本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種子掩膜版的張網(wǎng)方法及掩膜版、基板、顯示裝置。

背景技術(shù)：

目前，蒸鍍工藝過程中多采用超精細掩膜版來將有機發(fā)光材料蒸鍍在基板的規(guī)定位置，超精細掩膜版的平坦度直接影響蒸鍍的效果，面板的分辨率越高，所需的超精細掩膜版越精細，進而，對超精細掩膜版的平坦度要求越高。

現(xiàn)有技術(shù)中，如圖1所示，超精細掩膜版都是由多個子掩膜版11拼接而成并分別固定在掩膜版框架12上。然而，若希望每個子掩膜版的平坦度較高，需要采用張網(wǎng)方式對每個子掩膜版進行拉伸處理，具體地，現(xiàn)有的子掩膜版張網(wǎng)方式中張網(wǎng)機夾持在子掩膜版的四個夾持區(qū)域，通過張網(wǎng)機的水平拉力來拉伸子掩膜版，并用激光將子掩膜版焊接在掩膜版框架上。如圖2所示，張網(wǎng)機與子掩膜版21四個邊角處的夾持區(qū)域A接觸，此接觸區(qū)域A即為子掩膜版21的受力區(qū)域，通過對子掩膜版21的受力分析可知，此時子掩膜版21主要受張網(wǎng)機的水平拉力F1以及對向水平拉力F2，拉力在子掩膜版21內(nèi)通過介質(zhì)材料的傳遞擴散，使得子掩膜版21的受力張緊。從圖2可以看出，子掩膜版的長邊左右兩側(cè)受力較大，對應(yīng)較大的形變，中間受力較小，對應(yīng)較小的形變，由于長邊延伸方向的受力而導(dǎo)致短邊延伸方向形變，甚至出現(xiàn)貫通整個子掩膜版的褶皺，嚴重影響子掩膜版的平坦度，從而對后續(xù)蒸鍍過程產(chǎn)生影響，降低產(chǎn)品良率。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明實施例提供一種子掩膜版的張網(wǎng)方法及掩膜版、基板、顯示裝置，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的采用現(xiàn)有張網(wǎng)方案而導(dǎo)致子掩膜版出現(xiàn)褶皺的問題。

本發(fā)明實施例采用以下技術(shù)方案：

一種子掩膜版的張網(wǎng)方法，所述方法包括：

張網(wǎng)機夾持位于待張網(wǎng)的子掩膜版四個邊角處的夾持區(qū)域，并在所述子掩膜版所在平面以預(yù)設(shè)拉力沿與所述子掩膜版的長邊延伸方向具有預(yù)設(shè)夾角的方向拉伸所述子掩膜版；

在所述子掩膜版的平坦度達到預(yù)設(shè)準(zhǔn)值時，將所述子掩膜版固定到所述掩膜版框架上，所述張網(wǎng)機停止拉伸。

可選地，在所述子掩膜版所在平面以預(yù)設(shè)拉力沿與所述子掩膜版的長邊延伸方向具有預(yù)設(shè)夾角的方向拉伸所述子掩膜版，具體包括：

在所述子掩膜版所在平面以預(yù)設(shè)拉力沿與所述子掩膜版的長邊延伸方向具有預(yù)設(shè)夾角的方向以所述子掩膜版的中心對稱拉伸所述子掩膜版。

可選地，在所述子掩膜版所在平面以預(yù)設(shè)拉力沿與所述子掩膜版的長邊延伸方向具有預(yù)設(shè)夾角的方向拉伸所述子掩膜版，具體包括：

針對至少兩個夾持區(qū)域，在所述子掩膜版所在平面以預(yù)設(shè)拉力沿與所述子掩膜版的長邊延伸方向具有預(yù)設(shè)夾角的方向以所述子掩膜版的中心所在軸線對稱拉伸所述子掩膜版。

可選地，所述預(yù)設(shè)拉力在所述子掩膜版的短邊延伸方向的分力隨著所述子掩膜版的尺寸之比值的減小而減?。?/p>

其中，所述子掩膜版的尺寸之比值為所述子掩膜版的短邊與長邊之比值。

可選地，在拉伸過程中，所述預(yù)設(shè)拉力在所述子掩膜版的短邊延伸方向的分力恒定。

可選地，所述張網(wǎng)機以預(yù)設(shè)拉力沿與所述子掩膜版的長邊延伸方向具有預(yù)設(shè)夾角的方向拉伸所述子掩膜版，具體包括：

所述張網(wǎng)機以變化的預(yù)設(shè)拉力沿著變化的預(yù)設(shè)夾角的方向拉伸所述子掩膜版；或者，

所述張網(wǎng)機以固定的預(yù)設(shè)拉力沿著固定的預(yù)設(shè)夾角的方向拉伸所述子掩膜版。

可選地，在拉伸過程中，所述預(yù)設(shè)拉力在所述子掩膜版的短邊延伸方向的分力逐漸減小。

可選地，所述張網(wǎng)機以預(yù)設(shè)拉力沿與所述子掩膜版的長邊延伸方向具有預(yù)設(shè)夾角的方向拉伸所述子掩膜版，具體包括：

所述張網(wǎng)機以固定的預(yù)設(shè)拉力沿著逐漸減小的預(yù)設(shè)夾角的方向拉伸所述子掩膜版，或者，

所述張網(wǎng)機以逐漸減小的預(yù)設(shè)拉力沿著固定的預(yù)設(shè)夾角的方向拉伸所述子掩膜版。

可選地，所述預(yù)設(shè)夾角的取值范圍為大于0°小于90°。

一種掩膜版，包括：掩膜版框架，以及固定在所述掩膜版框架上的多個子掩膜版，其中，所述子掩膜版利用所述的張網(wǎng)方法得到。

可選地，所述子掩膜版的材質(zhì)為金屬。

一種基板，利用所述的掩膜版制作而成。

一種顯示裝置，包括所述的基板。

本發(fā)明有益效果如下：

通過該方案，張網(wǎng)機夾持位于待張網(wǎng)的子掩膜版的四個邊角處的夾持區(qū)域，且在該子掩膜版所在平面以預(yù)設(shè)拉力沿與該子掩膜版的長邊延伸方向具有預(yù)設(shè)夾角的方向拉伸該子掩膜版，從而，保證子掩膜版的短邊延伸方向也具有分力，使得子掩膜版不僅在該子掩膜版的長邊延伸方向被拉伸，還在該子掩膜版的短邊延伸方向被拉伸，進而，減小子掩膜版的褶皺現(xiàn)象，提升子掩膜版的平坦度，且易實現(xiàn)。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡要介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的超精細掩膜版的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為現(xiàn)有技術(shù)中利用張網(wǎng)方式拉伸子掩膜版的原理示意圖；

圖3為本發(fā)明所涉及的子掩膜版的張網(wǎng)方法的流程圖；

圖4(a)-4(b)為本發(fā)明中利用張網(wǎng)方式拉伸子掩膜版的原理示意圖；

圖5為本發(fā)明任一夾持區(qū)域的受力分析示意圖。

具體實施方式

為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明作進一步地詳細描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

下面通過具體的實施例對本發(fā)明所涉及的技術(shù)方案進行詳細描述，本發(fā)明包括但并不限于以下實施例。

如圖3所示，為本發(fā)明所涉及的子掩膜版的張網(wǎng)方法的流程圖，該方法主要包括以下步驟：

步驟31：張網(wǎng)機夾持位于待張網(wǎng)的子掩膜版四個邊角處的夾持區(qū)域，并在所述子掩膜版所在平面以預(yù)設(shè)拉力沿與所述子掩膜版的長邊延伸方向具有預(yù)設(shè)夾角的方向拉伸所述子掩膜版；

步驟32：在所述子掩膜版平坦度達到預(yù)設(shè)準(zhǔn)值時，將所述子掩膜版固定到所述掩膜版框架上，所述張網(wǎng)機停止拉伸。

其中，平坦度的預(yù)設(shè)準(zhǔn)值可以根據(jù)經(jīng)驗值設(shè)定，而對于子掩膜版的平坦度，可實時進行監(jiān)測，即在施力過程中，通過傳感器實時獲取施力所造成的子掩膜版的表面的平坦度，分析比較是否達到預(yù)設(shè)準(zhǔn)值，若是，則說明子掩膜版的平坦度已經(jīng)達到飽和，下垂以及褶皺現(xiàn)象已經(jīng)被減小到最低，因此，可以通過激光將子掩膜版焊接固定到掩膜版框架上。隨后，按照現(xiàn)有的方式切割夾持區(qū)域，并進行修整。若否，則需要進一步執(zhí)行施力操作，直至平坦度達到預(yù)設(shè)準(zhǔn)值位置。

需要說明的是，本發(fā)明所涉及的張網(wǎng)機可以為現(xiàn)有技術(shù)中的張網(wǎng)機，而張網(wǎng)機用于夾持子掩膜版的四個夾持區(qū)域的夾持機構(gòu)，可以由能夠改變方向的轉(zhuǎn)軸控制，以實現(xiàn)預(yù)設(shè)拉力的方向的改變。

參照圖4(a)所示，張網(wǎng)機夾持位于待張網(wǎng)的子掩膜版41的四個邊角處的夾持區(qū)域A，且在該子掩膜版41所在平面以預(yù)設(shè)拉力F沿與該子掩膜版41的長邊延伸方向(X方向)具有預(yù)設(shè)夾角θ的方向拉伸該子掩膜版41，從而，保證子掩膜版41的短邊延伸方向(Y方向)也具有分力，使得子掩膜版41不僅在該子掩膜版41的長邊延伸方向被拉伸，還在該子掩膜版41的短邊延伸方向被拉伸，進而，減小子掩膜版41的褶皺現(xiàn)象，提升子掩膜版的平坦度。

在上述張網(wǎng)方案中，每個夾持區(qū)域的施力情況可以不同，然而，為了提升張網(wǎng)后的平坦度，可選地，步驟31具體執(zhí)行為：在子掩膜版所在平面以預(yù)設(shè)拉力沿與子掩膜版的長邊延伸方向具有預(yù)設(shè)夾角的方向以子掩膜版的中心對稱拉伸子掩膜版。其中，對稱拉伸是指每個夾持區(qū)域的預(yù)設(shè)拉力都相同，且預(yù)設(shè)夾角也相同。其實，考慮到精細掩膜版的類型，其厚度相對輕薄，在拉伸過程中，對稱拉伸能夠更好的保證張網(wǎng)實現(xiàn)，且避免出現(xiàn)不均勻拉伸而導(dǎo)致的斷裂等問題。

此外，步驟31還可以執(zhí)行為：針對至少兩個夾持區(qū)域，在子掩膜版所在平面以預(yù)設(shè)拉力沿與子掩膜版的長邊延伸方向具有預(yù)設(shè)夾角的方向以子掩膜版的中心所在軸線對稱拉伸子掩膜版。例如，參照圖4(b)所示，僅對子掩膜版的左邊兩個夾持區(qū)域進行具有預(yù)設(shè)夾角的拉伸操作，且以子掩膜版的中心所在軸線M對稱拉伸，而右邊兩個夾持區(qū)域按照現(xiàn)有技術(shù)進行拉伸?；蛘?，僅對子掩膜版的上邊兩個夾持區(qū)域進行具有預(yù)設(shè)夾角的拉伸操作，且以子掩膜版的中心所在軸線(Y方向軸線)對稱拉伸，而下邊兩個夾持區(qū)域按照現(xiàn)有技術(shù)進行拉伸?？紤]到子掩膜版的厚度較薄，因此，可合理設(shè)置預(yù)設(shè)拉力大小以避免子掩膜版在拉伸過程中發(fā)生斷裂。

另外，考慮到不同精細掩膜版的尺寸不同，其涵蓋的子掩膜版的尺寸也不相同。因此，可選地，預(yù)設(shè)拉力在子掩膜版的短邊延伸方向的分力隨著子掩膜版的尺寸之比值的減小而減??；其中，子掩膜版的尺寸之比值為子掩膜版的短邊與長邊之比值。舉例說明，針對短邊與長邊之比為1/5的子掩膜版，在夾持區(qū)域施加的較為合適的預(yù)設(shè)拉力在子掩膜版的短邊延伸方向的分力為f1；針對短邊與長邊之比為1/6的子掩膜版，在夾持區(qū)域施加的較為合適的預(yù)設(shè)拉力在子掩膜版的短邊延伸方向的分力為f1*4/5。或者，針對短邊與長邊之比為1/5的子掩膜版，在夾持區(qū)域施加的較為合適的預(yù)設(shè)拉力在子掩膜版的短邊延伸方向的分力為f1；針對短邊與長邊之比為1/6的子掩膜版，在夾持區(qū)域施加的較為合適的預(yù)設(shè)拉力在子掩膜版的短邊延伸方向的分力為f1*5/6。其中，這里列舉的數(shù)值僅是為了示意，其具體的比例關(guān)系需要根據(jù)子掩膜版實際的尺寸以及材質(zhì)來確定。

在本發(fā)明實施例中，通過上述方案可知，只要是至少一個夾持區(qū)域的預(yù)設(shè)拉力在子掩膜版的短邊延伸方向有分力，即可改善子掩膜版在張網(wǎng)過程中產(chǎn)生的褶皺問題。優(yōu)選地，可以使得四個夾持區(qū)域的預(yù)設(shè)拉力都在子掩膜版的短邊延伸方向產(chǎn)生分力，這樣，可更為有效的提升改善效果。具體地，實現(xiàn)的方式較為靈活，可以為：張網(wǎng)機以不變的預(yù)設(shè)拉力沿著變化的預(yù)設(shè)夾角拉伸子掩膜版，或者，張網(wǎng)機以變化的預(yù)設(shè)拉力沿著不變的預(yù)設(shè)夾角拉伸子掩膜版，或者，張網(wǎng)機以變化的預(yù)設(shè)拉力沿著變化的預(yù)設(shè)夾角拉伸子掩膜版，或者，張網(wǎng)機以不變的預(yù)設(shè)拉力沿著不變的預(yù)設(shè)夾角拉伸子掩膜版。其中，預(yù)設(shè)拉力的不變或者變化均指預(yù)設(shè)拉力的大??；而且，張網(wǎng)機的預(yù)設(shè)拉力可以預(yù)先設(shè)定一個起始值，變化的預(yù)設(shè)拉力在該起始值下開始變大或變??；預(yù)設(shè)夾角類似，也可以預(yù)先設(shè)定一個起始值。

一種較佳的實現(xiàn)方案，無論是不對稱拉伸還是對稱拉伸，在拉伸過程中，預(yù)設(shè)拉力在子掩膜版的短邊延伸方向的分力恒定。從而，保證拉伸平穩(wěn)性。

具體地，若希望預(yù)設(shè)拉力在子掩膜版的短邊延伸方向的分力恒定，則可以通過以下兩種方式實現(xiàn)：

方式一：張網(wǎng)機以變化的預(yù)設(shè)拉力沿著變化的預(yù)設(shè)夾角的方向拉伸子掩膜版。

具體地，參照如圖5所示的任一夾持區(qū)域的受力分析示意圖，張網(wǎng)機控制其施加的預(yù)設(shè)拉力F的大小，其變化趨勢可以為逐漸變大，或，逐漸變小，或不規(guī)則變化；相應(yīng)的，預(yù)設(shè)拉力F與子掩膜版的長邊延伸方向的預(yù)設(shè)夾角θ需要與預(yù)設(shè)拉力F相互配合，以保證預(yù)設(shè)拉力F在子掩膜版的短邊延伸方向的分力fy恒定。其實，可以存在以下公式：

預(yù)設(shè)拉力F在子掩膜版的短邊延伸方向的分力：fy＝F*sinθ；

預(yù)設(shè)拉力F在子掩膜版的長邊延伸方向的分力：fx＝F*cosθ。

在本申請中，對于分力fx并不關(guān)心，其大小可以恒定，也可以不恒定，并不會影響改善短邊延伸方向出現(xiàn)的褶皺現(xiàn)象。因而，對于fy＝F*sinθ而言，若希望fy恒定，F(xiàn)與sinθ成反比，在方式一中，由于預(yù)設(shè)拉力與預(yù)設(shè)夾角都是變化的，且考慮到兩者之間的反比關(guān)系，因此，F(xiàn)與sinθ始終相互配合變化，例如，若預(yù)設(shè)拉力由F變?yōu)镕/2，則預(yù)設(shè)夾角的正弦值變?yōu)?sinθ。另外，由于預(yù)設(shè)拉力以及預(yù)設(shè)夾角可以隨機定義初始值，因此，需要注意的是，在這種情況下，則必須確定一基準(zhǔn)參數(shù)，例如，可以先設(shè)定預(yù)設(shè)拉力為某一初始值，那么，預(yù)設(shè)夾角的初始值就可以根據(jù)預(yù)設(shè)拉力選取的初始值進行選取。

通過該方式一，可實現(xiàn)多種方式的張網(wǎng)施力方式，提升張網(wǎng)方案的靈活性，同時，減小了張網(wǎng)后子掩膜版的褶皺問題，提升子掩膜版的平坦度。

方式二：張網(wǎng)機以固定的預(yù)設(shè)拉力沿著固定的預(yù)設(shè)夾角的方向拉伸子掩膜版。

如圖5所示，對于fy＝F*sinθ而言，若希望fy恒定，F(xiàn)與sinθ成反比，在方式二中，由于預(yù)設(shè)拉力與預(yù)設(shè)夾角都是固定不變的，且考慮到兩者之間的反比關(guān)系，因此，F(xiàn)與sinθ始終相互配合變化，例如，若確定預(yù)設(shè)拉力為F/2，則預(yù)設(shè)夾角的正弦值選取為2sinθ，且在整個張網(wǎng)過程中不改變預(yù)設(shè)拉力的大小及方向。但是，針對不同的子掩膜版所進行張網(wǎng)時施加的預(yù)設(shè)拉力可以不同，但是，一旦張網(wǎng)所進行的拉伸操作開始，預(yù)設(shè)拉力以及預(yù)設(shè)夾角就不會變化。

該方式二所涉及的張網(wǎng)方式較為簡單，且易實現(xiàn)子掩膜版的張網(wǎng)的量產(chǎn)，同時，減小了張網(wǎng)后子掩膜版的褶皺問題，提升子掩膜版的平坦度。

另一種較佳的實現(xiàn)方案，在拉伸過程中，預(yù)設(shè)拉力在子掩膜版的短邊延伸方向的分力逐漸減小。其實，考慮到拉伸過程是一個逐漸趨于完成的過程，因此，拉伸所需的預(yù)設(shè)拉力應(yīng)在該過程中逐漸減小，才符合拉伸規(guī)律，而且，由于子掩膜版逐漸變薄，后面拉伸所需的預(yù)設(shè)拉力在子掩膜版的短邊延伸方向的分力可根據(jù)平坦度的提升而逐漸減小，從而，避免拉伸過度而導(dǎo)致子掩膜版斷裂。

具體地，仍參照公式fy＝F*sinθ，若希望預(yù)設(shè)拉力在子掩膜版的短邊延伸方向的分力逐漸減小，則可以通過以下兩種方式實現(xiàn)：

方式三：張網(wǎng)機以固定的預(yù)設(shè)拉力沿著逐漸減小的預(yù)設(shè)夾角的方向拉伸子掩膜版。

參照圖5所示，張網(wǎng)機施加的預(yù)設(shè)拉力的大小不變，仍以預(yù)設(shè)拉力大小是F為例；初始時的預(yù)設(shè)夾角可以在取值范圍內(nèi)任意設(shè)置，例如，可以設(shè)置初始預(yù)設(shè)夾角θ為60°，該預(yù)設(shè)夾角以相同步長或不同步長逐漸減小。從而，有利用于尋找預(yù)設(shè)夾角與子掩膜版之間的關(guān)系，簡化操作及設(shè)備結(jié)構(gòu)，降低張網(wǎng)成本。另外，該方案保證子掩膜版的短邊方向的拉伸均勻減小至消失，避免子掩膜版斷裂。

方式四：張網(wǎng)機以逐漸減小的預(yù)設(shè)拉力沿著固定的預(yù)設(shè)夾角的方向拉伸子掩膜版。

參照圖5所示，張網(wǎng)機施加的預(yù)設(shè)拉力的大小以相同步長或不同步長逐漸減??；預(yù)設(shè)夾角則不發(fā)生變化。例如，可以通過經(jīng)驗值或隨機設(shè)定預(yù)設(shè)夾角為一個固定角度θ，預(yù)設(shè)拉力則由F開始減小。該方式四保證子掩膜版的長邊以及短邊兩個方向的拉伸都均勻的減小至消失，進而，避免子掩膜版在拉伸已經(jīng)較為充分的情況下由于繼續(xù)增大拉伸力而發(fā)生斷裂。

可選地，考慮到需要在子掩膜版的短邊延伸方向產(chǎn)生分力，因此，預(yù)設(shè)夾角的取值范圍為大于0°小于90°。需要說明的是，此處的預(yù)設(shè)夾角均指銳角，不考慮長邊延伸的左右兩個方向，僅考慮與長邊具有銳角形式的預(yù)設(shè)夾角。

此外，本發(fā)明實施例還提供了一種掩膜版，該掩膜版主要包括：掩膜版框架，以及固定在掩膜版框架上的多個子掩膜版，其中，子掩膜版利用上述任一種張網(wǎng)方法得到。

可選地，考慮到蒸鍍所需的精細掩膜版多采用延展性較好的金屬，因此，本發(fā)明所涉及的子掩膜版的材質(zhì)為金屬。

另外，還提供了一種面板，該面板利用上述所提供的掩膜版制作而成。可選地，該面板為OLED顯示面板。

由于上述掩膜版在張網(wǎng)過程中采用了預(yù)設(shè)夾角的張網(wǎng)方式，使得在子掩膜版的短邊延伸方向也存在分力，從而，減小了子掩膜版的褶皺現(xiàn)象，提升了掩膜版的平坦度，進而，保證利用該掩膜版制作而成的面板的各個膜層的蒸鍍品質(zhì)。

盡管已描述了本發(fā)明的優(yōu)選實施例，但本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員一旦得知了基本創(chuàng)造性概念，則可對這些實施例作出另外的變更和修改。所以，所附權(quán)利要求意欲解釋為包括優(yōu)選實施例以及落入本發(fā)明范圍的所有變更和修改。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。