氮?dú)獯祾哐b置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供了一種氮?dú)獯祾哐b置，涉及半導(dǎo)體制備領(lǐng)域，通過(guò)使用氮?dú)獯祾哐b置來(lái)對(duì)CVD工藝中所用的氣體分灑盤進(jìn)行清洗。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，可有效提高清洗效率，縮短了機(jī)臺(tái)的保養(yǎng)時(shí)間及產(chǎn)品周期，同時(shí)提高了機(jī)臺(tái)的利用效率并節(jié)約了人力，進(jìn)而提高經(jīng)濟(jì)效益。
【專利說(shuō)明】氮?dú)獯祾哐b置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體制備領(lǐng)域，具體涉及一種氮?dú)獯祾哐b置。

【背景技術(shù)】
[0002] 隨著半導(dǎo)體的不斷發(fā)展，對(duì)材料的要求也越來(lái)越高，現(xiàn)代科學(xué)和技術(shù)需要使用大 量功能各異的無(wú)機(jī)新材料，這些功能材料必須是高純的，或者是在高純材料中有意地?fù)饺?某種雜質(zhì)形成的摻雜材料。但是，我們過(guò)去所熟悉的許多制備方法如高溫熔煉、水溶液中沉 淀和結(jié)晶等往往難以滿足這些要求，也難以保證得到高純度的產(chǎn)品。因此，無(wú)機(jī)新材料的合 成就成為現(xiàn)代材料科學(xué)中的主要課題。
[0003] 為了解決上述問(wèn)題，化學(xué)氣相淀積是近幾十年發(fā)展起來(lái)的制備無(wú)機(jī)材料的新技 術(shù)，它是把一種或幾種含有構(gòu)成薄膜元素的化合物、單質(zhì)氣體通入放置有基材的反應(yīng)室，借 助空間氣相化學(xué)反應(yīng)在基體表面上沉積固態(tài)薄膜的工藝技術(shù)?；瘜W(xué)氣相淀積法已經(jīng)廣泛用 于提純物質(zhì)、研制新晶體、淀積各種單晶、多晶或玻璃態(tài)無(wú)機(jī)薄膜材料，目前，化學(xué)氣相淀積 已成為無(wú)機(jī)合成化學(xué)的一個(gè)新領(lǐng)域。
[0004] 在半導(dǎo)體的化學(xué)氣相沉積（chemical vapor deposition,簡(jiǎn)稱CVD)制程中，需要 讓氣體在氣體分灑盤的分流作用后再進(jìn)行沉積工藝，該氣體分灑盤在使用一定周期之后， 需要進(jìn)行超聲震蕩清洗，吹干，烘烤的保養(yǎng)過(guò)程。目前業(yè)界一般采用人工手持氮?dú)鈽寣?duì)氣體 分灑盤進(jìn)行吹干，以對(duì)其進(jìn)行保養(yǎng)。但是使用氮?dú)鈽屓斯みM(jìn)行吹干的方法，每個(gè)氣體分灑盤 每人需要30分鐘左右才能吹干，浪費(fèi)人力而且耗時(shí)過(guò)長(zhǎng)，導(dǎo)致效率太低，更浪費(fèi)整個(gè)機(jī)臺(tái) 的保養(yǎng)時(shí)間，導(dǎo)致機(jī)臺(tái)的利用率低下。 實(shí)用新型內(nèi)容
[0005] 本實(shí)用新型提供了一種氮?dú)獯祾哐b置，可有效提高吹掃效率，縮短機(jī)臺(tái)的保養(yǎng)時(shí) 間，提高機(jī)臺(tái)的利用率，提高經(jīng)濟(jì)效益；同時(shí)節(jié)約了人力，
[0006] -種氮?dú)獯祾哐b置，應(yīng)用于氣體分灑盤的保養(yǎng)工藝中，其中，所述氮?dú)獯祾哐b置包 括一可分離式機(jī)體，該可分離式機(jī)體包括下部機(jī)體和上部機(jī)體，所述下部機(jī)體與所述上部 機(jī)體活動(dòng)連接；
[0007] 所述下部機(jī)體的內(nèi)壁設(shè)置有支撐塊，用于固定所述氣體分灑盤；
[0008] 所述上部機(jī)體的頂部設(shè)置有若干開口，且各所述開口均設(shè)置有一氣動(dòng)閥，所述氣 動(dòng)閥連接一氣泵，用于輸送氣體至所述氮?dú)獯祾哐b置；
[0009] 所述上部機(jī)體的內(nèi)壁之間設(shè)置有一可拆卸式氮?dú)獯祾弑P。
[0010] 上述的氮?dú)獯祾哐b置，其中，所述下部機(jī)體和上部機(jī)體通過(guò)合頁(yè)活動(dòng)連接，且所述 下部機(jī)體和上部機(jī)體通過(guò)鎖扣進(jìn)行固定。
[0011] 上述的氮?dú)獯祾哐b置，其中，所述氮?dú)獯祾哐b置還包括一記時(shí)器，所述記時(shí)器固定 設(shè)于所述上部機(jī)體外壁，并通過(guò)所述記時(shí)器來(lái)控制所述氣動(dòng)閥的開合狀態(tài)。
[0012] 上述的氮?dú)獯祾哐b置，其中，所述氮?dú)獯祾弑P均勻設(shè)置有若干氣體噴嘴，且各所述 氣體噴嘴為可拆卸式氣體噴嘴，根據(jù)實(shí)際需求來(lái)對(duì)氮?dú)獯祾弑P的部分或全部氣體噴嘴進(jìn)行 更換。
[0013] 上述的氮?dú)獯祾哐b置，其中，所述氣體噴嘴的材質(zhì)為特氟龍。
[0014] 上述的氮?dú)獯祾哐b置，其中，各所述支撐塊均設(shè)置有彈簧，用于固定不同尺寸的氣 體分灑盤。
[0015] 上述的氮?dú)獯祾哐b置，其中，所述氣體分灑盤與所述氣體噴嘴之間的距離大于 10mm〇
[0016] 上述的氮?dú)獯祾哐b置，其中，所述上部機(jī)體設(shè)置有一把手，所述把手焊接固定在所 述上部機(jī)體上。
[0017] 上述的氮?dú)獯祾哐b置，其中，所述上部機(jī)體和所述下部機(jī)體均為不銹鋼材質(zhì)。
[0018] 本實(shí)用新型可有效提1?吹掃效率，縮短機(jī)臺(tái)的保養(yǎng)時(shí)間，提1?機(jī)臺(tái)的利用率，提1? 經(jīng)濟(jì)效益；同時(shí)節(jié)約了人力。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0019] 通過(guò)閱讀參照以下附圖對(duì)非限制性實(shí)施例所作的詳細(xì)描述，本實(shí)用新型及其特 征、外形和優(yōu)點(diǎn)將會(huì)變得更明顯。在全部附圖中相同的標(biāo)記指示相同的部分。并未刻意按 照比例繪制附圖，重點(diǎn)在于示出本實(shí)用新型的主旨。
[0020] 圖1為為本實(shí)用新型一種氮?dú)獯祾哐b置的截面圖。

【具體實(shí)施方式】
[0021] 在下文的描述中，給出了大量具體的細(xì)節(jié)以便提供對(duì)本實(shí)用新型更為徹底的理 解。然而，對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言顯而易見(jiàn)的是，本實(shí)用新型可以無(wú)需一個(gè)或多個(gè)這些細(xì) 節(jié)而得以實(shí)施。在其他的例子中，為了避免與本實(shí)用新型發(fā)生混淆，對(duì)于本領(lǐng)域公知的一些 技術(shù)特征未進(jìn)行描述。
[0022] 應(yīng)當(dāng)理解的是，本實(shí)用新型能夠以不同形式實(shí)施，而不應(yīng)當(dāng)解釋為局限于這里提 出的實(shí)施例。相反地，提供這些實(shí)施例將使公開徹底和完全，并且將本實(shí)用新型的范圍完全 地傳遞給本領(lǐng)域技術(shù)人員。在附圖中，為了清楚，層和區(qū)的尺寸以及相對(duì)尺寸可能被夸大。 自始至終相同附圖標(biāo)記表示相同的元件。
[0023] 應(yīng)當(dāng)明白，當(dāng)元件或?qū)颖环Q為"在...上"、"與...相鄰"、"連接到"或"耦合到"其 它元件或?qū)訒r(shí)，其可以直接地在其它元件或?qū)由?、與之相鄰、連接或耦合到其它元件或?qū)樱?或者可以存在居間的元件或?qū)?。相反，?dāng)元件被稱為"直接在...上"、"與...直接相鄰"、 "直接連接到"或"直接耦合到"其它元件或?qū)訒r(shí)，則不存在居間的元件或?qū)?。?yīng)當(dāng)明白，盡管 可使用術(shù)語(yǔ)第一、第二、第三等描述各種元件、部件、區(qū)、層和/或部分，這些元件、部件、區(qū)、 層和/或部分不應(yīng)當(dāng)被這些術(shù)語(yǔ)限制。這些術(shù)語(yǔ)僅僅用來(lái)區(qū)分一個(gè)元件、部件、區(qū)、層或部 分與另一個(gè)元件、部件、區(qū)、層或部分。因此，在不脫離本實(shí)用新型教導(dǎo)之下，下面討論的第 一元件、部件、區(qū)、層或部分可表示為第二元件、部件、區(qū)、層或部分。
[0024] 空間關(guān)系術(shù)語(yǔ)例如"在...下"、"在...下面"、"下面的"、"在...之下"、"在...之 上"、"上面的"等，在這里可為了方便描述而被使用從而描述圖中所示的一個(gè)元件或特征與 其它元件或特征的關(guān)系。應(yīng)當(dāng)明白，除了圖中所示的取向以外，空間關(guān)系術(shù)語(yǔ)意圖還包括使 用和操作中的器件的不同取向。例如，如果附圖中的器件翻轉(zhuǎn)，然后，描述為"在其它元件下 面"或"在其之下"或"在其下"元件或特征將取向?yàn)樵谄渌蛱卣?上"。因此，示例性 術(shù)語(yǔ)"在...下面"和"在...下"可包括上和下兩個(gè)取向。器件可以另外地取向（旋轉(zhuǎn)90 度或其它取向）并且在此使用的空間描述語(yǔ)相應(yīng)地被解釋。
[0025] 在此使用的術(shù)語(yǔ)的目的僅在于描述具體實(shí)施例并且不作為本實(shí)用新型的限制。在 此使用時(shí)，單數(shù)形式的"一"、"一個(gè)"和"所述/該"也意圖包括復(fù)數(shù)形式，除非上下文清楚 指出另外的方式。還應(yīng)明白術(shù)語(yǔ)"組成"和/或"包括"，當(dāng)在該說(shuō)明書中使用時(shí)，確定所述 特征、整數(shù)、步驟、操作、元件和/或部件的存在，但不排除一個(gè)或更多其它的特征、整數(shù)、步 驟、操作、元件、部件和/或組的存在或添加。在此使用時(shí)，術(shù)語(yǔ)"和/或"包括相關(guān)所列項(xiàng) 目的任何及所有組合。
[0026] 為了徹底理解本實(shí)用新型，將在下列的描述中提出詳細(xì)的步驟以及詳細(xì)的結(jié)構(gòu)， 以便闡釋本實(shí)用新型的技術(shù)方案。本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例詳細(xì)描述如下，然而除了這些 詳細(xì)描述外，本實(shí)用新型還可以具有其他實(shí)施方式。
[0027] 本實(shí)用新型提供了一種氮?dú)獯祾哐b置，應(yīng)用于氣體分灑盤的保養(yǎng)工藝中。參照?qǐng)D 1所示，該氮?dú)獯祾哐b置包括一可分離式機(jī)體，其包括有下部機(jī)體1和上部機(jī)體2,下部機(jī)體 1和上部機(jī)體2均為不銹鋼材質(zhì)，且下部機(jī)體1和上部機(jī)體2為活動(dòng)連接。具體的為，下部 機(jī)體1和上部機(jī)體2的通過(guò)一合頁(yè)3活動(dòng)連接，并且在下部機(jī)體1和上部機(jī)體2之間還設(shè) 置有一鎖扣4,通過(guò)鎖扣4來(lái)將下部機(jī)體1和上部機(jī)體2進(jìn)行固定。
[0028] 在一個(gè)可選的實(shí)施方式中，該上部機(jī)體2設(shè)置有一把手5,該把手5通過(guò)焊接方式 固定在上部機(jī)體2上。由于下部機(jī)體1和上部機(jī)體2的通過(guò)合頁(yè)3活動(dòng)連接，當(dāng)需要利用該 氮?dú)獯祾哐b置進(jìn)行清洗時(shí)，操作人員通過(guò)把手5將氮?dú)獯祾哐b置掀開，然后將氣體分灑盤4 放置在氮?dú)獯祾哐b置內(nèi)部，之后再利用鎖扣4將下部機(jī)體1和上部機(jī)體2進(jìn)行固定。
[0029] 在一個(gè)可選的實(shí)施方式中，在下部機(jī)體1的內(nèi)壁固定設(shè)置有支撐塊6,該支撐塊6 用于放置氣體分灑盤11。進(jìn)一步的，每個(gè)支撐塊6還設(shè)置有彈簧7，一方面用于固定氣體分 灑盤11 ;另一方面通過(guò)該彈簧7還可實(shí)現(xiàn)對(duì)不同尺寸的氣體分灑盤11進(jìn)行固定，進(jìn)而可以 實(shí)現(xiàn)對(duì)不同尺寸的氣體分灑盤11進(jìn)行清潔。該氣體分灑盤11為在CVD工藝所不可或缺的 一個(gè)重要部件，其作用為將氣體在氣體分灑盤進(jìn)行分流后再進(jìn)行沉積工藝，從而保證沉積 的薄膜厚度更加均勻，從而提升工藝。
[0030] 在一個(gè)可選的實(shí)施方式中，上部機(jī)體2的頂部設(shè)置有至少一個(gè)開口 8,且各開口 8 均設(shè)置有一氣動(dòng)閥9,各氣動(dòng)閥9均連接至一氣泵（圖中未予以標(biāo)示），通過(guò)各開口 8處的 氣動(dòng)閥9來(lái)控制氣泵是否通入氣體對(duì)氣體分灑盤11進(jìn)行清洗保養(yǎng)。
[0031] 在一個(gè)可選的實(shí)施方式中，該上部機(jī)體2內(nèi)壁之間設(shè)置有一可拆卸式氮?dú)獯祾?盤，氮?dú)獯祾弑P均勻設(shè)置有若干氣體噴嘴12,且各氣體噴嘴12為可拆卸式氣體噴嘴，根據(jù) 實(shí)際需求來(lái)對(duì)氮?dú)獯祾弑P的部分或全部氣體噴嘴12進(jìn)行更換。例如所有的氣體噴嘴12底 部均位于同一水平高度，進(jìn)而保證對(duì)氣體分灑盤11表面進(jìn)行均勻的吹掃；又或者部分氣體 噴嘴12相比較其他的氣體噴嘴較長(zhǎng)，則意味著該部分氣體噴嘴12距離氣體分灑盤11更 近，可實(shí)現(xiàn)對(duì)氣體分灑盤11的局部位置處進(jìn)行重點(diǎn)清洗。在此需要注意的是，在實(shí)際使用 過(guò)程中，需要保證氣體分灑盤11與氣體噴嘴12之間的距離大于10mm。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng) 當(dāng)理解，在上部機(jī)體2內(nèi)壁之間固定設(shè)置噴嘴6也可用其他實(shí)施方式進(jìn)行替代，例如采用過(guò) 濾網(wǎng)或者不在上部機(jī)體2的內(nèi)壁之間設(shè)置任何部件，在上部機(jī)體2內(nèi)壁之間設(shè)置氣體噴嘴 12只是為了進(jìn)一步提高氣體流通的均勻性，根據(jù)實(shí)際需求也可以不設(shè)置任何組件對(duì)本實(shí)用 新型并不影響。其中，上述的氣體噴嘴12選用具有耐酸耐磨耐腐蝕材料的特氟龍。
[0032] 在一個(gè)可選的實(shí)施方式中，該上部機(jī)體2的外壁還固定有一定時(shí)器10,通過(guò)記時(shí) 器10可控制氣動(dòng)閥9,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)對(duì)氣泵進(jìn)行控制。該定時(shí)器10設(shè)置有一顯示屏，可用于顯 示氣泵通入氣體的時(shí)間，同時(shí)還可通過(guò)該定時(shí)器10設(shè)定一個(gè)時(shí)間，當(dāng)氣泵通入氣體的時(shí)間 到達(dá)該時(shí)間時(shí)，則會(huì)自動(dòng)關(guān)閉氣動(dòng)閥9,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化清洗。
[0033] 綜上所述，由于本實(shí)用新型采用了如上技術(shù)方案，可有效提高吹掃效率，縮短機(jī)臺(tái) 的保養(yǎng)時(shí)間，提高機(jī)臺(tái)的利用率，提高經(jīng)濟(jì)效益；同時(shí)節(jié)約了人力。
[0034] 以上對(duì)本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例進(jìn)行了描述。需要理解的是，本實(shí)用新型并不局 限于上述特定實(shí)施方式，其中未盡詳細(xì)描述的設(shè)備和結(jié)構(gòu)應(yīng)該理解為用本領(lǐng)域中的普通方 式予以實(shí)施；任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案范圍情況下，都可 利用上述揭示的方法和技術(shù)內(nèi)容對(duì)本實(shí)用新型技術(shù)方案作出許多可能的變動(dòng)和修飾，或修 改為等同變化的等效實(shí)施例，這并不影響本實(shí)用新型的實(shí)質(zhì)內(nèi)容。因此，凡是未脫離本實(shí)用 新型技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所做的任何簡(jiǎn)單修改、等 同變化及修飾，均仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1. 一種氮?dú)獯祾哐b置，應(yīng)用于氣體分灑盤的保養(yǎng)工藝中，其特征在于，所述氮?dú)獯祾哐b 置包括一可分離式機(jī)體，該可分離式機(jī)體包括下部機(jī)體和上部機(jī)體，所述下部機(jī)體與所述 上部機(jī)體活動(dòng)連接； 所述下部機(jī)體的內(nèi)壁設(shè)置有支撐塊，用于固定所述氣體分灑盤； 所述上部機(jī)體的頂部設(shè)置有若干開口，且各所述開口均設(shè)置有一氣動(dòng)閥，所述氣動(dòng)閥 連接一氣泵，用于輸送氣體至所述氮?dú)獯祾哐b置； 所述上部機(jī)體的內(nèi)壁之間設(shè)置有一可拆卸式氮?dú)獯祾弑P。
2. 如權(quán)利要求1所述的氮?dú)獯祾哐b置，其特征在于，所述下部機(jī)體和上部機(jī)體通過(guò)合 頁(yè)活動(dòng)連接，且所述下部機(jī)體和上部機(jī)體通過(guò)鎖扣進(jìn)行固定。
3. 如權(quán)利要求1所述的氮?dú)獯祾哐b置，其特征在于，所述氮?dú)獯祾哐b置還包括一記時(shí) 器，所述記時(shí)器固定設(shè)于所述上部機(jī)體外壁，通過(guò)所述記時(shí)器來(lái)控制所述氣動(dòng)閥。
4. 如權(quán)利要求1所述的氮?dú)獯祾哐b置，其特征在于，所述氮?dú)獯祾弑P均勻設(shè)置有若干 氣體噴嘴，且各所述氣體噴嘴為可拆卸式氣體噴嘴。
5. 如權(quán)利要求4所述的氮?dú)獯祾哐b置，其特征在于，所述氣體噴嘴的材質(zhì)為特氟龍。
6. 如權(quán)利要求4所述的氮?dú)獯祾哐b置，其特征在于，各所述支撐塊均設(shè)置有彈簧，用于 固定不同尺寸的氣體分灑盤。
7. 如權(quán)利要求6所述的氮?dú)獯祾哐b置，其特征在于，所述氣體分灑盤與所述氣體噴嘴 之間的距離大于1〇_。
8. 如權(quán)利要求1所述的氮?dú)獯祾哐b置，其特征在于，所述上部機(jī)體設(shè)置有一把手，所述 把手焊接固定在所述上部機(jī)體上。
9. 如權(quán)利要求1所述的氮?dú)獯祾哐b置，其特征在于，所述上部機(jī)體和所述下部機(jī)體均 為不銹鋼材質(zhì)。
【文檔編號(hào)】C23C16/44GK203999808SQ201420365542
【公開日】2014年12月10日 申請(qǐng)日期:2014年7月2日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月2日
【發(fā)明者】姜再培 申請(qǐng)人:武漢新芯集成電路制造有限公司