1.一種蒸鍍掩模，其是將形成有縫隙的金屬掩模和在與該縫隙重合的位置形成有與蒸鍍制作的圖案對(duì)應(yīng)的開(kāi)口部的樹(shù)脂掩模疊層而成的，
其中，所述樹(shù)脂掩模對(duì)波長(zhǎng)550nm的光線透射率為40％以下。
2.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩模，其中，所述樹(shù)脂掩模含有著色材料成分。
3.如權(quán)利要求1或2所述的蒸鍍掩模，其中，所述樹(shù)脂掩模的厚度為3μm以上且低于10μm。
4.一種帶框架的蒸鍍掩模，其是將蒸鍍掩模固定在框架上而成的，
其中，所述蒸鍍掩模是將形成有縫隙的金屬掩模和在與該縫隙重合的位置形成有與蒸鍍制作的圖案對(duì)應(yīng)的開(kāi)口部的樹(shù)脂掩模疊層而成的，
所述樹(shù)脂掩模對(duì)波長(zhǎng)550nm的光線透射率為40％以下。
5.一種蒸鍍掩模前體，其用于得到將形成有縫隙的金屬掩模和在與該縫隙重合的位置形成有與蒸鍍制作的圖案對(duì)應(yīng)的開(kāi)口部的樹(shù)脂掩模疊層而成的蒸鍍掩模，
其中，在樹(shù)脂板的一面疊層有設(shè)置了縫隙的金屬掩模，
所述樹(shù)脂板對(duì)波長(zhǎng)550nm的光線透射率為40％以下。
6.一種有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法，該方法包括：使用框架上固定有蒸鍍掩模的帶框架的蒸鍍掩模而在蒸鍍對(duì)象物上形成蒸鍍圖案的工序，
在所述形成蒸鍍圖案的工序中，固定于所述框架的所述蒸鍍掩模疊層有形成了縫隙的金屬掩模、和在與該縫隙重合的位置形成了與蒸鍍制作的圖案對(duì)應(yīng)的開(kāi)口部的樹(shù)脂掩模，而且，該樹(shù)脂掩模對(duì)波長(zhǎng)550nm的光線透射率為40％以下。