本發(fā)明的一實(shí)施例涉及一種沉積用掩模制造裝置及利用該裝置的沉積用掩模制造方法。

背景技術(shù)：

目前普遍使用以移動性為基礎(chǔ)的電子設(shè)備。作為移動型電子設(shè)備，除移動電話等小型電子設(shè)備以外，近年來廣泛使用平板電腦。

為了支持各種功能且為了給用戶提供圖像或影像等視覺信息，這種移動型電子設(shè)備包括顯示部。最近，隨著用于驅(qū)動顯示部的其他器件的小型化，呈現(xiàn)出顯示部在電子設(shè)備中所占的比重逐漸增加的趨勢，并且還開發(fā)能夠從平整的狀態(tài)以規(guī)定的角度彎曲的結(jié)構(gòu)。

為了形成如上所述的顯示部，可通過各種方法來形成各層。此時，形成各層的方法可以是沉積方法和光掩模工序等。

在如上所述的沉積方法中，就通過使沉積物質(zhì)氣化之后進(jìn)行噴射從而進(jìn)行沉積的工序而言，沉積源一般被配置于下部，并且在沉積源的上方配置掩模，在掩模的上方配置基板，從而能夠使經(jīng)過掩模的沉積物質(zhì)沉積在基板上。此時，掩模與基板之間的位置能夠決定沉積在基板上的沉積物質(zhì)圖案的精細(xì)度。特別是，如上所述的沉積物質(zhì)圖案對顯示部的分辨率和性能來說是相當(dāng)重要的問題，能夠決定產(chǎn)品的質(zhì)量。因此，為了提高如上所述的沉積物質(zhì)圖案的精細(xì)度，應(yīng)用各種裝置及方法。

前述的背景技術(shù)是發(fā)明者為了推導(dǎo)出本發(fā)明而持有的、或者在本發(fā)明的推導(dǎo)過程中掌握的技術(shù)信息，不能說是這些技術(shù)一定是本發(fā)明的申請之前已向一般公眾公開的公知技術(shù)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的實(shí)施例提供一種沉積用掩模制造裝置及利用該裝置的沉積用掩模制造方法。

本發(fā)明的一實(shí)施例公開一種沉積用掩模制造裝置，該裝置利用激光在配置于載物 臺的掩模母材上加工圖案孔，并且包括：激光振蕩部，振蕩出激光；分光部，使從激光振蕩部振蕩出的激光分為多個激光束；掃描器，調(diào)節(jié)經(jīng)過分光部的多個激光束的照射方向；和光學(xué)鏡，配置于掃描器與掩模母材之間，以使經(jīng)過掃描器的多個激光束的至少一部分透射。

在本實(shí)施例中，可進(jìn)一步包括靜電吸盤(Electrostatic chuck)，所述靜電吸盤配置于用于支撐掩模母材的載物臺與掩模母材之間且用于吸附掩模母材。

在本實(shí)施例中，可進(jìn)一步包括：攝像部，用于監(jiān)測(monitoring)光學(xué)鏡和掩模母材的位置；和驅(qū)動部，通過使光學(xué)鏡和掩模母材中的至少一個移動，對光學(xué)鏡和掩模母材的位置進(jìn)行對齊。

本實(shí)施例可具有如下特征：在光學(xué)鏡上形成有第一標(biāo)記，在掩模母材上形成有第二標(biāo)記，所述第二標(biāo)記被形成為與第一標(biāo)記的形狀相對應(yīng)，驅(qū)動部通過使光學(xué)鏡和掩模母材中的至少一個移動，對第一標(biāo)記和第二標(biāo)記的位置進(jìn)行對齊。

本實(shí)施例可具有如下特征：經(jīng)過掃描器的多個激光束基本上垂直于掩模母材而照射。

在本實(shí)施例中，光學(xué)鏡可包括：透射層，用于使多個激光束中的一部分透射；和反射層，用于使多個激光束中的一部分反射，反射層可包括與圖案孔的形狀相對應(yīng)形成的開口部。

在本實(shí)施例中，透射層可包括石英(quartz)和玻璃(glass)中的至少一個。

在本實(shí)施例中，反射層可包括不透明金屬。

本實(shí)施例可具有如下特征：開口部的曲率半徑(the radius of curvature)小于多個激光束的半徑。

本發(fā)明的另一實(shí)施例公開一種沉積用掩模制造方法，該方法包括以下步驟：在載物臺與分光部之間配置掩模母材，所述分光部用于使從激光振蕩部振蕩出的激光分為多個激光束；在掩模母材與分光部之間配置光學(xué)鏡，所述光學(xué)鏡用于使多個激光束中的至少一部分透射；以及通過掃描器向由光學(xué)鏡露出的掩模母材的一部分照射多個激光束，從而在掩模母材上加工圖案孔，所述掃描器用于調(diào)節(jié)經(jīng)過分光部的多個激光束的照射方向。

在本實(shí)施例中，在掩模母材與分光部之間配置光學(xué)鏡的步驟可包括以下步驟：對形成在光學(xué)鏡的第一標(biāo)記和形成在掩模母材的第二標(biāo)記的位置進(jìn)行對齊。

本實(shí)施例可具有如下特征：圖案孔以逐漸變細(xì)(taper)的方式形成。

在本實(shí)施例中，可進(jìn)一步包括靜電吸盤(Electrostatic chuck)，所述靜電吸盤配置于用于支撐掩模母材的載物臺與掩模母材之間且用于吸附掩模母材。

在本實(shí)施例中，可進(jìn)一步包括：攝像部，用于監(jiān)測(monitoring)光學(xué)鏡和掩模母材的位置；和驅(qū)動部，通過使光學(xué)鏡和掩模母材中的至少一個移動，對光學(xué)鏡和掩模母材的位置進(jìn)行對齊。

本實(shí)施例可具有如下特征：在光學(xué)鏡上形成有第一標(biāo)記，在掩模母材上形成有第二標(biāo)記，所述第二標(biāo)記被形成為與第一標(biāo)記的形狀相對應(yīng)，驅(qū)動部通過使光學(xué)鏡和掩模母材中的至少一個移動，對第一標(biāo)記和第二標(biāo)記的位置進(jìn)行對齊。

本實(shí)施例可具有如下特征：經(jīng)過分光部的多個激光束基本上垂直于掩模母材而照射。

在本實(shí)施例中，光學(xué)鏡可包括：透射層，用于使多個激光束中的一部分透射；和反射層，用于使多個激光束中的一部分反射，反射層包括與圖案孔的形狀相對應(yīng)形成的開口部。

在本實(shí)施例中，透射層可包括石英(quartz)和玻璃(glass)中的至少一個。

在本實(shí)施例中，反射層可包括不透明金屬。

本實(shí)施例可具有如下特征：開口部的曲率半徑(the radius of curvature)小于多個激光束的半徑。

除前述內(nèi)容之外的其他方面、特征及優(yōu)點(diǎn)，可通過以下的附圖、權(quán)利要求書及發(fā)明的詳細(xì)說明更加明確。

根據(jù)如上構(gòu)成的本發(fā)明的一實(shí)施例，能夠?qū)崿F(xiàn)沉積用掩模制造裝置及利用該裝置的沉積用掩模制造方法，該裝置及方法能夠精細(xì)地加工形成在沉積用掩模上且使沉積物質(zhì)經(jīng)過的圖案孔。

附圖說明

圖1是概略地表示本發(fā)明的一實(shí)施例的沉積用掩模制造裝置的整體結(jié)構(gòu)的示意圖。

圖2是剖切并放大表示圖1中B區(qū)域的A-A’部分的放大剖視圖。

圖3是放大表示圖1中B區(qū)域的放大立體圖。

圖4是放大表示圖3中C區(qū)域的放大俯視圖。

圖5是表示圖3所示光學(xué)鏡的另一變形例的放大立體圖。

具體實(shí)施方式

本發(fā)明可進(jìn)行多種變更，并且可具有多種實(shí)施例，在附圖中示意地表示特定實(shí)施 例，并在以下具體實(shí)施方式中進(jìn)行詳細(xì)說明。若參照結(jié)合附圖而詳細(xì)后述的實(shí)施例，則會明確本發(fā)明的效果、特征以及實(shí)現(xiàn)這些的方法。但是，本發(fā)明并不限定于以下所公開的實(shí)施例，而是能夠以多種方式實(shí)現(xiàn)。

在下面的實(shí)施例中，第一、第二等用語并不是限定性含義，而是為了將一個結(jié)構(gòu)部件與其他結(jié)構(gòu)部件區(qū)別的目的來使用。關(guān)于單數(shù)形式的表述，若在文章中的含義不是明確地表示其他含義，則該單數(shù)形式的表述也包括復(fù)數(shù)形式的含義。此外，“包括”或“具有”等用語意味著說明書所記載的特征或結(jié)構(gòu)要素的存在，并不是用來事先排除一個以上的其他特征或結(jié)構(gòu)要素附加的可能性。

此外，在附圖中為了方便說明，可能會夸大或縮小結(jié)構(gòu)要素的尺寸。例如，為了方便說明，任意表示圖中所示的各結(jié)構(gòu)的尺寸及厚度，因此本發(fā)明并不是必須限定于圖示的內(nèi)容。在某種實(shí)施例可由不同方式實(shí)現(xiàn)的情況下，還可以與所說明的順序不同地執(zhí)行特定的工藝順序。例如，連續(xù)說明的兩個工序可以基本上同時執(zhí)行，并且還可以以與所說明的順序相反的順序進(jìn)行。

下面，參照附圖，對本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說明，當(dāng)參照附圖進(jìn)行說明時，相同或相應(yīng)的結(jié)構(gòu)要素使用相同的附圖標(biāo)記，并且省略對該結(jié)構(gòu)要素的重復(fù)說明。

圖1是概略地表示本發(fā)明的一實(shí)施例的沉積用掩模制造裝置的整體結(jié)構(gòu)的示意圖。

參照圖1，沉積用掩模制造裝置10包括激光振蕩部100、分光部200、掃描器300和光學(xué)鏡400。

激光振蕩部100振蕩出激光L，所述激光L為用于在后述的掩模母材50上加工圖案孔55的能源。

分光部200能夠使從激光振蕩部100振蕩出的激光L分為多個激光束(參照圖2的LB)。如此被分的多個激光束LB中的每一個用于加工后述的圖案孔55。詳細(xì)地，各個激光束LB中的一部分被后述的光學(xué)鏡400反射，另一部分則照射到掩模母材50上而加工圖案孔55。另外，經(jīng)過分光部200的多個激光束LB可以基本上垂直于掩模母材50而照射。

掃描器300能夠調(diào)節(jié)經(jīng)過分光部200的多個激光束LB的照射方向。雖然在后面詳述，在通過使激光束LB照射到掩模母材50而加工圖案孔55的工序中，掩模母材50被固定于載物臺25。因此，為了加工圖案孔55，掃描器300使激光束LB對掩模母材50的照射位置在相當(dāng)于圖案孔55的大小的半徑內(nèi)移動，從而起到在固定于載物臺25的掩模母材50上精細(xì)地加工圖案孔55的作用。

光學(xué)鏡400被配置于掃描器300與掩模母材50之間，能夠使經(jīng)過掃描器300的多 個激光束LB中的一部分透射。光學(xué)鏡400可包括：透射層410，用于使多個激光束LB中的一部分透射；和反射層420，用于使多個激光束LB中的一部分反射。

另外，本發(fā)明的一實(shí)施例的沉積用掩模制造裝置10可進(jìn)一步包括用于吸附掩模母材50的靜電吸盤(electroatatic chuck)30。如圖1所示，靜電吸盤30可填埋到用于支撐掩模母材50的載物臺25中，但并不限定于此，還可以作為其他部件配置于載物臺25和掩模母材50之間。

詳細(xì)地，靜電吸盤30起到以下作用：吸附掩模母材50，從而在掩模母材50上加工圖案孔55的工序中固定掩模母材50，以避免掩模母材50在載物臺25上移動。

此外，為了向掩模母材50上需要加工圖案孔55的位置精確地照射激光束LB，需要精確地對齊光學(xué)鏡400和掩模母材50。

為此，沉積用掩模制造裝置10可進(jìn)一步包括：攝像部(未圖示)，用于監(jiān)測(monitoring)光學(xué)鏡400和掩模母材50的位置；和驅(qū)動部(未圖示)，通過使光學(xué)鏡400和掩模母材50中的任一個移動，對光學(xué)鏡400和掩模母材50的位置進(jìn)行對齊。

雖然未圖示攝像部，但攝像部配置于用于收容沉積用掩模制造裝置10的腔室(未圖示)內(nèi)，并可設(shè)置在能夠監(jiān)測光學(xué)鏡400和掩模母材50彼此之間的位置的任何位置。此外，驅(qū)動部可連接于掩模母材50以便能夠?qū)⒀谀Ｄ覆?0運(yùn)入腔室內(nèi)，并且還可以通過連接于光學(xué)鏡400而使光學(xué)鏡400相對于掩模母材50移動。

下面，參照圖2至圖4，對光學(xué)鏡400的透射層410和反射層420進(jìn)行詳細(xì)說明。

圖2是剖切并放大表示圖1中B區(qū)域的A-A’部分的放大剖視圖，圖3是放大表示圖1中B區(qū)域的放大立體圖，圖4是放大表示圖3中C區(qū)域的放大俯視圖。

光學(xué)鏡400一般通過光刻(photolithography)工序來制造。例如，光刻工序?yàn)槿缦鹿ば颍涸谟啥鄠€層層疊而成的結(jié)構(gòu)體的表面薄薄地涂敷光刻膠(photoresist)，并且在將具有所要形成的圖案的光掩模放置在光刻膠上的狀態(tài)下進(jìn)行曝光(light exposure)，之后針對被曝光的區(qū)域和未被曝光的區(qū)域進(jìn)行選擇性蝕刻來獲取所需的圖案。所述開口部425就可通過對經(jīng)由這種光刻工序的反射層420進(jìn)行部分蝕刻而形成。所述反射層420被配置于透射層410的上方。

另外，由于透射層410在掩模母材50上形成圖案孔55的工序中持續(xù)地露出于激光束LB中，因此優(yōu)選利用同時具備優(yōu)異的耐熱性和透光性的材料來形成。例如，透射層410可包括耐熱性優(yōu)異的同時能夠透光的石英(quartz)和玻璃(glass)中的至少一個。

接下來，反射層420被配置于透射層410與掃描器300之間，利用能夠使激光束LB的一部分反射的不透明金屬來形成。此時，形成于反射層420的開口部425貫穿反 射層420而形成，從而能夠使激光束LB經(jīng)過。

形成于反射層420的開口部425可在反射層420上形成為多個，并且與形成在掩模母材50的圖案孔55的形狀基本上相對應(yīng)。圖3中只示出六個開口部425，但這是只放大表示光學(xué)鏡400的規(guī)定區(qū)域(圖1的附圖標(biāo)記B)的圖，因此在本發(fā)明的一實(shí)施例的光學(xué)鏡400上形成的開口部425的數(shù)量并不限定于此，還可以形成為與從分光部200照射出的激光束LB的數(shù)量相對應(yīng)。

透射層410被配置為支撐形成有所述開口部425的反射層420，除通過開口部425露出的區(qū)域之外的剩余區(qū)域被配置為被反射層420覆蓋。因此，在透射層410中，只有與將被形成在掩模母材50上的圖案孔55的形狀相應(yīng)的部分區(qū)域才能通過反射層420的開口部425露出于激光束LB。

詳細(xì)地，照射到反射層420的激光束LB會因均被反射而不會透過透射層410，但是照射到開口部425的激光束LB不會與反射層420接觸，從而能夠依次透過反射層420和透射層410來照射掩模母材50。

此時，就照射到反射層420的表面421和開口部425之間的邊界面的激光束LB而言，即就一個激光束LB中的一部分照射到反射層420的表面421，另一部分照射到開口部425的情況而言，向開口部425照射的激光束LB中僅有所述另一部分才能經(jīng)由開口部425且透過透射層410而用于加工掩模母材50的表面。

參照圖3及圖4，開口部425被形成為四邊形形狀，各開口部425可被配置為彼此之間相隔附圖標(biāo)記G所示間隔。在此，各開口部425之間的間隔G可根據(jù)各開口部425的曲率半徑(the radius of curvature)R的長度而不同。即，各開口部425的曲率半徑R越小，則開口部425的角部越被形成為接近直角，若開口部425的角部被形成為接近直角，則開口部425之間的間隔G也相對短小(參照附圖標(biāo)記G’)。

相反，若各開口部425的曲率半徑R大，則與開口部425形成為四邊形的情況(參照附圖標(biāo)記G’)相比，可進(jìn)一步形成附圖標(biāo)記d所示間隙。在這種情況下，各開口部425之間的間隔可被形成為與開口部425被形成為四邊形的情況相比進(jìn)一步相隔2d。

若不用光學(xué)鏡400，直接向掩模母材50照射激光束LB，則掩模母材50上形成的圖案孔55的各角部被形成為與激光束LB的形狀相對應(yīng)。這是因?yàn)樵诒恍纬蔀榫哂幸?guī)定直徑的圓形的激光束LB的特性上，圖案孔55的角部只能被形成為與激光束LB的形狀相對應(yīng)。

為了解決這種問題，本發(fā)明的一實(shí)施例的沉積用掩模制造裝置10包括用于使激光束LB選擇性地透射的光學(xué)鏡400。如前所述，光學(xué)鏡400能夠使向掩模母材50方向照射的激光束LB選擇性地透射或者反射。

因此，若將形成于光學(xué)鏡400的反射層420的開口部425的角部曲率半徑R形成為小于激光束LB的半徑R_LB，則能夠使照射到開口部425的角部上的激光束LB中的、照射到反射層420的表面421的激光束LB的一部分反射(相當(dāng)于附圖標(biāo)記S的區(qū)域)，并且僅使照射到開口部425的一部分激光束LB透射而加工圖案孔55。

如此將開口部425的曲率半徑R形成為小于激光束LB的半徑R_LB，則能夠與激光束LB的形狀無關(guān)地，以與開口部425的角部形狀相對應(yīng)的方式加工圖案孔55。因此，若將開口部425的角部的曲率半徑R形成為小于激光束LB的半徑R_LB，優(yōu)選將開口部425的角部形成為接近直角，則能夠?qū)D案孔55的角部形狀也形成為接近直角，結(jié)果能夠使各圖案孔55之間的間隔最小化。

在此，之所以采用圖案孔55的角部“被形成為基本上接近直角”這一表述，是因?yàn)槿缦略颍洪_口部425或圖案孔55的形狀在肉眼上可視為四邊形，但在考慮開口部425和圖案孔55被形成為非常微細(xì)這一點(diǎn)時，例如通過顯微鏡觀察微細(xì)區(qū)域即開口部425或圖案孔55的角部時，開口部425或圖案孔55的角部可能被形成為具有規(guī)定曲率半徑R的形狀而不是直角。

下面，對通過將圖案孔55的形狀形成為接近四邊形而能獲取的效果進(jìn)行說明。

首先，圖案孔55在后續(xù)的將沉積物質(zhì)沉積在顯示面板(未圖示)上的工序中起到使沉積物質(zhì)透射的作用。因此，圖案孔55的形狀被形成為與沉積在顯示面板上的發(fā)光部(未圖示)的形狀相對應(yīng)。因此，圖案孔55的形狀越接近四邊形，則沉積物質(zhì)越能以接近四邊形的形狀沉積在顯示面板上。

一般而言，為了實(shí)現(xiàn)超高清(ultra high definition，UHD)級以上的高分辨率顯示，需要使發(fā)出可見光的發(fā)光部在顯示面板的規(guī)定區(qū)域內(nèi)所占的區(qū)域最大化。由于發(fā)光部由經(jīng)過圖案孔55而沉積在顯示面板上的沉積物質(zhì)形成，因此如前所述那樣，可通過將確定圖案孔55的形狀的各開口部425的形狀形成為接近四邊形，即通過最大限度地減小各開口部425之間的間隔G，來使發(fā)光部在顯示面板的規(guī)定區(qū)域內(nèi)所占的區(qū)域最大化。

因此，在不用光學(xué)鏡400，直接向掩模母材50照射激光束LB時，所加工的圖案孔55的曲率半徑被形成為與激光束LB的半徑相對應(yīng)，但是當(dāng)在如本發(fā)明的一實(shí)施例的沉積用掩模制造裝置10中設(shè)置光學(xué)鏡400，并在加工圖案孔55時將光學(xué)鏡400配置在掩模母材50上方時，能夠?qū)D案孔55的各曲率半徑的半徑R形成為小于激光束LB的半徑R_LB。進(jìn)而，能夠通過在顯示面板上以接近四邊形的形狀沉積有機(jī)物來使發(fā)光部在顯示面板的規(guī)定區(qū)域內(nèi)所占的面積最大化。

圖5是表示圖3的光學(xué)鏡的另一變形例的放大立體圖。

參照圖5，在光學(xué)鏡401上可形成有用于易于執(zhí)行光學(xué)鏡401和掩模母材50的對齊的十字(cross)形狀的第一標(biāo)記422。在掩模母材50上可形成有具有與第一標(biāo)記422的形狀相對應(yīng)形狀的第二標(biāo)記(未圖示)，但第一標(biāo)記422和第二標(biāo)記(未圖示)的形狀并不限定于此，例如可被形成為圓形、橢圓形或多邊形等多種形狀。

詳細(xì)地，第一標(biāo)記422可以僅形成在光學(xué)鏡401的反射層420上。這是因?yàn)橥干鋵?10由如能夠使激光透射的石英或玻璃等材質(zhì)形成，因此從為了進(jìn)行與第二標(biāo)記(未圖示)的對齊而形成的第一標(biāo)記422的特性來看，在不用如第一標(biāo)記422等特殊加工體也能透射第一標(biāo)記422而確認(rèn)形成在掩模母材50上結(jié)構(gòu)體的透射層410中，可以不形成如第一標(biāo)記422那樣用于進(jìn)行對齊的部件。而且，第二標(biāo)記(未圖示)可以與第一標(biāo)記422的形狀和位置相對應(yīng)而形成在掩模母材50上。

此時，攝像部(未圖示)和驅(qū)動部(未圖示)可監(jiān)測形成在光學(xué)鏡401上的第一標(biāo)記422和形成在掩模母材50上的第二標(biāo)記(未圖示)的位置，并且通過使光學(xué)鏡401和掩模母材50中的一個移動，對第一標(biāo)記422和第二標(biāo)記(未圖示)的位置進(jìn)行對齊，從而執(zhí)行用于在掩模母材50上照射激光束LB來加工圖案孔55的準(zhǔn)備。

接下來，對通過本發(fā)明的一實(shí)施例的沉積用掩模制造裝置10在掩模母材50上形成圖案孔55的沉積用掩模制造方法進(jìn)行說明。

首先，在載物臺25與分光部200之間配置掩模母材50，分光部200用于將從激光振蕩部100振蕩出的激光L分為多個激光束LB。此時，載物臺25被設(shè)置為能夠沿掩模母材50的長度方向移動，從而可反復(fù)進(jìn)行將一個掩模母材50運(yùn)入腔室20內(nèi)而加工圖案55之后再次運(yùn)出腔室20外的驅(qū)動。此外，沉積用掩模制造裝置10可進(jìn)一步具備靜電吸盤30，這種靜電吸盤30吸附掩模母材50，使得掩模母材50能夠緊貼于載物臺25上。

接下來，在掩模母材50與分光部200之間配置光學(xué)鏡401。前面已對光學(xué)鏡401進(jìn)行了詳細(xì)說明，因此在此省略或簡述具體說明。

詳細(xì)地，光學(xué)鏡401被配置在掩模母材50上，此時可對形成在光學(xué)鏡401的第一標(biāo)記422和形成在掩模母材50的第二標(biāo)記(未圖示)進(jìn)行對齊。如此對第一標(biāo)記422和第二標(biāo)記(未圖示)進(jìn)行對齊時，攝像部(未圖示)可監(jiān)測光學(xué)鏡401和掩模母材50的位置，驅(qū)動部(未圖示)可通過使光學(xué)鏡401和掩模母材50中的至少一個移動，對第一標(biāo)記422和第二標(biāo)記(未圖示)的位置進(jìn)行對齊。

在此，所謂將光學(xué)鏡401對齊到掩模母材50的上方意味著以形成在光學(xué)鏡401的反射層420上的開口部425的形狀與應(yīng)加工在掩模母材50上的圖案孔55的形狀相對應(yīng)的方式進(jìn)行對齊。

在載物臺25上，將掩模母材50和光學(xué)鏡401對齊并配置之后，驅(qū)動激光振蕩部100。從激光振蕩部100振蕩出的激光L被分光部200分為多個激光束LB并被引導(dǎo)至掃描器300。掃描器300通過將經(jīng)過分光部200的多個激光束LB照射到由光學(xué)鏡401露出的掩模母材50的一部分上，從而在掩模母材50上加工圖案孔55。

此時，掃描器300可調(diào)節(jié)經(jīng)過分光部200的多個激光束LB的照射方向。詳細(xì)地，為了加工圖案孔55而從分光部200側(cè)朝向掩模母材50照射的激光束LB可通過掃描器300在與圖案孔55的大小相對應(yīng)的區(qū)域沿掩模母材50的長度方向和寬度方向自由移動并加工圖案孔55。

詳細(xì)地，通過這種激光束LB加工的圖案孔55的剖面可被形成為逐漸變細(xì)(taper)的形狀。為了將圖案孔55的剖面形成為逐漸變細(xì)(taper)的形狀，從開口部425的邊緣到開口部425的中心區(qū)域，逐漸增加激光束LB的照射時間，或逐漸提高激光束LB的輸出，從而將更強(qiáng)的能量照射到開口部425的中心區(qū)域。

當(dāng)激光束LB照射到開口部425的邊緣時，向開口部425照射的激光束LB可經(jīng)過開口部425和透射層410照射到掩模母材50。另外，照射到與開口部425鄰接的反射層420上的激光束LB被反射層420反射，因此不能用于加工掩模母材50。

因此，圖案孔55的形狀與激光束LB的形狀無關(guān)地被形成為與開口部425的形狀相對應(yīng)。這意味著圖案孔55的角部形狀可被形成為與開口部425的角部形狀相對應(yīng)。如前所述，當(dāng)使用光學(xué)鏡401來加工圖案孔55時，能夠?qū)D案孔55的形狀形成為接近四邊形。

在此，之所以采用“接近四邊形”這一表述，是因?yàn)閷?shí)際上開口部425被形成為完美的四邊形這在現(xiàn)實(shí)中不可能實(shí)現(xiàn)。進(jìn)一步詳細(xì)說明如下，開口部425或圖案孔55的形狀在肉眼上可視為四邊形，但在考慮開口部425或圖案孔55被形成為非常微細(xì)這一點(diǎn)時，通過顯微鏡觀察微細(xì)區(qū)域即開口部425或圖案孔55的角部時，開口部425或圖案孔55的角部可能被形成為具有規(guī)定曲率半徑R的形狀而不是直角。

前面已對通過將圖案孔55的形狀形成為接近四邊形而能獲取的效果進(jìn)行了說明，因此在此省略具體說明。

如上所述，本發(fā)明參照圖中所示的一實(shí)施例進(jìn)行了說明，但這只不過是示意性的，本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)能理解基于上述實(shí)施例可進(jìn)行多種變形并實(shí)施其他等同的實(shí)施例。因此，本發(fā)明真正的技術(shù)保護(hù)范圍應(yīng)由所附的權(quán)利要求書的技術(shù)思想來確定。

附圖標(biāo)記說明

10：沉積用掩模制造裝置 300：掃描器

25：載物臺 400、401：光學(xué)鏡

30：靜電吸盤 410：透射層

50：掩模母材 420：反射層

421：表面 422：第一標(biāo)記

55：圖案孔 425：開口部

100：激光振蕩部 200：分光部