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沉積用掩模制造裝置及利用該裝置的沉積用掩模制造方法與流程

文檔序號:11810996閱讀:來源:國知局

技術特征:

1.一種沉積用掩模制造裝置,利用激光在配置于載物臺的掩模母材上加工圖案孔,所述沉積用掩模制造裝置包括:

激光振蕩部,振蕩出所述激光;

分光部,使從所述激光振蕩部振蕩出的所述激光分為多個激光束;

掃描器,調節(jié)經過所述分光部的所述多個激光束的照射方向;和

光學鏡,配置于所述掃描器與所述掩模母材之間,以使經過所述掃描器的所述多個激光束中的至少一部分透射。

2.根據(jù)權利要求1所述的沉積用掩模制造裝置,其中,

進一步包括靜電吸盤,所述靜電吸盤配置于所述載物臺與所述掩模母材之間且用于吸附所述掩模母材。

3.根據(jù)權利要求1所述的沉積用掩模制造裝置,其中,進一步包括:

攝像部,用于監(jiān)測所述光學鏡和所述掩模母材的位置;和

驅動部,通過使所述光學鏡和所述掩模母材中的至少一個移動,對所述光學鏡和所述掩模母材的位置進行對齊。

4.根據(jù)權利要求3所述的沉積用掩模制造裝置,其特征在于,

在所述光學鏡上形成有第一標記,

在所述掩模母材上形成有第二標記,所述第二標記被形成為與所述第一標記的形狀相對應,

所述驅動部通過使所述光學鏡和所述掩模母材中的至少一個移動,對所述第一標記和所述第二標記的位置進行對齊。

5.根據(jù)權利要求1所述的沉積用掩模制造裝置,其特征在于,

經過所述掃描器的所述多個激光束基本上垂直于所述掩模母材而照射。

6.根據(jù)權利要求1所述的沉積用掩模制造裝置,其中,

所述光學鏡包括:

透射層,用于使所述多個激光束中的一部分透射;和

反射層,用于使所述多個激光束中的一部分反射,

所述反射層包括與所述圖案孔的形狀相對應形成的開口部。

7.根據(jù)權利要求6所述的沉積用掩模制造裝置,其中,

所述透射層包括石英和玻璃中的至少一個。

8.根據(jù)權利要求6所述的沉積用掩模制造裝置,其中,

所述反射層包括不透明金屬。

9.根據(jù)權利要求6所述的沉積用掩模制造裝置,其中,

所述開口部的角部的曲率半徑小于所述多個激光束的半徑。

10.一種沉積用掩模制造方法,包括以下步驟:

在載物臺與分光部之間配置掩模母材,所述分光部用于使從激光振蕩部振蕩出的激光分為多個激光束;

在所述掩模母材與所述分光部之間配置光學鏡,所述光學鏡用于使所述多個激光束中的至少一部分透射;以及

通過掃描器向由所述光學鏡露出的所述掩模母材的一部分照射所述多個激光束,從而在所述掩模母材上加工圖案孔,所述掃描器用于調節(jié)經過所述分光部的所述多個激光束的照射方向。

11.根據(jù)權利要求10所述的沉積用掩模制造方法,其中,

在所述掩模母材與所述分光部之間配置所述光學鏡的步驟包括以下步驟:

對形成在光學鏡的第一標記和形成在掩模母材的第二標記的位置進行對齊。

12.根據(jù)權利要求10所述的沉積用掩模制造方法,其特征在于,

所述圖案孔以逐漸變細的方式形成。

13.根據(jù)權利要求10所述的沉積用掩模制造方法,其中,

進一步包括靜電吸盤,所述靜電吸盤配置于所述載物臺與所述掩模母材之間且用于吸附所述掩模母材。

14.根據(jù)權利要求10所述的沉積用掩模制造方法,其中,進一步包括:

攝像部,用于監(jiān)測所述光學鏡和所述掩模母材的位置;和

驅動部,通過使所述光學鏡和所述掩模母材中的至少一個移動,對所述光學鏡和所述掩模母材進行對齊。

15.根據(jù)權利要求14所述的沉積用掩模制造方法,其特征在于,

在所述光學鏡上形成有第一標記,

在所述掩模母材上形成第二標記,所述第二標記被形成為與所述第一標記的形狀相對應,

所述驅動部通過使所述光學鏡和所述掩模母材中的至少一個移動,對所述第一標記和所述第二標記的位置進行對齊。

16.根據(jù)權利要求10所述的沉積用掩模制造方法,其特征在于,

經過所述分光部的所述激光束基本上垂直于所述掩模母材而照射。

17.根據(jù)權利要求10所述的沉積用掩模制造方法,其中,

所述光學鏡包括:

透射層,用于使所述多個激光束中的一部分透射;和

反射層,用于使所述多個激光束中的一部分反射,

所述反射層包括與所述圖案孔的形狀相對應形成的開口部。

18.根據(jù)權利要求17所述的沉積用掩模制造方法,其中,

所述透射層包括石英和玻璃中的至少一個。

19.根據(jù)權利要求17所述的沉積用掩模制造方法,其中,

所述反射層包括不透明金屬。

20.根據(jù)權利要求17所述的沉積用掩模制造方法,其特征在于,

所述開口部的角部的曲率半徑小于所述多個激光束的半徑。

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