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一種從粗銦提純出oled用高純銦的方法

文檔序號(hào):3320213閱讀:534來(lái)源:國(guó)知局
一種從粗銦提純出oled用高純銦的方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種從粗銦提純出OLED用高純銦的方法,該方法是在真空條件下,對(duì)粗銦依次在540~560℃,690~710℃,740~760℃,990~1010℃,進(jìn)行4個(gè)溫度區(qū)段的蒸餾:得到6N高純銦;該制備方法操作簡(jiǎn)單、流程短,低成本,以粗銦為原料高效提純出6N金屬銦。
【專(zhuān)利說(shuō)明】一種從粗銦提純出OLED用高純銦的方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種從粗銦提純出OLED用高純銦的方法,屬于金屬銦分離提純【技術(shù)領(lǐng)域】。

【背景技術(shù)】
[0002]一、材料的性質(zhì)
[0003]銦屬于稀有金屬,地殼中平均含量為0.11 μ g/g,銦廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、電子器件、透明導(dǎo)電涂層(ΙΤ0膜)、熒光材料、金屬有機(jī)物等領(lǐng)域。這些領(lǐng)域所使用的銦都要求是高純的(5N以上)。
[0004]銦因其光滲透性和導(dǎo)電性強(qiáng),主要用于生產(chǎn)ITO靶材(用于生產(chǎn)液晶顯示器和平板屏幕),這一用途是銦的主要消費(fèi)領(lǐng)域,占全球銦消費(fèi)量的70% ;其次的幾個(gè)消費(fèi)領(lǐng)域分別是:電子半導(dǎo)體領(lǐng)域,占全球消費(fèi)量的12% ;焊料和合金領(lǐng)域占12% ;研究行業(yè)占6%。另因?yàn)槠漭^軟的性質(zhì)在某些需填充金屬的行業(yè)上也用于壓縫,如:較高溫度下的真空縫隙填充材料。
[0005]銦具有熔點(diǎn)低(156.61°C ),沸點(diǎn)高(2080°C )的特性,粗銦中一般含有Cd、Zn、Sb、Tl、B1、Pb等雜質(zhì),現(xiàn)有技術(shù)難以將這些雜質(zhì)金屬進(jìn)行分離。
[0006]二、現(xiàn)有提純技術(shù)
[0007]I)電解法:包括制備粗銦陽(yáng)極,根據(jù)工藝要求配備電解液和電解。電解液中使用了 NaCl,溶液呈堿性,不可避免的帶入了堿金屬或堿土金屬離子,影響氧化銦的純度。
[0008]2)化學(xué)法:用強(qiáng)酸(硫酸)浸出得到硫酸銦,再用鋅粉置換硫酸銦液體,得到金屬銦,該方法采用了強(qiáng)酸,危險(xiǎn)性大,且采用化學(xué)法一般是用于粗銦的提純,得到的銦的純度不高,一般< 95%,且化學(xué)法工藝復(fù)雜、勞動(dòng)強(qiáng)度大。。
[0009]3)先電解再真空蒸餾法:由純凈水、分析純濃硫酸、4N金屬銦、高純氯化鈉和分析純明膠配成硫酸銦電解液,在超凈條件下采用兩次電解再真空蒸餾電解銦獲得5N(99.999% )?7Ν(99.99999% )高純銦。該方法所需原材料為4Ν的金屬銦,對(duì)原材料要求高,且該方法需兩次電解,時(shí)間長(zhǎng),生產(chǎn)效率低下,不適合大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)。
[0010]上述方法或者雜質(zhì)含量高、或者工藝復(fù)雜、或者生產(chǎn)效率低下,在工業(yè)化生產(chǎn)過(guò)程中均存在一定的問(wèn)題。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0011]針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中提純銦的方法存在的缺陷,本發(fā)明的目的是在于提供一種操作簡(jiǎn)單、流程短,低成本,以粗銦為原料高效提純出6Ν金屬銦的方法。
[0012]本發(fā)明提供了一種從粗銦提純出OLED用高純銦的方法,該方法是在真空度為3?1Pa的真空條件下,對(duì)粗銦依次進(jìn)行4個(gè)溫度區(qū)段的蒸餾:在540?560°C,蒸餾100?120min,在 690 ?710°C,蒸餾 40 ?60min,在 740 ?760°C,蒸餾 80 ?lOOmin,在 990 ?1010°C,蒸餾40?60min,得到6N高純銦。
[0013]優(yōu)選的方法是在真空度為3?1Pa的真空條件下,對(duì)粗銦依次進(jìn)行4個(gè)溫度區(qū)段的蒸懼:在545?555°C,蒸懼105?IlOmin,在695?705°C,蒸懼45?55min,在745?755°C,蒸餾85?95min,在995?1005°C,蒸餾45?55min,得到6N高純銦。
[0014]本發(fā)明的粗銦為純度在95%的粗銦,包含鎘、鋅、銻、鉈、鉍和鉛在內(nèi)的雜質(zhì)。
[0015]本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明通過(guò)嚴(yán)格控制真空蒸餾分離的壓強(qiáng)及溫度條件,將95%的粗銦進(jìn)行4個(gè)溫區(qū)逐步升溫真空蒸餾,能有效將銦與包含鎘、鋅、銻、鉈、鉍和鉛在內(nèi)的雜質(zhì)有效分離,得到6N金屬銦。該方法操作簡(jiǎn)單,流程短,成本低,易于產(chǎn)業(yè)化。

【具體實(shí)施方式】
[0016]以下實(shí)施例旨在進(jìn)一步說(shuō)明本發(fā)明的內(nèi)容,而不是限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。
[0017]實(shí)施例1
[0018]取50g粗銦(99.5% ),放入石墨方舟中,然后將方舟放在管式真空爐中,抽真空至 10Pa,在 545°C、705°C、755°C、995°C 四個(gè)溫度下分別保持 110min、45min、90min、45min,真空蒸餾后得高純銦41.06g,用電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS)和電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(ICP-OES)測(cè)得其質(zhì)量含量大于99.9999%。產(chǎn)品中具體雜質(zhì)含量如下:單位(ppm)Fe0.005,Zn0.005,Cd0.009,Mg0.005,A10.005,As0.003,Ag0.003,N1.002,Cu0.002,Pb0.008,T10.007,S1.01,S0.005,Sn0.012。
[0019]實(shí)施例2
[0020]取50g粗銦(99.5% ),放入石墨方舟中,然后將方舟放在管式真空爐中,抽真空至 5Pa,在 555°C、696°C、753°C、1000°C 四個(gè)溫度下分別保持 105min、50min、88min、48min,真空蒸餾后得高純銦41.23g,用電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS)和電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(ICP-OES)測(cè)得其質(zhì)量含量大于99.9999%。產(chǎn)品中具體雜質(zhì)含量如下:單位(ppm)Fe0.005,Zn0.004,Cd0.008,Mg0.004,A10.005,As0.003,Ag0.003,N1.003,Cu0.003,Pb0.006,T10.006,S1.01,S0.004,Sn0.010。
[0021]實(shí)施例3
[0022]取50g粗銦(99.5% ),放入石墨方舟中,然后將方舟放在管式真空爐中,抽真空至 8Pa,在 542°C、692°C、758°C、1008°C 四個(gè)溫度下分別保持 100min、60min、88min、48min,真空蒸餾后得高純銦40.13g,用電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS)和電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(ICP-OES)測(cè)得其質(zhì)量含量大于99.9999%。產(chǎn)品中具體雜質(zhì)含量如下:單位(ppm)Fe0.006,Zn0.005,Cd0.008,Mg0.005,A10.005,As0.005,Ag0.003,N1.003,Cu0.004,Pb0.007,T10.006,S1.02,S0.004,Sn0.010。
[0023]從實(shí)施例1?3中可以看出,在本發(fā)明選擇的四個(gè)溫區(qū)內(nèi)及真空條件下,進(jìn)行適當(dāng)時(shí)間的真空蒸餾,能從粗銦中直接獲得6N高純銦。
[0024]對(duì)比實(shí)施例1
[0025]取50g粗銦(99.5% ),放入石墨方舟中,然后將方舟放在管式真空爐中,抽真空至10Pa,在55(TC、100(rC兩個(gè)溫度下分別保持105min、45min,真空蒸餾后得高純銦45.08g,用電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS)和電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(ICP-OES)測(cè)得其質(zhì)量含量大于99.99%。產(chǎn)品中具體雜質(zhì)含量如下:單位(ppm)Fe0.9,Zn0.8,Cdl, Mg0.8,A10.6,As0.3,Ag0.3,N1.3,Cu0.3,Pb0.6,T10.6,Sil.5,S0.6,Sn2。
[0026]對(duì)比實(shí)施例2
[0027]取50g粗銦(99.5% ),放入石墨方舟中,然后將方舟放在管式真空爐中,抽真空至10Pa,在550°C、75(TC、l(KKrC三個(gè)溫度下分別保持100min、80min、40min,真空蒸餾后得高純銦43.62g,用電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS)和電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(ICP-OES)測(cè)得其質(zhì)量含量大于99.999%。產(chǎn)品中具體雜質(zhì)含量如下:單位(ppm)Fe0.08,Zn0.06,Cd0.09,Mg0.07,A10.05,As0.04,Ag0.05,N1.01,Cu0.04,Pb0.09,T10.09,S1.1,S0.04,Sn0.15。
[0028]對(duì)比實(shí)施例3
[0029]取50g粗銦(99.5% ),放入石墨方舟中,然后將方舟放在管式真空爐中,抽真空至 10Pa,在 530°C、720°C、77(TC、95(rC 四個(gè)溫度下分別保持 100min、60min、88min、48min,真空蒸餾后得高純銦42.53g,用電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS)和電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(ICP-OES)測(cè)得其質(zhì)量含量大于99.999%。產(chǎn)品中具體雜質(zhì)含量如下:單位(ppm) Fe0.07,Zn0.07,Cd0.08,Mg0.06,A10.05,As0.03,Ag0.06,N1.01,Cu0.04,Pb0.08,T10.09,S1.09,S0.05,Sn0.15。
[0030]從對(duì)比實(shí)施例1?3來(lái)看,分兩個(gè)溫區(qū)或三個(gè)溫區(qū)來(lái)對(duì)粗銦進(jìn)行提純,或者按4個(gè)溫區(qū),但沒(méi)有按本發(fā)明的溫區(qū)梯度進(jìn)行真空蒸餾都得不到6N高純銦。
【權(quán)利要求】
1.一種從粗銦提純出OLED用高純銦的方法,其特征在于,在真空度為3?1Pa的真空條件下,對(duì)粗銦依次進(jìn)行4個(gè)溫度區(qū)段的蒸餾:在540?560°C,蒸餾100?120min,在690 ?710°C,蒸餾 40 ?60min,在 740 ?760°C,蒸餾 80 ?lOOmin,在 990 ?1010°C,蒸餾40?60min,得到6N高純銦。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,在真空度為3?1Pa的真空條件下,對(duì)粗銦依次進(jìn)行4個(gè)溫度區(qū)段的蒸懼:在545?555°C,蒸懼105?IlOmin,在695?705°C,蒸懼45 ?55min,在 745 ?755°C,蒸餾 85 ?95min,在 995 ?1005°C,蒸餾 45 ?55min,得到 6N高純銦。
3.如權(quán)利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述的粗銦為純度在95%的粗銦,包含鎘、鋅、銻、鉈、鉍和鉛在內(nèi)的雜質(zhì)。
【文檔編號(hào)】C22B58/00GK104263957SQ201410478356
【公開(kāi)日】2015年1月7日 申請(qǐng)日期:2014年9月18日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月18日
【發(fā)明者】趙科湘 申請(qǐng)人:株洲科能新材料有限責(zé)任公司
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