技術(shù)編號：3333253
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實用新型提供了一種靶材組件，包括靶材、背板及導(dǎo)磁片，所述靶材與所述背板層疊設(shè)置，所述導(dǎo)磁片設(shè)置于所述靶材與所述背板之間，且所述導(dǎo)磁片至少部分嵌于所述背板中，所述靶材采用矩形平面靶材。本實用新型的靶材組件通過設(shè)置導(dǎo)磁片，使得磁控濺射過程中的磁場分布均勻，靶材的蝕刻速率一致，從而延長矩形平面靶材使用壽命，降低生產(chǎn)成本，提高靶材的使用效率。專利說明 一種靶材組件 [0001]本實用新型涉磁控濺射，特別涉及一種靶材組件。 背景技術(shù) [0002]磁控濺射...
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