鍍膜基片架的制作方法
【專(zhuān)利摘要】一種鍍膜基片架，包括基板、形成于基板上的固定座、以及連接于固定座上的壓桿，所述基板上形成有凹槽用于裝載基片，所述壓桿用于抵壓基片，所述固定座形成于凹槽的側(cè)邊，包括磁石、支架、以及磁性轉(zhuǎn)塊，所述支架連接于基板上，所述磁性轉(zhuǎn)塊可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接于支架上，與磁石相對(duì)應(yīng)并與其磁性相吸，所述壓桿連接于所述磁性轉(zhuǎn)塊上并隨所述磁性轉(zhuǎn)塊轉(zhuǎn)動(dòng)以靠近或遠(yuǎn)離基板，本實(shí)用新型鍍膜基片架通過(guò)設(shè)置磁石以及磁性轉(zhuǎn)塊，利用磁性吸引力使壓桿維持在特定的狀態(tài)，方便地裝載或取出基片，整個(gè)操作過(guò)程無(wú)需專(zhuān)人維持壓桿的位置，單個(gè)操作人員即可輕易地完成整個(gè)操作過(guò)程，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作方便、省時(shí)省力，大大提高生產(chǎn)效率。
【專(zhuān)利說(shuō)明】鍍膜基片架
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及鍍膜技術(shù)，尤其涉及一種固定基片的鍍膜基片架。
【背景技術(shù)】
[0002]鍍膜技術(shù)是在真空條件下采用物理或化學(xué)的方法在物體表面上形成各種膜層，被廣泛地應(yīng)用于耐酸、耐蝕、耐熱、表面硬化、裝飾、潤(rùn)滑、光電通訊、電子集成、能源等領(lǐng)域。在進(jìn)行鍍膜之前，需要將待鍍膜的基片裝卡固定于鍍膜基片架上，而在鍍膜完成之后需要取出基片，基片的裝載與取出相當(dāng)浪費(fèi)人力，嚴(yán)重影響生產(chǎn)效率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]有鑒于此，提供一種可以方便、可靠裝載與取出基片的鍍膜基片架。
[0004]一種鍍膜基片架，包括基板、形成于基板上的固定座、以及連接于固定座上的壓桿，所述基板上形成有凹槽用于裝載基片，所述壓桿用于抵壓基片，所述固定座形成于凹槽的側(cè)邊，包括磁石、支架、以及磁性轉(zhuǎn)塊，所述支架連接于基板上，所述磁性轉(zhuǎn)塊可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接于支架上，與磁石相對(duì)應(yīng)并與其磁性相吸，所述壓桿連接于所述磁性轉(zhuǎn)塊上并隨所述磁性轉(zhuǎn)塊轉(zhuǎn)動(dòng)以靠近或遠(yuǎn)離基板。
[0005]進(jìn)一步地，所述磁性轉(zhuǎn)塊呈L形，包括相互垂直的內(nèi)壓塊與外壓塊，樞軸穿過(guò)所述內(nèi)壓塊與外壓塊的連接部位將所述磁性轉(zhuǎn)塊可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接于支架上，所述樞軸平行于固定座對(duì)應(yīng)的凹槽的側(cè)邊。
[0006]進(jìn)一步地，所述支架上形成有缺口，所述樞軸的兩端固定連接于缺口的兩側(cè)。
[0007]進(jìn)一步地，所述磁石對(duì)應(yīng)于所述缺口設(shè)置，所述樞軸位于磁石的中部。
[0008]進(jìn)一步地，所述壓桿上連接有彈片用于抵壓基片。
[0009]進(jìn)一步地，所述凹槽的每一側(cè)邊設(shè)有至少一固定座。
[0010]相較于現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型鍍膜基片架通過(guò)設(shè)置磁石以及磁性轉(zhuǎn)塊，利用磁性吸引力使壓桿維持在特定的狀態(tài)，方便地裝載或取出基片，整個(gè)操作過(guò)程無(wú)需專(zhuān)人維持壓桿的位置，單個(gè)操作人員即可輕易地完成整個(gè)操作過(guò)程，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作方便、省時(shí)省力，同時(shí)還可避免在走架過(guò)程中基片掉落，大大提高生產(chǎn)效率。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0011]圖1為本實(shí)用新型鍍膜基片架的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]圖2為圖1中圈II的放大圖。
[0013]圖3為本實(shí)用新型鍍膜基片架的固定結(jié)構(gòu)的剖視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0014]以下將結(jié)合附圖及【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
[0015]如圖1所示，本實(shí)用新型鍍膜基片架用于在鍍膜過(guò)程中固定基片，包括基板10、形成于基板10上的固定座20、以及連接于固定座20上的壓桿30。
[0016]所述基板10呈方形薄板狀結(jié)構(gòu)，其正面的中央設(shè)有若干凹槽12，每一凹槽12位置對(duì)應(yīng)可放置一個(gè)基片，也就是說(shuō)所述基板10上可以同時(shí)裝載多個(gè)基片進(jìn)行鍍膜。本實(shí)施例中，所述凹槽12呈陣列狀排布，可以理解地，所述凹槽12并不限于本實(shí)施例所示結(jié)構(gòu)，其數(shù)量、排布可以根據(jù)需要做相應(yīng)改變。
[0017]請(qǐng)同時(shí)參閱圖2及圖3，所述固定座20形成于凹槽12的側(cè)邊位置，每一凹槽12的每一側(cè)邊至少形成有一固定座20。本實(shí)施例中，每一凹槽12的每一側(cè)邊形成有兩個(gè)固定座20。所述固定座20結(jié)構(gòu)相同，每一固定座20包括支架22、磁性轉(zhuǎn)塊24、以及磁石26。所述基板10上形成有凹陷，所述磁石26收容于基板10的凹陷內(nèi)，磁石26具有一定的寬度。
[0018]所述支架22固定連接于基板10上并抵壓于所述磁石26之上，將磁石26固定于基板10上。所述支架22的中部形成有缺口，所述缺口正對(duì)所述磁石26。所述缺口內(nèi)連接有樞軸23，樞軸23的兩端固定連接于支架22的缺口的兩側(cè)。所述樞軸23平行于固定座20對(duì)應(yīng)所在凹槽12的側(cè)邊，對(duì)應(yīng)于磁石26的中央位置。所述磁性轉(zhuǎn)塊24通過(guò)樞軸23可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接于支架22上且位于磁石26的正上方。本實(shí)施例中，所述磁性轉(zhuǎn)塊24呈L形，包括大致相互垂直的內(nèi)壓塊241與外壓塊243，所述樞軸23穿過(guò)所述內(nèi)壓塊241與外壓塊243的連接部位，從而所述磁性轉(zhuǎn)塊24可以相對(duì)支架22轉(zhuǎn)動(dòng)使其內(nèi)壓塊241或外壓塊243與磁石26靠近或遠(yuǎn)離。
[0019]所述壓桿30連接于所述固定座20的磁性轉(zhuǎn)塊24的內(nèi)壓塊241上，并可隨所述磁性轉(zhuǎn)塊24轉(zhuǎn)動(dòng)。所述壓桿30上連接有彈片，可以提供一定的彈性力。
[0020]本實(shí)用新型鍍膜基片架用于基片鍍膜時(shí)，首先向外旋轉(zhuǎn)固定座20的磁性轉(zhuǎn)塊24使內(nèi)壓塊241垂直于基板10而外壓塊243平行于基板10，同時(shí)帶動(dòng)與磁性轉(zhuǎn)塊24的內(nèi)壓塊241相連的壓桿30向外翻轉(zhuǎn)尚開(kāi)基板10,此時(shí)外壓塊243靠近所述磁石26并與磁石26相吸，通過(guò)磁石26對(duì)磁性轉(zhuǎn)塊24的外壓塊243的吸引力使壓桿30維持在外翻與基板10分離的狀態(tài)，如此可以方便地將基片裝載至基板10的凹槽12位置上。
[0021]在基片裝載完成后，向內(nèi)旋轉(zhuǎn)所述磁性轉(zhuǎn)塊24使其外壓塊243克服磁石26的吸引力向內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)，直至外壓塊243呈垂直狀而內(nèi)壓塊241平行于基板10，所述磁性轉(zhuǎn)塊24向內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí)帶動(dòng)所述壓桿30向內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)，使壓桿30上的彈片抵壓裝載于基板10上的基片，此時(shí)內(nèi)壓塊241靠近所述磁石26并與磁石26相吸，通過(guò)磁石26對(duì)磁性轉(zhuǎn)塊24的內(nèi)壓塊241的吸引力使壓桿30維持在抵壓基片的狀態(tài)，如此在隨后的鍍膜過(guò)程中使基片維持在固定位置上，保證鍍膜的質(zhì)量。另外，由于所述壓桿30上連接有彈片，在轉(zhuǎn)動(dòng)壓桿30抵壓基片的過(guò)程中所述彈片可以提供一定的緩沖，避免對(duì)基片造成損傷。在壓桿30完全抵壓于基片上時(shí)，所述彈片還能對(duì)基片提供一定的彈性回復(fù)力，使基片固定在預(yù)定位置。
[0022]當(dāng)基片完成鍍膜之后，同樣地，僅需向外轉(zhuǎn)動(dòng)固定座20的磁性轉(zhuǎn)塊24，使壓桿30維持在與基片分離的狀態(tài)，即可方便地取出完成鍍膜的基片，進(jìn)行后續(xù)動(dòng)作。本實(shí)用新型磁性基片架通過(guò)設(shè)置磁石26以及磁性轉(zhuǎn)塊24，利用磁性吸引力使壓桿30維持在特定的狀態(tài)，方便地裝載或取出基片，整個(gè)操作過(guò)程無(wú)需專(zhuān)人維持壓桿30的位置，單個(gè)操作人員即可輕易地完成整個(gè)操作過(guò)程，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作方便、省時(shí)省力，同時(shí)還可避免在走架過(guò)程中基片掉落，大大提高生產(chǎn)效率。
[0023]需要說(shuō)明的是，本實(shí)用新型并不局限于上述實(shí)施方式，根據(jù)本實(shí)用新型的創(chuàng)造精神，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可以做出其他變化，這些依據(jù)本實(shí)用新型的創(chuàng)造精神所做的變化，都應(yīng)包含在本實(shí)用新型所要求保護(hù)的范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種鍍膜基片架，包括基板、形成于基板上的固定座、以及連接于固定座上的壓桿，所述基板上形成有凹槽用于裝載基片，所述壓桿用于抵壓基片，其特征在于，所述固定座形成于凹槽的側(cè)邊，包括磁石、支架、以及磁性轉(zhuǎn)塊，所述支架連接于基板上，所述磁性轉(zhuǎn)塊可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接于支架上，與磁石相對(duì)應(yīng)并與其磁性相吸，所述壓桿連接于所述磁性轉(zhuǎn)塊上并隨所述磁性轉(zhuǎn)塊轉(zhuǎn)動(dòng)以靠近或遠(yuǎn)離基板。
2.如權(quán)利要求1所述的鍍膜基片架，其特征在于，所述磁性轉(zhuǎn)塊呈L形，包括相互垂直的內(nèi)壓塊與外壓塊，樞軸穿過(guò)所述內(nèi)壓塊與外壓塊的連接部位將所述磁性轉(zhuǎn)塊可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接于支架上，所述樞軸平行于固定座對(duì)應(yīng)的凹槽的側(cè)邊。
3.如權(quán)利要求2所述的鍍膜基片架，其特征在于，所述支架上形成有缺口，所述樞軸的兩端固定連接于缺口的兩側(cè)。
4.如權(quán)利要求3所述的鍍膜基片架，其特征在于，所述磁石對(duì)應(yīng)于所述缺口設(shè)置，所述樞軸位于磁石的中部。
5.如權(quán)利要求1所述的鍍膜基片架，其特征在于，所述壓桿上連接有彈片用于抵壓基片。
6.如權(quán)利要求1、中任意一項(xiàng)所述的鍍膜基片架,其特征在于,所述凹槽的每一側(cè)邊設(shè)有至少一固定座。
【文檔編號(hào)】C23C16/458GK203741408SQ201420067351
【公開(kāi)日】2014年7月30日 申請(qǐng)日期:2014年2月14日 優(yōu)先權(quán)日:2014年2月14日
【發(fā)明者】徐旻生, 莊炳河, 張永祺, 張永勝, 王應(yīng)斌, 龔文志 申請(qǐng)人:愛(ài)發(fā)科豪威光電薄膜科技(深圳)有限公司