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一種靶材組件的制作方法

文檔序號:3333253閱讀:152來源:國知局
一種靶材組件的制作方法
【專利摘要】本實用新型提供了一種靶材組件,包括靶材、背板及導(dǎo)磁片,所述靶材與所述背板層疊設(shè)置,所述導(dǎo)磁片設(shè)置于所述靶材與所述背板之間,且所述導(dǎo)磁片至少部分嵌于所述背板中,所述靶材采用矩形平面靶材。本實用新型的靶材組件通過設(shè)置導(dǎo)磁片,使得磁控濺射過程中的磁場分布均勻,靶材的蝕刻速率一致,從而延長矩形平面靶材使用壽命,降低生產(chǎn)成本,提高靶材的使用效率。
【專利說明】 一種靶材組件

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉磁控濺射【技術(shù)領(lǐng)域】,特別涉及一種靶材組件。

【背景技術(shù)】
[0002]磁控濺射是指在電場作用下電子與氬原子發(fā)生碰撞,并且電離出氬離子和新的電子,氬離子在電場加速運動撞擊陰極靶材,發(fā)生濺射。濺射粒子沉積在基底表面形成薄膜。磁場可以改變電子的運動方向,束縛并延長了電子運動的軌跡,使電子對氬離子的電離以及對靶材的撞擊更加有效。磁控濺射可以在低溫條件下進行,并且高速運動的粒子提高了濺射效率。
[0003]目前,用于磁控濺射矩形平面靶材鍍制薄膜過程中,通常會形成長圓形的蝕刻環(huán)路,該蝕刻環(huán)路包括中部的直線部及兩端的弧形部。在相同使用功率條件下,不同區(qū)域的磁場分布不均勻,例如,在靶材的中部磁場強度小于靶材兩端的磁場密度,從而使得蝕刻環(huán)路的弧形部的蝕刻深度遠大于直線部的蝕刻深度,導(dǎo)致當(dāng)蝕刻環(huán)路的弧形部已經(jīng)貫穿而需要更換靶材時,靶材的蝕刻環(huán)路的直線部仍遠未充分利用,從而降低了靶材使用效率,提高了生產(chǎn)成本。
實用新型內(nèi)容
[0004]提供一種可使磁場分布均勻,從而提升靶材蝕刻均勻度的靶材組件。
[0005]一種靶材組件,包括靶材、導(dǎo)磁片、背板及承載板,所述靶材與承載板層疊設(shè)置于所述背板的兩側(cè),所述承載板設(shè)有承載板頂面,所述導(dǎo)磁片設(shè)有導(dǎo)磁片頂面,所述導(dǎo)磁片的導(dǎo)磁片頂面與所述承載板的承載板頂面平齊,且所述導(dǎo)磁片頂面貼緊所述背板。
[0006]進一步的,所述承載板采用非導(dǎo)磁材料制成,所述導(dǎo)磁片采用高導(dǎo)磁性材料制成。
[0007]進一步的,所述承載板采用非導(dǎo)磁不銹鋼制成,所述導(dǎo)磁片采用稀土材料制成。
[0008]進一步的,所述矩形平面靶材包括設(shè)置于中部的平行區(qū)域及設(shè)置于平行區(qū)域端部且臨近所述靶材端部的弧形區(qū)域,所述導(dǎo)磁片對應(yīng)所述矩形平面靶材的弧形區(qū)域設(shè)置。
[0009]進一步的,所述背板采用無氧銅背板或者鑰背板。
[0010]進一步的,所述靶材與背板之間設(shè)有連接層,所述連接層用于將所述靶材與背板相互連接。
[0011 ] 進一步的,所述連接層銦金屬粘結(jié)層或銀金屬粘結(jié)層。
[0012]本實用新型的靶材組件于承載板中設(shè)置導(dǎo)磁片。進行磁控濺射時,通過增強導(dǎo)磁片處的導(dǎo)磁性,使磁場分布均勻,從而獲取適用的區(qū)域蝕刻效果。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0014]圖1是本實用新型較佳實施方式提供的一種靶材組件在正視圖下的剖面示意圖;
[0015]圖2是本實用新型較佳實施方式提供的靶材組件的靶材的俯視圖;
[0016]圖3是本實用新型較佳實施方式提供的靶材組件的承載板及導(dǎo)磁片的俯視圖。

【具體實施方式】
[0017]下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖,對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├?,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本實用新型保護的范圍。
[0018]請參閱圖1至圖3,本實用新型較佳實施方式提供一種靶材組件10,包括靶材11、導(dǎo)磁片13、背板15及承載板17。所述靶材11與承載板17層疊設(shè)置于所述背板15的兩側(cè),所述導(dǎo)磁片13嵌于所述承載板17中。本實用新型的靶材11組件10放置于磁控濺射工藝腔室內(nèi)陰極座表面,用于交流/直流磁控濺射工藝。
[0019]如圖2所示,在本實施例中,所述靶材11為矩形平面靶材,在磁控濺射鍍膜過程中,靶材11表面形成長圓形的蝕刻環(huán)路110。所述蝕刻環(huán)路110為封閉狀,其包括中部的直線部及直線部兩端且鄰近所述靶材11端部的弧形部。其中所述直線部的相應(yīng)位置為矩形平面靶材11的平行區(qū)域111,所述弧形部的相應(yīng)位置為矩形平面靶材11的弧形區(qū)域113。所述靶材11為一體成型或者是由多塊較小的子靶材拼接而成。
[0020]請一并參見圖3,所述導(dǎo)磁片13用于增強其設(shè)置位置處的導(dǎo)磁性。在本實施例中,所述導(dǎo)磁片13連接于所述承載板17并對應(yīng)所述靶材11的弧形區(qū)域113設(shè)置。在本實施例中,所述導(dǎo)磁片13采用具有高導(dǎo)磁性材料制成,如稀土材料及所述稀土材料所制成的合金。
[0021]在本實施例中,所述導(dǎo)磁片13大體為U型片狀,其包括連接部131及分別連接于連接部131兩端的延伸部133,所述兩個延伸部133相互平行。所述導(dǎo)磁片13的連接部131相對于所述延伸部133設(shè)置于所述靶材11的外側(cè),所述延伸部133相對于所述連接部131靠近所述靶材11的中部設(shè)置。
[0022]進一步的,所述連接部131大體對應(yīng)所述靶材11的弧形區(qū)域113設(shè)置,所述導(dǎo)磁片13的延伸部133于所述靶材11的投影與所述蝕刻環(huán)路110的直線部重合??梢岳斫獾氖牵鲞B接部131也可設(shè)置為弧形,并可設(shè)置為與所述蝕刻環(huán)路110的弧形部的弧度及形狀一致。
[0023]所述背板15為板狀,其用于承托靶材11。在本實施例中,背板15采用無氧銅背板15或者鑰背板15。
[0024]承載板17設(shè)置于所述背板15背離所述靶材11 一側(cè),所述承載板17用于承載導(dǎo)磁片13及背板15。在本實施例中,進一步的,所述承載板17采用非導(dǎo)磁材料制成,優(yōu)選的,所述承載板17采用非導(dǎo)磁不銹鋼制成,從而便于使磁控濺射的磁場均勻分布。所述承載板17平面尺寸與所述靶材11相同,其厚度為I毫米。
[0025]所述承載板17設(shè)有承載板頂面175,所述導(dǎo)磁片13設(shè)有導(dǎo)磁片頂面135。述承載板頂面175朝向所述靶材11設(shè)置。在本實施例中,當(dāng)導(dǎo)磁片13嵌入所述承載板17時,所述導(dǎo)磁片13的導(dǎo)磁片頂面135與所述承載板17的承載板頂面175平齊。
[0026]在本實施例中,所述承載板頂面175開設(shè)有安裝槽(圖未示),所述導(dǎo)磁片13設(shè)置于所述安裝槽。所述安裝槽相對于所述背板頂面155凹入或?qū)⑺霰嘲?5貫通,其形狀與導(dǎo)磁片13相同,使得所述導(dǎo)磁片13完全設(shè)置于所述背板15之中。
[0027]在本實施例中,所述靶材11與背板15之間設(shè)有連接層(圖未示),所述連接層用于將所述靶材11與背板15相互連接。所述連接層為銦金屬粘結(jié)層或銀金屬粘結(jié)層。
[0028]本實用新型的靶材11組件10于承載板17中設(shè)置導(dǎo)磁片13。進行磁控濺射時,通過增強導(dǎo)磁片13處的導(dǎo)磁性,使磁場分布均勻,從而獲取適用的區(qū)域蝕刻效果。在本實施例中,通過在矩形平面靶材磁場環(huán)形區(qū)域的相應(yīng)位置設(shè)置具有強導(dǎo)磁性的導(dǎo)磁片13,使得整套靶材11平行磁場區(qū)域及環(huán)形磁場區(qū)域蝕刻效率相當(dāng),避免靶材濺射深度差異較大,從而延長矩形平面靶材11使用壽命,降低生產(chǎn)成本,提高靶材11使用效率。
[0029]以上所揭露的僅為本實用新型一種較佳實施例而已,當(dāng)然不能以此來限定本實用新型之權(quán)利范圍,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以理解實現(xiàn)上述實施例的全部或部分流程,并依本實用新型權(quán)利要求所作的等同變化,仍屬于實用新型所涵蓋的范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種靶材組件,其特征在于:包括靶材、導(dǎo)磁片、背板及承載板,所述靶材與承載板層疊設(shè)置于所述背板的兩側(cè),所述承載板設(shè)有承載板頂面,所述導(dǎo)磁片設(shè)有導(dǎo)磁片頂面,所述導(dǎo)磁片的導(dǎo)磁片頂面與所述承載板的承載板頂面平齊,且所述導(dǎo)磁片頂面貼緊所述背板。
2.如權(quán)利要求1所述的靶材組件,其特征在于:所述承載板采用非導(dǎo)磁材料制成,所述導(dǎo)磁片采用高導(dǎo)磁性材料制成。
3.如權(quán)利要求1所述的靶材組件,其特征在于:所述承載板采用非導(dǎo)磁不銹鋼制成,所述導(dǎo)磁片采用稀土材料制成。
4.如權(quán)利要求1至3中任一項所述的靶材組件,其特征在于:所述靶材為矩形平面靶材,所述矩形平面靶材包括設(shè)置于中部的平行區(qū)域及設(shè)置于平行區(qū)域端部且臨近所述靶材端部的弧形區(qū)域,所述導(dǎo)磁片對應(yīng)所述矩形平面靶材的弧形區(qū)域設(shè)置。
5.如權(quán)利要求1至3中任一項所述的靶材組件,其特征在于:所述背板采用無氧銅背板或者鑰背板。
6.如權(quán)利要求1至3中任一項所述的靶材組件,其特征在于:所述靶材與背板之間設(shè)有連接層,所述連接層用于將所述靶材與背板相互連接。
7.如權(quán)利要求6所述的靶材組件,其特征在于:所述連接層銦金屬粘結(jié)層或銀金屬粘結(jié)層。
【文檔編號】C23C14/35GK204162777SQ201420387187
【公開日】2015年2月18日 申請日期:2014年7月14日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月14日
【發(fā)明者】李晨光 申請人:南昌歐菲光科技有限公司, 深圳歐菲光科技股份有限公司, 蘇州歐菲光科技有限公司
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