線性磁控濺射陰極均勻供氣系統(tǒng)管路的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種線性磁控濺射陰極均勻供氣系統(tǒng)管路，包括供氣底管路座、供氣管路蓋板、一級(jí)分氣管路、二級(jí)分氣管路、三級(jí)分氣管路、四級(jí)分氣管路和緩沖布?xì)庋b置，所述一級(jí)分氣管路分為兩路，所述二級(jí)分氣管路為一路分為兩路的分路構(gòu)成，所述三級(jí)分氣管路為一路分為兩路的分路構(gòu)成，所述四級(jí)分氣管路為一路分為兩路的分路構(gòu)成，多路所述四級(jí)分氣管路分別連接多個(gè)緩沖布?xì)庋b置。本實(shí)用新型提供了一種線性磁控濺射陰極均勻供氣系統(tǒng)管路，采用了多級(jí)一分二均氣裝置，達(dá)到了多次均勻分氣的效果，同時(shí)采用緩沖布?xì)庋b置將進(jìn)入真空室內(nèi)的濺射工作氣體和工藝氣體進(jìn)行均勻分布可以實(shí)現(xiàn)氣體的有效均勻分布和均勻控制。
【專利說明】線性磁控濺射陰極均勻供氣系統(tǒng)管路

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種大面積磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，尤其涉及一種線性磁控濺射陰極均勻供氣系統(tǒng)管路。

【背景技術(shù)】
[0002]大面積磁控濺射鍍膜技術(shù)廣泛用于建筑、電子、光電、光學(xué)、太陽能、裝飾和半導(dǎo)體等高新技術(shù)行業(yè)，成為生產(chǎn)低輻射膜玻璃(Low-Ε膜玻璃)、陽光控制玻璃、絕緣硅膜、光電顯示氧化氧化銦錫(ITO)透明導(dǎo)電膜、硅基太陽能電池和銅銦鎵硒太陽能電池?fù)戒X氧化鋅(AZO)透明導(dǎo)電膜、氧化鋅(ZnO)透明導(dǎo)電膜、大面積鋁鏡和大面積彩鏡等產(chǎn)品的生產(chǎn)關(guān)鍵技術(shù)，在實(shí)際的生產(chǎn)控制方面鍍膜厚度的均勻性是決定產(chǎn)品性能和生產(chǎn)產(chǎn)能的關(guān)鍵因素，而在大面積磁控濺射沉積膜層厚度均勻性的影響因數(shù)中工作氣體氬氣(Ar)和工藝氣體氧氣(02)等的混合氣體在線性陰極的線性方向均勻布置是一個(gè)關(guān)鍵的問題?，F(xiàn)有的大面積連續(xù)磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的鍍膜供氣系統(tǒng)都是一級(jí)均勻布?xì)獾倪M(jìn)氣方式，氣體的分布是線性的，不能達(dá)到均勻布?xì)獾男Ч?br> 實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]本實(shí)用新型的目的就在于為了解決上述問題而提供一種線性磁控濺射陰極均勻供氣系統(tǒng)管路。
[0004]本實(shí)用新型通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)上述目的:
[0005]線性磁控濺射陰極均勻供氣系統(tǒng)管路，包括供氣底管路座和供氣管路蓋板，還包括一級(jí)分氣管路、二級(jí)分氣管路、三級(jí)分氣管路、四級(jí)分氣管路和緩沖布?xì)庋b置，所述一級(jí)分氣管路分為兩路，所述二級(jí)分氣管路為一路分為兩路的分路構(gòu)成，所述三級(jí)分氣管路為一路分為兩路的分路構(gòu)成，所述四級(jí)分氣管路為一路分為兩路的分路構(gòu)成，多路所述四級(jí)分氣管路分別連接多個(gè)緩沖布?xì)庋b置。
[0006]具體地，所述緩沖布?xì)庋b置包括緩沖室、擋氣板和均勻布?xì)夤堋?br> [0007]進(jìn)一步地，所述供氣底管路座、所述供氣管路蓋板和所述供氣系統(tǒng)管路的緊固件均為非磁性材料。
[0008]作為優(yōu)選，所述供氣底管路座、所述供氣管路蓋板和所述供氣系統(tǒng)管路的緊固件均為航空壓縮鋁材、304不銹鋼或航空鈦板材。
[0009]本實(shí)用新型的有益效果在于:
[0010]本實(shí)用新型提供了線性磁控濺射陰極均勻供氣系統(tǒng)管路，采用了多級(jí)一分二均氣裝置，達(dá)到了多次均勻分氣的效果，同時(shí)采用緩沖布?xì)庋b置將進(jìn)入真空室內(nèi)的濺射工作氣體和工藝氣體進(jìn)行均勻分布可以實(shí)現(xiàn)氣體的有效均勻分布和均勻控制。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0011]圖1為本實(shí)用新型線性磁控濺射陰極均勻供氣系統(tǒng)管路的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012]圖2為圖1中的A-A剖面示意圖；
[0013]圖3為圖1中的B-B剖面示意圖。
[0014]圖中:1-一級(jí)分氣管路，2-二級(jí)分氣管路，3-三級(jí)分氣管路，4-四級(jí)分氣管路，5-緩沖室，6-擋氣板，7-均勻布?xì)夤堋?br>
【具體實(shí)施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明:
[0016]如圖1、圖2和圖3所示，本實(shí)用新型線性磁控濺射陰極均勻供氣系統(tǒng)管路，包括供氣底管路座、供氣管路蓋板、一級(jí)分氣管路1、二級(jí)分氣管路2、三級(jí)分氣管路3、四級(jí)分氣管路4和緩沖布?xì)庋b置，一級(jí)分氣管路I分為兩路，二級(jí)分氣管路2為一路分為兩路的分路構(gòu)成，三級(jí)分氣管路3為一路分為兩路的分路構(gòu)成，四級(jí)分氣管路4為一路分為兩路的分路構(gòu)成，多路四級(jí)分氣管路4分別連接多個(gè)緩沖布?xì)庋b置，緩沖布?xì)庋b置包括緩沖室5、擋氣板6和均勻布?xì)夤?。供氣底管路座、供氣管路蓋板和供氣系統(tǒng)管路的緊固件均為航空壓縮鋁材、304不銹鋼或航空鈦板材。
[0017]一級(jí)分氣管路1、二級(jí)分氣管路2、三級(jí)分氣管路3、四級(jí)分氣管路4可以根據(jù)實(shí)際的陰極長度進(jìn)行適當(dāng)增減但不少于兩級(jí)。
[0018]上面的實(shí)施例僅僅是對(duì)本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行描述，并非對(duì)本實(shí)用新型的范圍進(jìn)行限定，在不脫離本實(shí)用新型設(shè)計(jì)精神前提下，本領(lǐng)域普通工程技術(shù)人員對(duì)本實(shí)用新型技術(shù)方案做出的各種變形和改進(jìn)，均應(yīng)落入本實(shí)用新型的權(quán)利要求書確定的保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.線性磁控濺射陰極均勻供氣系統(tǒng)管路，包括供氣底管路座和供氣管路蓋板，其特征在于:還包括一級(jí)分氣管路、二級(jí)分氣管路、三級(jí)分氣管路、四級(jí)分氣管路和緩沖布?xì)庋b置，所述一級(jí)分氣管路分為兩路，所述二級(jí)分氣管路為一路分為兩路的分路構(gòu)成，所述三級(jí)分氣管路為一路分為兩路的分路構(gòu)成，所述四級(jí)分氣管路為一路分為兩路的分路構(gòu)成，多路所述四級(jí)分氣管路分別連接多個(gè)緩沖布?xì)庋b置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線性磁控濺射陰極均勻供氣系統(tǒng)管路，其特征在于:所述緩沖布?xì)庋b置包括緩沖室、擋氣板和均勻布?xì)夤堋?br> 3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線性磁控濺射陰極均勻供氣系統(tǒng)管路，其特征在于:所述供氣底管路座、所述供氣管路蓋板和所述供氣系統(tǒng)管路的緊固件均為非磁性材料。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的線性磁控濺射陰極均勻供氣系統(tǒng)管路，其特征在于:所述供氣底管路座、所述供氣管路蓋板和所述供氣系統(tǒng)管路的緊固件均為航空壓縮鋁材、304不銹鋼或航空鈦板材。
【文檔編號(hào)】C23C14/35GK203960321SQ201420253843
【公開日】2014年11月26日 申請(qǐng)日期:2014年5月19日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月19日
【發(fā)明者】郭愛云 申請(qǐng)人:紅安華州光電科技有限公司