1.一種鎳溶液深度凈化除硅的方法，其特征在于：所述方法包括如下工藝步驟：
A溶液加熱：將富含鎳的溶液置于容器中，加熱至50~80℃；
B調(diào)節(jié)PH值：入適量堿性物質(zhì)，堿性物質(zhì)加入過(guò)程伴隨均勻攪拌，直到溶液PH值保持在4~6之間，具體數(shù)值根據(jù)溶液具體情況而定，當(dāng)溶液PH達(dá)到預(yù)定數(shù)值后，繼續(xù)攪拌一段時(shí)間，攪拌時(shí)間為1~10小時(shí)；所述堿性物質(zhì)為濃度100-400g/L的氫氧化鈉溶液、氫氧化鎳或濃度100-400g/L氫氧化鈉溶液與氫氧化鎳的混合物；
C反應(yīng)物分離：對(duì)經(jīng)過(guò)步驟B操作的物質(zhì)進(jìn)行固液分離，得到凈化后的鎳溶液以及氫氧化鎳渣；固液分離可以采用抽濾分離或壓濾分離；凈化后的鎳溶液硅含量小于0.005g/L。
2.根據(jù)權(quán)利1所述的一種鎳溶液深度凈化除硅的方法，其特征在于：所述C步驟得到的氫氧化鎳渣可用于B步驟中，所述氫氧化鎳渣可多次循環(huán)使用，首次產(chǎn)生的氫氧化鎳渣可多次循環(huán)使用3-4次。
3.根據(jù)權(quán)利1所述的一種鎳溶液深度凈化除硅的方法，其特征在于：本方法尤其適用于硫酸鎳、氯化鎳、硫酸鎳與氯化鎳的混合溶液硫酸鎳鈷溶液或硫酸鎳鈷與氯化鎳混合溶液，鎳總濃度為15~75g/L，硅含量為0.1~1g/L。