

(3)離子濺射沉積，對(duì)真空室201進(jìn)行抽真空至8×10^-5Pa，然后再通入氬氣至6.0Pa，接通旋轉(zhuǎn)基板支架209使待鍍層軸承旋轉(zhuǎn)，接通移動(dòng)鍍膜靶204使待鍍層軸承向離子中和器211方向移動(dòng)，接通離子中和器211轟擊待鍍層軸承表面14min，然后對(duì)移動(dòng)鍍膜靶204施加400V的負(fù)電壓，產(chǎn)生輝光發(fā)電，接通離子源202產(chǎn)生離子轟擊靶材207表面，將靶材207原子從移動(dòng)鍍膜靶204表面濺射，沉積于待鍍層軸承表面；

(4)成涂層，待靶材207原子在待鍍層軸承表面堆積一段時(shí)間后，形成厚度為0.5μm的涂層，停止加工作業(yè)。

即得內(nèi)圈溝道接觸面和外圈溝道接觸面涂有類金剛石涂層的軸承。將得到的類金剛石涂層軸承進(jìn)行滾動(dòng)接觸疲勞壽命測(cè)試。

選用同批次的8套6308ETN1型軸承用于試驗(yàn)，套圈和鋼球材料均為GCr15，保持架材料為聚酰胺PA66-GF25.采用離子濺射工藝對(duì)其中4套軸承進(jìn)行離子濺射類金剛石表面處理，涂層位置為內(nèi)、外圈溝道，膜厚0.5μm。

將8套軸承逐一編號(hào)，其中1～4號(hào)為涂層軸承，5～8號(hào)為未涂層軸承。將涂層軸承和未涂層軸承交叉進(jìn)行兩兩分組，共分為四組。并將四組軸承先后轉(zhuǎn)入同一臺(tái)試驗(yàn)機(jī)進(jìn)行試驗(yàn)，安裝在不同的號(hào)位。試驗(yàn)時(shí)關(guān)閉試驗(yàn)機(jī)潤(rùn)滑油爐，軸承轉(zhuǎn)速為5000r/min，徑向荷載為2KN，連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)8h后用Taylor、圓度儀等檢測(cè)軸承內(nèi)、外溝道涂層前后的圓度、表面粗糙度和溝曲率半徑的變化，結(jié)果如表1所示。

表1涂層前后內(nèi)、外溝道圓度、表面粗糙度和溝曲率半徑對(duì)比。

從測(cè)試結(jié)果看，涂層前后的軸承的溝道圓度、溝曲率都有一定的變化，但變化并不大。軸承的表面粗糙度有降低，整體結(jié)果說(shuō)明離子濺射類金剛石表面處理對(duì)軸承硬度和耐磨損效果有提高。

實(shí)施例二

參閱圖2，一種類金剛石涂層軸承的加工方法，具體包括以下步驟：

(1)放靶材207，將壓制成型的類金剛石粉放置于靶材支架208，將待鍍層軸承放置在所述鍍膜夾具210上；

(2)預(yù)清洗，向真空室201內(nèi)通入氬氣并開(kāi)啟射頻濺射儀對(duì)真空室201進(jìn)行預(yù)清洗，射頻參數(shù)為13.5MHz、2kW；

(3)離子濺射沉積，對(duì)真空室201進(jìn)行抽真空至8×10^-5Pa，然后再通入氬氣至7.0Pa，接通旋轉(zhuǎn)基板支架209使待鍍層軸承旋轉(zhuǎn)，接通移動(dòng)鍍膜靶204使待鍍層軸承向離子中和器211方向移動(dòng)，接通離子中和器211轟擊待鍍層軸承表面15min，然后對(duì)移動(dòng)鍍膜靶204施加800V的負(fù)電壓，產(chǎn)生輝光發(fā)電，接通離子源202產(chǎn)生離子轟擊靶材207表面，將靶材207原子從移動(dòng)鍍膜靶204表面濺射，沉積于待鍍層軸承表面；

(4)成涂層，待靶材207原子在待鍍層軸承表面堆積一段時(shí)間后，形成厚度為0.6μm的涂層，停止加工作業(yè)。

即得內(nèi)圈溝道接觸面和外圈溝道接觸面涂有類金剛石涂層的軸承。將得到的類金剛石涂層軸承進(jìn)行滾動(dòng)接觸疲勞壽命測(cè)試。

選用同批次的8套7308/P4型軸承用于試驗(yàn)，套圈和鋼球材料均為GCr15，保持架材料為聚酰胺PA66-GF30.采用離子濺射工藝對(duì)其中4套軸承進(jìn)行離子濺射類金剛石表面處理，涂層位置為內(nèi)、外圈溝道，膜厚0.5μm。

將8套軸承逐一編號(hào)，其中1～4號(hào)為涂層軸承，5～8號(hào)為未涂層軸承。將涂層軸承和未涂層軸承交叉進(jìn)行兩兩分組，共分為四組。并將四組軸承先后轉(zhuǎn)入同一臺(tái)試驗(yàn)機(jī)進(jìn)行試驗(yàn)，安裝在不同的號(hào)位。試驗(yàn)時(shí)關(guān)閉試驗(yàn)機(jī)潤(rùn)滑油爐，軸承轉(zhuǎn)速為5000r/min，徑向荷載為2KN，連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)8h后用Taylor、圓度儀等檢測(cè)軸承內(nèi)、外溝道涂層前后的圓度、表面粗糙度和溝曲率半徑的變化，結(jié)果如表2所示。

表2涂層前后內(nèi)、外溝道圓度、表面粗糙度和溝曲率半徑對(duì)比。

從測(cè)試結(jié)果看，涂層前后的軸承的溝道圓度、溝曲率都有一定的變化，但變化并不大，說(shuō)明離子濺射類金剛石對(duì)軸承精度影響不大。軸承的表面粗糙度降低較為明顯，說(shuō)明離子濺射類金剛石表面處理對(duì)軸承硬度和耐磨損效果有提高。

實(shí)施例三

參與圖2，一種類金剛石涂層軸承的加工方法，具體包括以下步驟：

(1)放靶材207，將壓制成型的類金剛石粉放置于靶材支架208，將待鍍層軸承放置在所述鍍膜夾具210上；

(2)預(yù)清洗，向真空室201內(nèi)通入氬氣并開(kāi)啟射頻濺射儀對(duì)真空室201進(jìn)行預(yù)清洗，射頻參數(shù)為13.5MHz、2kW；

(3)離子濺射沉積，對(duì)真空室201進(jìn)行抽真空至8×10^-5Pa，然后再通入氬氣至8.0Pa，接通旋轉(zhuǎn)基板支架209使待鍍層軸承旋轉(zhuǎn)，接通移動(dòng)鍍膜靶204使待鍍層軸承向離子中和器211方向移動(dòng)，接通離子中和器211轟擊待鍍層軸承表面17min，然后對(duì)移動(dòng)鍍膜靶204施加1000V的負(fù)電壓，產(chǎn)生輝光發(fā)電，接通離子源202產(chǎn)生離子轟擊靶材207表面，將靶材207原子從移動(dòng)鍍膜靶204表面濺射，沉積于待鍍層軸承表面；

(4)成涂層，待靶材207原子在待鍍層軸承表面堆積一段時(shí)間后，形成厚度為0.8μm的涂層，停止加工作業(yè)。

即得內(nèi)圈溝道接觸面和外圈溝道接觸面涂有類金剛石涂層的軸承。將得到的類金剛石涂層軸承進(jìn)行滾動(dòng)接觸疲勞壽命測(cè)試。

選用同批次的8套7308/P4型軸承用于試驗(yàn)，套圈和鋼球材料均為GCr15，保持架材料為聚酰胺PA66-GF30.采用離子濺射工藝對(duì)其中4套軸承進(jìn)行離子濺射類金剛石表面處理，涂層位置為內(nèi)、外圈溝道，膜厚0.8μm。

將8套軸承逐一編號(hào)，其中1～4號(hào)為涂層軸承，5～8號(hào)為未涂層軸承。將涂層軸承和未涂層軸承交叉進(jìn)行兩兩分組，共分為四組。并將四組軸承先后轉(zhuǎn)入同一臺(tái)試驗(yàn)機(jī)進(jìn)行試驗(yàn)，安裝在不同的號(hào)位。試驗(yàn)時(shí)關(guān)閉試驗(yàn)機(jī)潤(rùn)滑油爐，軸承轉(zhuǎn)速為5000r/min，徑向荷載為2KN，連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)8h后用Taylor、圓度儀等檢測(cè)軸承內(nèi)、外溝道涂層前后的圓度、表面粗糙度和溝曲率半徑的變化，結(jié)果如表3所示。

表3涂層前后內(nèi)、外溝道圓度、表面粗糙度和溝曲率半徑對(duì)比。

從測(cè)試結(jié)果看，涂層前后的軸承的溝道圓度、溝曲率都有一定的變化，但變化并不大，說(shuō)明離子濺射類金剛石對(duì)軸承精度影響不大。軸承的表面粗糙度降低較為明顯，說(shuō)明離子濺射類金剛石表面處理對(duì)軸承硬度和耐磨損效果有提高。

綜上，由實(shí)施例一到實(shí)施例三可以看出，與實(shí)施例一和實(shí)施例三相比，實(shí)施例二中的表面粗糙度變化要到。說(shuō)明，使用實(shí)施例二中的技術(shù)方案產(chǎn)生得到的類金剛石涂層軸承的耐磨性能好。與實(shí)施例一和實(shí)施例三相比，實(shí)施例二中的溝道圓度、溝曲率的變化度最小，說(shuō)明使用實(shí)施例二的技術(shù)方案對(duì)軸承的精度影響最低。而實(shí)施例二是三個(gè)實(shí)施例中真空度、離子轟擊時(shí)間、涂層厚度和通電強(qiáng)度處于中間的技術(shù)方案，由此可以看出，在一定的范圍內(nèi)，離子轟擊時(shí)間、通電強(qiáng)度的提高會(huì)增加涂層厚度并提高軸承的耐磨度。也從側(cè)面證明本發(fā)明中的技術(shù)方案解決的技術(shù)問(wèn)題是突出的，實(shí)現(xiàn)的技術(shù)效果也是有效的。

盡管已用具體實(shí)施例來(lái)說(shuō)明和描述了本發(fā)明，然而應(yīng)意識(shí)到，在不背離本發(fā)明的精神和范圍的情況下可以作出許多其它的更改和修改。因此，這意味著在所附權(quán)利要求中包括屬于本發(fā)明范圍內(nèi)的所有這些變化和修改。