有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備，包括真空蒸鍍室和自動(dòng)控制系統(tǒng)。在本發(fā)明提供的真空蒸鍍?cè)O(shè)備中，各模塊通過(guò)收集真空蒸鍍室內(nèi)各項(xiàng)參數(shù)信號(hào)，并將各項(xiàng)參數(shù)信號(hào)發(fā)送給控制總機(jī)，所述控制總機(jī)根據(jù)預(yù)設(shè)的各項(xiàng)參數(shù)對(duì)收到的各項(xiàng)參數(shù)信號(hào)進(jìn)行處理得到反饋信號(hào)，并將該反饋信號(hào)反饋給相應(yīng)的控制模塊，相應(yīng)的控制模塊再根據(jù)相應(yīng)的反饋信號(hào)對(duì)相應(yīng)的部件進(jìn)行自動(dòng)調(diào)控，實(shí)現(xiàn)有機(jī)材料真空鍍膜的自動(dòng)控制，不僅節(jié)省了大量人力，更重要的是能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)有機(jī)材料真空蒸鍍過(guò)程的有效監(jiān)測(cè)，實(shí)現(xiàn)了有機(jī)材料真空蒸鍍精度、品質(zhì)和速度的提高。
【專利說(shuō)明】有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于真空蒸鍍【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]在過(guò)去十年里，有機(jī)發(fā)光二極管、有機(jī)太陽(yáng)能電池和有機(jī)薄膜晶體管等有機(jī)光電器件得到了學(xué)術(shù)界與企業(yè)界的廣泛關(guān)注。經(jīng)過(guò)科研人員的不斷努力，有機(jī)光電器件的相關(guān)技術(shù)得到了長(zhǎng)足的發(fā)展，有機(jī)光電器件產(chǎn)業(yè)正在迅速形成并不斷成熟和壯大。同時(shí)，國(guó)際國(guó)內(nèi)市場(chǎng)對(duì)高性能、高品質(zhì)有機(jī)光電器件的需求正在與日俱增。令人欣慰的是，我國(guó)在有機(jī)光電器件領(lǐng)域的基礎(chǔ)研究非常扎實(shí)，材料合成與器件設(shè)計(jì)的理念與國(guó)際一流水平基本同步，甚至在某些具體方面具有一定的優(yōu)勢(shì)。可惜的是，國(guó)內(nèi)的相關(guān)研發(fā)項(xiàng)目一直沒(méi)有給予器件制備工藝足夠的重視，從而導(dǎo)致我國(guó)的有機(jī)光電器件制造裝備研發(fā)進(jìn)展緩慢，其相關(guān)產(chǎn)業(yè)的規(guī)模和能力與我國(guó)龐大的有機(jī)光電器件產(chǎn)業(yè)不匹配，無(wú)法滿足這一新興產(chǎn)業(yè)對(duì)制造裝備的需求。因而，我國(guó)有機(jī)光電器件的研發(fā)與推廣長(zhǎng)期依賴從國(guó)外進(jìn)口相關(guān)制造裝備，這一困局嚴(yán)重制約了我國(guó)有機(jī)光電器件產(chǎn)業(yè)全面均衡發(fā)展。
[0003]長(zhǎng)期以來(lái)，困擾我國(guó)有機(jī)光電器件制造裝備產(chǎn)業(yè)成長(zhǎng)與發(fā)展的一個(gè)重要問(wèn)題是欠缺有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備與相關(guān)工藝技術(shù)。沒(méi)有精密的、可靠的有機(jī)蒸鍍?cè)O(shè)備與工藝技術(shù)做保障，就無(wú)法獲得高品質(zhì)、高性能的有機(jī)光電器件。通常，有機(jī)材料的真空蒸鍍通過(guò)在真空氛圍下電阻加熱有機(jī)材料，然后控制溫度及加熱功率等條件來(lái)調(diào)節(jié)有機(jī)薄膜的生長(zhǎng)速率和界面形貌。近年來(lái)，歐美日韓等國(guó)家都在積極研發(fā)有機(jī)光電器件制造裝備，其中美國(guó)科特萊斯科公司、德國(guó)布勞恩公司、日本索尼/松下公司、韓國(guó)三星公司都已經(jīng)推出自主設(shè)計(jì)的適用于產(chǎn)業(yè)化的有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備，并且普遍已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了自動(dòng)化控制。目前，國(guó)產(chǎn)的有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備缺少對(duì)有機(jī)材料真空蒸鍍過(guò)程的有效監(jiān)測(cè)與自動(dòng)控制，在具體的操作過(guò)程中需要依賴技術(shù)人員的經(jīng)驗(yàn)和感覺(jué)，從而造成有機(jī)材料真空蒸鍍進(jìn)程精度較低、損耗嚴(yán)重；同時(shí)，由于無(wú)法自動(dòng)控制有機(jī)材料真空蒸鍍進(jìn)程，導(dǎo)致不同批次器件的性能存在很大的差異。另外，由于缺少精密的對(duì)接與傳送技術(shù)，有機(jī)材料真空蒸鍍過(guò)程非常緩慢無(wú)法實(shí)現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)，滿足不了日益增長(zhǎng)的產(chǎn)業(yè)化需求。
[0004]綜上所述，如何提供一種有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備，以實(shí)現(xiàn)對(duì)有機(jī)材料真空蒸鍍過(guò)程的有效監(jiān)控，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)在提高有機(jī)光電器件性能、品質(zhì)和制備速度的同時(shí)減少制造工藝對(duì)不同批次器件性能造成的偏差，是目前本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的技術(shù)問(wèn)題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于提供一種有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備，本發(fā)明提供的有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)自動(dòng)控制有機(jī)材料的真空蒸鍍過(guò)程，提高有機(jī)材料真空蒸鍍的精密度，從而提聞?dòng)袡C(jī)光電器件的性能。
[0006]本發(fā)明提供了一種有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備，包括真空蒸鍍室和自動(dòng)控制系統(tǒng)；
[0007]其中，所述真空蒸鍍室包括:[0008]腔體；
[0009]與所述腔體相通的抽真空設(shè)備；
[0010]設(shè)置在所述腔體內(nèi)、用于加熱蒸發(fā)源的電阻加熱束源爐，所述電阻加熱束源爐上方設(shè)置有第一擋板；
[0011]與所述電阻加熱束源爐對(duì)應(yīng)設(shè)置的襯底平臺(tái)，所述襯底平臺(tái)上設(shè)置有第二擋板；
[0012]設(shè)置在所述腔體內(nèi)的掩膜版儲(chǔ)倉(cāng)；
[0013]與所述掩膜版儲(chǔ)倉(cāng)相連、用于輸送掩膜版并使所述掩膜版與襯底對(duì)接或分離的掩膜版對(duì)接系統(tǒng)；
[0014]與所述腔體相通、用于傳送襯底并使所述襯底與所述襯底平臺(tái)連接或分離的機(jī)械傳送交接系統(tǒng)，所述機(jī)械傳送交接系統(tǒng)與所述襯底平臺(tái)相連接；
[0015]所述自動(dòng)控制系統(tǒng)包括:控制總機(jī)，分別與所述控制總機(jī)相連的真空系統(tǒng)控制模塊、膜厚監(jiān)測(cè)控制模塊、束源爐溫控模塊、襯底平臺(tái)控制模塊、傳送交接控制模塊、掩膜版對(duì)接模塊和擋板監(jiān)控模塊；其中，
[0016]所述真空系統(tǒng)控制模塊用于采集所述腔體內(nèi)的真空度信號(hào)并將所述真空度信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及用于接收所述控制總機(jī)依據(jù)所述真空度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)所述反饋信號(hào)控制抽真空設(shè)備；
[0017]所述膜厚監(jiān)測(cè)控制模塊用于采集蒸發(fā)源的蒸發(fā)速度信號(hào)和膜厚度信號(hào)，并將所述蒸發(fā)速度信號(hào)和所述膜厚度信號(hào)發(fā)送給所述控`制總機(jī)；
[0018]所述束源爐溫控模塊用于采集束源爐的溫度信號(hào)并將所述溫度信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及用于接收所述控制總機(jī)依據(jù)所述溫度信號(hào)和所述蒸發(fā)速度信號(hào)和/或膜厚度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)所述反饋信號(hào)控制束源爐；
[0019]所述襯底平臺(tái)控制模塊用于采集襯底平臺(tái)的高度信號(hào)、位置信號(hào)、溫度信號(hào)和轉(zhuǎn)速信號(hào)并將所述高度信號(hào)、位置信號(hào)、溫度信號(hào)和轉(zhuǎn)速信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及用于接收所述控制總機(jī)分別依據(jù)所述高度信號(hào)、位置信號(hào)、溫度信號(hào)和轉(zhuǎn)速信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)各反饋信號(hào)控制襯底平臺(tái)；
[0020]所述傳送交接模塊用于接收所述控制總機(jī)發(fā)送的控制信號(hào)，并根據(jù)所述控制信號(hào)控制機(jī)械傳送交接系統(tǒng)；
[0021]所述掩膜版對(duì)接模塊用于采集掩膜版的位置信號(hào)并將所述位置信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及用于接收所述控制總機(jī)依據(jù)所述掩膜版的位置信號(hào)和襯底平臺(tái)的位置信號(hào)所生成的反饋信號(hào)，并根據(jù)所述反饋信號(hào)控制掩膜版對(duì)接系統(tǒng)；
[0022]所述擋板監(jiān)控模塊用于接收所述控制總機(jī)發(fā)送的開(kāi)啟信號(hào)和關(guān)閉信號(hào)，以及接收所述控制總機(jī)分別依據(jù)所述蒸發(fā)速度信號(hào)和所述膜厚度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)所述開(kāi)啟信號(hào)、關(guān)閉信號(hào)和反饋信號(hào)控制第一擋板和第二擋板。
[0023]優(yōu)選的，所述自動(dòng)控制系統(tǒng)還包括與所述控制總機(jī)相連的運(yùn)行檢測(cè)模塊，所述運(yùn)行檢測(cè)模塊用于采集真空系統(tǒng)控制模塊、膜厚監(jiān)測(cè)控制模塊、束源爐溫控模塊、襯底平臺(tái)控制模塊、傳送交接控制模塊、掩膜版對(duì)接模塊和擋板監(jiān)控模塊的異常信號(hào)并將所述異常信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及用于接收所述控制總機(jī)依據(jù)所述異常信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并將所述反饋信號(hào)發(fā)送給相應(yīng)模塊。
[0024]優(yōu)選的，所述抽真空設(shè)備包括:通過(guò)機(jī)械泵閥門與所述腔體相通的機(jī)械泵和通過(guò)分子泵閥門與所述抽真空閥門相通的分子泵；
[0025]所述真空系統(tǒng)控制模塊包括:分別與所述控制總機(jī)相連的真空計(jì)和抽真空控制模塊；
[0026]所述真空計(jì)用于采集所述腔體內(nèi)的真空度信號(hào)并將所述真空度信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)；
[0027]所述抽真空控制模塊用于接收所述控制總機(jī)依據(jù)所述真空度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)所述反饋信號(hào)控制機(jī)械泵或分子泵。
[0028]優(yōu)選的，所述膜厚監(jiān)測(cè)控制模塊包括分別與控制總機(jī)相連的蒸發(fā)速度探測(cè)器和膜厚探測(cè)器，所述蒸發(fā)速度探測(cè)器用于采集蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率信號(hào)并將所述蒸發(fā)速率發(fā)送給控制總機(jī)；所述膜厚探測(cè)器用于采集襯底上生長(zhǎng)的膜的厚度信號(hào)并將所述厚度信號(hào)發(fā)送給控制總機(jī)。
[0029]優(yōu)選的，所述襯底平臺(tái)控制模塊包括分別與控制總機(jī)相連的高度控制模塊、位置控制模塊、溫度控制模塊和轉(zhuǎn)速控制模塊，所述高度控制模塊用于采集襯底平臺(tái)的高度信號(hào)，并將所述高度信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及接收所述控制總機(jī)根據(jù)預(yù)設(shè)的襯底平臺(tái)的高度和所述高度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并根據(jù)所述反饋信號(hào)控制襯底平臺(tái)；所述位置控制模塊用于采集襯底平臺(tái)的位置信號(hào)，并將所述位置信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及接收所述控制總機(jī)根據(jù)預(yù)設(shè)的襯底平臺(tái)的位置和所述位置信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并根據(jù)所述反饋信號(hào)控制襯底平臺(tái)；所述溫度控制模塊用于采集襯底平臺(tái)的溫度信號(hào)，并將所述溫度信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及接收所述控制總機(jī)根據(jù)預(yù)設(shè)的襯底平臺(tái)的溫度和所述溫度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并根據(jù)所述反饋信號(hào)控制襯底平臺(tái)；所述轉(zhuǎn)速控制模塊用于采集襯底平臺(tái)的轉(zhuǎn)速信號(hào)，并將所述轉(zhuǎn)速信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及接收所述控制總機(jī)根據(jù)預(yù)設(shè)的襯底平臺(tái)的轉(zhuǎn)速和所述轉(zhuǎn)速信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并根據(jù)所述反饋信號(hào)控制襯底平臺(tái)。
[0030]優(yōu)選的，所述擋板監(jiān)控模塊包括第一擋板監(jiān)控模塊和第二擋板監(jiān)控模塊，所述第一擋板監(jiān)控模塊和第二擋板監(jiān)控模塊分別與所述控制總機(jī)相連；
[0031]第一擋板監(jiān)控模塊用于接收所述控制總機(jī)發(fā)送的開(kāi)啟信號(hào)和關(guān)閉信號(hào)，以及接收所述控制總機(jī)分別依據(jù)所述蒸發(fā)速度信號(hào)和所述膜厚度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)所述開(kāi)啟信號(hào)、關(guān)閉信號(hào)和反饋信號(hào)控制第一擋板；
[0032]第二擋板控制模塊用于接收所述控制總機(jī)發(fā)送的開(kāi)啟信號(hào)和關(guān)閉信號(hào)，以及接收所述控制總機(jī)分別依據(jù)所述蒸發(fā)速度信號(hào)和所述膜厚度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)所述開(kāi)啟信號(hào)、關(guān)閉信號(hào)和反饋信號(hào)控制第二擋板。
[0033]優(yōu)選的，還包括與控制總機(jī)相連的工作模式切換模塊，所述工作模式切換模塊用于接收控制總機(jī)發(fā)送的切換信號(hào)并根據(jù)該切換信號(hào)進(jìn)行手動(dòng)工作模式和全自動(dòng)工作模式的切換。
[0034]優(yōu)選的，還包括與所述控制總機(jī)相連的閥門監(jiān)控模塊，所述閥門監(jiān)控模塊用于接收控制總機(jī)發(fā)送的控制信號(hào)并依據(jù)該控制信號(hào)控制閥門。
[0035]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備包括真空蒸鍍室和自動(dòng)控制系統(tǒng)，其中，所述真空蒸鍍室包括:腔體；與所述腔體相通的抽真空設(shè)備；設(shè)置在所述腔體內(nèi)、用于加熱蒸發(fā)源的電阻加熱束源爐，所述電阻加熱束源爐上方設(shè)置有第一擋板；與所述電阻加熱束源爐對(duì)應(yīng)設(shè)置的襯底平臺(tái)，所述襯底平臺(tái)上設(shè)置有第二擋板；設(shè)置在所述腔體內(nèi)的掩膜版儲(chǔ)倉(cāng)；與所述掩膜版儲(chǔ)倉(cāng)相連、用于輸送掩膜版并使所述掩膜版與襯底對(duì)接或分離的掩膜版對(duì)接系統(tǒng)；與所述腔體相通、用于傳送襯底并使所述襯底與所述襯底平臺(tái)連接或分離的機(jī)械傳送交接系統(tǒng)，所述機(jī)械傳送交接系統(tǒng)與所述襯底平臺(tái)相連接；所述自動(dòng)控制系統(tǒng)包括:控制總機(jī)，分別與所述控制總機(jī)相連的真空系統(tǒng)控制模塊、膜厚監(jiān)測(cè)控制模塊、束源爐溫控模塊、襯底平臺(tái)控制模塊、傳送交接控制模塊、掩膜版對(duì)接模塊和擋板監(jiān)控模塊；其中，所述真空系統(tǒng)控制模塊用于采集所述腔體內(nèi)的真空度信號(hào)并將所述真空度信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及用于接收所述控制總機(jī)依據(jù)所述真空度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)所述反饋信號(hào)控制抽真空設(shè)備；所述膜厚監(jiān)測(cè)控制模塊用于采集蒸發(fā)源的蒸發(fā)速度信號(hào)和膜厚度信號(hào)，并將所述蒸發(fā)速度信號(hào)和所述膜厚度信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)；所述束源爐溫控模塊用于采集束源爐的溫度信號(hào)并將所述溫度信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及用于接收所述控制總機(jī)依據(jù)所述溫度信號(hào)和所述蒸發(fā)速度信號(hào)和/或膜厚度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)所述反饋信號(hào)控制束源爐；所述襯底平臺(tái)控制模塊用于采集襯底平臺(tái)的高度信號(hào)、位置信號(hào)、溫度信號(hào)和轉(zhuǎn)速信號(hào)并將所述高度信號(hào)、位置信號(hào)、溫度信號(hào)和轉(zhuǎn)速信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及用于接收所述控制總機(jī)分別依據(jù)所述高度信號(hào)、位置信號(hào)、溫度信號(hào)和轉(zhuǎn)速信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)各反饋信號(hào)控制襯底平臺(tái)；所述傳送交接模塊用于接收所述控制總機(jī)發(fā)送的控制信號(hào)，并根據(jù)所述控制信號(hào)控制機(jī)械傳送交接系統(tǒng)；所述掩膜版對(duì)接模塊用于采集掩膜版的位置信號(hào)并將所述位置信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及用于接收所述控制總機(jī)依據(jù)所述掩膜版的位置信號(hào)和襯底平臺(tái)的位置信號(hào)所生成的反饋信號(hào)，并根據(jù)所述反饋信號(hào)控制掩膜版對(duì)接系統(tǒng)；所述擋板監(jiān)控模塊用于接收所述控制總機(jī)發(fā)送的開(kāi)啟信號(hào)和關(guān)閉信號(hào)，以及接收所述控制總機(jī)分別依據(jù)所述蒸發(fā)速度信號(hào)和所述膜厚度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)所述開(kāi)啟信號(hào)、關(guān)閉信號(hào)和反饋信號(hào)控制第一擋板和第二擋板。 [0036]在本發(fā)明提供的真空蒸鍍?cè)O(shè)備中，真空系統(tǒng)控制模塊、膜厚監(jiān)測(cè)控制模塊、束源爐溫控模塊、襯底平臺(tái)控制模塊、傳送交接控制模塊、掩膜版對(duì)接模塊和擋板監(jiān)控模塊等各模塊通過(guò)收集真空蒸鍍室內(nèi)束源爐溫度、蒸發(fā)速度、膜厚、襯底平臺(tái)溫度、襯底平臺(tái)轉(zhuǎn)速、襯底平臺(tái)高度、襯底平臺(tái)位置等各項(xiàng)參數(shù)信號(hào)，并將各項(xiàng)參數(shù)信號(hào)發(fā)送給控制總機(jī)，所述控制總機(jī)根據(jù)預(yù)設(shè)的各項(xiàng)參數(shù)對(duì)收到的各項(xiàng)參數(shù)信號(hào)進(jìn)行處理得到反饋信號(hào)，并將該反饋信號(hào)反饋給相應(yīng)的控制模塊，相應(yīng)的控制模塊再根據(jù)相應(yīng)的反饋信號(hào)對(duì)相應(yīng)的部件，如抽真空設(shè)備、束源爐、襯底平臺(tái)等進(jìn)行自動(dòng)調(diào)控，實(shí)現(xiàn)有機(jī)材料真空鍍膜的自動(dòng)控制，不僅節(jié)省了大量人力，更重要的是能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)有機(jī)材料真空蒸鍍過(guò)程的有效監(jiān)測(cè)，實(shí)現(xiàn)了有機(jī)材料真空蒸鍍精度、品質(zhì)和速度的提高。同時(shí)，本發(fā)明提供的有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備中，各控制模塊與控制總機(jī)相互作用，實(shí)現(xiàn)了對(duì)有機(jī)材料真空蒸鍍過(guò)程中蒸發(fā)速率、加熱溫度、膜厚度、襯底平臺(tái)和掩膜版的位置等參數(shù)的精密監(jiān)測(cè)和控制，在提高有機(jī)材料真空蒸鍍精度、品質(zhì)和速度的基礎(chǔ)上，提高有機(jī)光電器件的性能，減少不同批次器件的性能偏差。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0037]圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的真空蒸鍍室的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0038]圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備的自動(dòng)控制系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0039]本發(fā)明提供了一種有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備，包括真空蒸鍍室和自動(dòng)控制系統(tǒng)；
[0040]其中，所述真空蒸鍍室包括:
[0041]腔體；
[0042]與所述腔體相通的抽真空設(shè)備；
[0043]設(shè)置在所述腔體內(nèi)、用于加熱蒸發(fā)源的電阻加熱束源爐，所述電阻加熱束源爐上方設(shè)置有第一擋板；
[0044]與所述電阻加熱束源爐對(duì)應(yīng)設(shè)置的襯底平臺(tái)，所述襯底平臺(tái)上設(shè)置有第二擋板；
[0045]設(shè)置在所述腔體內(nèi)的掩膜版儲(chǔ)倉(cāng)；
[0046]與所述掩膜版儲(chǔ)倉(cāng)相連、用于輸送掩膜版并使所述掩膜版與襯底對(duì)接或分離的掩膜版對(duì)接系統(tǒng)；
[0047]與所述腔體相通、用于傳送襯底并使所述襯底與所述襯底平臺(tái)連接或分離的機(jī)械傳送交接系統(tǒng)，所述機(jī)械傳送交接系統(tǒng)與所述襯底平臺(tái)相連接；
[0048]所述自動(dòng)控制系統(tǒng)包括:控制總機(jī)，分別與所述控制總機(jī)相連的真空系統(tǒng)控制模塊、膜厚監(jiān)測(cè)控制模塊、束源爐溫控模塊、襯底平臺(tái)控制模塊、傳送交接控制模塊、掩膜版對(duì)接模塊和擋板監(jiān)控模塊；其中，
[0049]所述真空系統(tǒng)控制模塊用于采集所述腔體內(nèi)的真空度信號(hào)并將所述真空度信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及用于接收所述控制總機(jī)依據(jù)所述真空度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)所述反饋信號(hào)控制抽真空設(shè)備；
[0050]所述膜厚監(jiān)測(cè)控制模塊用于采集蒸發(fā)源的蒸發(fā)速度信號(hào)和膜厚度信號(hào)，并將所述蒸發(fā)速度信號(hào)和所述膜厚度信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)；
[0051]所述束源爐溫控模塊用于采集束源爐的溫度信號(hào)并將所述溫度信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及用于接收所述控制總機(jī)依據(jù)所述溫度信號(hào)和所述蒸發(fā)速度信號(hào)和/或膜厚度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)所述反饋信號(hào)控制束源爐；
[0052]所述襯底平臺(tái)控制模塊用于采集襯底平臺(tái)的高度信號(hào)、位置信號(hào)、溫度信號(hào)和轉(zhuǎn)速信號(hào)并將所述高度信號(hào)、位置信號(hào)、溫度信號(hào)和轉(zhuǎn)速信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及用于接收所述控制總機(jī)分別依據(jù)所述高度信號(hào)、位置信號(hào)、溫度信號(hào)和轉(zhuǎn)速信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)各反饋信號(hào)控制襯底平臺(tái)；
[0053]所述傳送交接控制模塊用于接收所述控制總機(jī)發(fā)送的控制信號(hào)，并根據(jù)所述控制信號(hào)控制機(jī)械傳送交接系統(tǒng)；
[0054]所述掩膜版對(duì)接模塊用于采集掩膜版的位置信號(hào)并將所述位置信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及用于接收所述控制總機(jī)依據(jù)所述掩膜版的位置信號(hào)和襯底平臺(tái)的位置信號(hào)所生成的反饋信號(hào)，并根據(jù)所述反饋信號(hào)控制掩膜版對(duì)接系統(tǒng)；
[0055]所述擋板監(jiān)控模塊用于接收所述控制總機(jī)發(fā)送的開(kāi)啟信號(hào)和關(guān)閉信號(hào)，以及接收所述控制總機(jī)分別依據(jù)所述蒸發(fā)速度信號(hào)和所述膜厚度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)所述開(kāi)啟信號(hào)、關(guān)閉信號(hào)和反饋信號(hào)控制第一擋板和第二擋板。
[0056]本發(fā)明提供的真空蒸鍍?cè)O(shè)備中，真空系統(tǒng)控制模塊、膜厚監(jiān)測(cè)控制模塊、束源爐溫控模塊、襯底平臺(tái)控制模塊、傳送交接控制模塊、掩膜版對(duì)接模塊和擋板監(jiān)控模塊等各模塊通過(guò)收集真空蒸鍍室內(nèi)束源爐溫度、蒸發(fā)速度、膜厚、襯底平臺(tái)溫度、襯底平臺(tái)轉(zhuǎn)速、襯底平臺(tái)高度、襯底平臺(tái)位置等各項(xiàng)參數(shù)信號(hào)，并將各項(xiàng)參數(shù)信號(hào)發(fā)送給控制總機(jī)，所述控制總機(jī)根據(jù)預(yù)設(shè)的各項(xiàng)參數(shù)對(duì)收到的各項(xiàng)參數(shù)信號(hào)進(jìn)行處理得到反饋信號(hào)，并將該反饋信號(hào)反饋給相應(yīng)的控制模塊，相應(yīng)的控制模塊再根據(jù)相應(yīng)的反饋信號(hào)對(duì)相應(yīng)的部件，如抽真空設(shè)備、束源爐、襯底平臺(tái)等進(jìn)行自動(dòng)調(diào)控，實(shí)現(xiàn)有機(jī)材料真空鍍膜的自動(dòng)控制，不僅節(jié)省了大量人力，更重要的是能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)有機(jī)材料真空蒸鍍過(guò)程的有效監(jiān)測(cè)，實(shí)現(xiàn)了有機(jī)材料真空蒸鍍精度、品質(zhì)和速度的提高。同時(shí)，本發(fā)明提供的有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備中，各控制模塊與控制總機(jī)相互作用，實(shí)現(xiàn)了對(duì)有機(jī)材料真空蒸鍍過(guò)程中蒸發(fā)速率、加熱溫度、膜厚度、襯底平臺(tái)和掩膜版的位置等參數(shù)的精密監(jiān)測(cè)和控制，在提高有機(jī)材料真空蒸鍍精度、品質(zhì)和速度的基礎(chǔ)上，提高有機(jī)光電器件的性能，減少不同批次器件的性能偏差。
[0057]本發(fā)明提供的有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備包括真空蒸鍍室和自動(dòng)控制系統(tǒng)，其中，真空蒸鍍室實(shí)現(xiàn)有機(jī)材料的真空蒸鍍，自動(dòng)控制系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)對(duì)有機(jī)材料真空蒸鍍過(guò)程的自動(dòng)控制。
[0058]在本發(fā)明中，所述真空蒸鍍室包括:
[0059]腔體；
[0060]與所述腔體相通 的抽真空設(shè)備；
[0061]設(shè)置在所述腔體內(nèi)、用于加熱蒸發(fā)源的電阻加熱束源爐，所述電阻加熱束源爐上方設(shè)置有第一擋板；
[0062]與所述電阻加熱束源爐對(duì)應(yīng)設(shè)置的襯底平臺(tái)，所述襯底平臺(tái)上設(shè)置有第二擋板；
[0063]設(shè)置在所述腔體內(nèi)的掩膜版儲(chǔ)倉(cāng)；
[0064]與所述掩膜版儲(chǔ)倉(cāng)相連、用于輸送掩膜版并使所述掩膜版與襯底對(duì)接或分離的掩膜版對(duì)接系統(tǒng)；
[0065]與所述腔體相通、用于傳送襯底并使所述襯底與所述襯底平臺(tái)連接或分離的機(jī)械傳送交接系統(tǒng)，所述機(jī)械傳送交接系統(tǒng)與所述襯底平臺(tái)相連接。
[0066]參見(jiàn)圖1，圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的真空蒸鍍室的結(jié)構(gòu)示意圖，其中，I為腔體，2為與腔體I相通的抽真空設(shè)備，3為設(shè)置在腔體內(nèi)的電阻加熱束源爐，31為設(shè)置在電阻加熱束源爐3上方的第一擋板，4為與電阻加熱束源爐對(duì)應(yīng)設(shè)置的襯底平臺(tái)，41為襯底平臺(tái)上方的第二擋板，5為掩膜版儲(chǔ)倉(cāng)，6為用于輸送掩膜版并使所述掩膜版與襯底對(duì)接或分離的掩膜版對(duì)接系統(tǒng)，7為用于傳送襯底并使所述襯底與所述襯底平臺(tái)連接或分離的機(jī)械傳送交接系統(tǒng)。
[0067]在本發(fā)明中，所述真空蒸鍍室包括腔體1，腔體I為真空蒸鍍提供場(chǎng)所，可以為圓柱體腔體或者長(zhǎng)方體腔體，其材質(zhì)可以為不銹鋼或者其他金屬材料，本發(fā)明對(duì)其并無(wú)特殊限制；本發(fā)明對(duì)其尺寸也無(wú)特殊限制，根據(jù)需要進(jìn)行調(diào)整即可。在本發(fā)明其他實(shí)施例中，腔體I上還設(shè)置有透明觀察窗，用于觀察腔體I內(nèi)的情況。
[0068]所述真空蒸鍍室還包括與腔體I相同的抽真空裝置2，其用于對(duì)腔體I抽真空。抽真空裝置2包括通過(guò)機(jī)械泵閥門與所述腔體相通的機(jī)械泵和通過(guò)分子泵閥門與所述抽真空閥門相通的分子泵，其中，機(jī)械泵作為分子泵的前級(jí)泵，用于預(yù)抽真空，當(dāng)真空度達(dá)到IOOPa時(shí)，由分子泵繼續(xù)進(jìn)行抽真空處理。在本發(fā)明中，機(jī)械泵可以為真空機(jī)械泵，其抽速至少為4L，優(yōu)選采用既能夠保證抽速又具有良好靜音、散熱性能的真空機(jī)械泵；分子泵可以為真空分子泵，其功率不低于600W，優(yōu)選采用既能夠保證抽速又具有良好靜音、散熱性能的真空分子泵。機(jī)械泵閥門和分子泵閥門均可以選用能夠精密控制抽真空速率的電磁閥、閘板閥、真空針閥或微調(diào)閥等。在本發(fā)明中，機(jī)械泵和分子泵可以通過(guò)兩個(gè)通道與腔體I相連通，也可以通過(guò)一個(gè)通道與腔體I相連通；在通過(guò)一個(gè)通道與腔體I相連通時(shí)，機(jī)械泵和分子泵也可以共用一個(gè)閥門，本發(fā)明并無(wú)特殊限制。
[0069]在本發(fā)明中，腔體I內(nèi)設(shè)置有電阻加熱束源爐3，電阻加熱束源爐3的作用在于加熱蒸發(fā)源。電阻加熱束源爐3采用電阻絲加熱的方式實(shí)現(xiàn)電阻加熱，具有陶瓷內(nèi)膽，不僅能夠絕緣而且能夠保溫，能夠保證快速加熱及快速冷卻，從而實(shí)現(xiàn)有機(jī)材料的蒸發(fā)。
[0070]電阻加熱束源爐3上方設(shè)置有第一擋板31，第一擋板31的作用在于通過(guò)開(kāi)啟和關(guān)閉實(shí)現(xiàn)對(duì)蒸發(fā)源的阻擋。在本實(shí)施例中，第一檔板31直接與腔體I的內(nèi)壁相連，與電阻加熱束源爐獨(dú)立設(shè)置，利于實(shí)現(xiàn)對(duì)其的自動(dòng)控制。
[0071]當(dāng)需要進(jìn)行兩種或兩種以上有機(jī)材料時(shí)，腔體I內(nèi)可設(shè)置相應(yīng)數(shù)量的束源爐，每個(gè)束源爐分別用于一種有機(jī)材料的真空蒸鍍。蒸鍍時(shí)，首先由蒸發(fā)速率最小的有機(jī)材料所在的束源爐進(jìn)行蒸鍍，然后按照蒸發(fā)速率由小到大的順序依次進(jìn)行蒸鍍。該兩個(gè)或兩個(gè)以上的束源爐與襯底平臺(tái)相對(duì)設(shè)置，調(diào)整襯底平臺(tái)的高度、位置等使蒸鍍時(shí)與相應(yīng)的束源爐相對(duì)即可。
[0072]在本發(fā)明中，襯底平臺(tái)4與電阻加熱束源爐3相對(duì)設(shè)置，用于安放生長(zhǎng)有機(jī)薄膜的襯底以及掩膜版。襯底平臺(tái)4包括與腔體I內(nèi)壁相連的支撐裝置和與支撐裝置相連的載物平臺(tái)，支撐裝置可自由伸縮，從而調(diào)整載物平臺(tái)的高度；支撐裝置可移動(dòng)，從而調(diào)節(jié)載物平臺(tái)的位置；載物平臺(tái)可以支撐裝置為軸進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，從而帶動(dòng)襯底旋轉(zhuǎn)。襯底平臺(tái)4還包括加熱裝置，該加熱裝置可對(duì)襯底平臺(tái)4上的載物平臺(tái)進(jìn)行加熱，為有機(jī)薄膜的生長(zhǎng)提供適宜的溫度。`
[0073]襯底平臺(tái)4上還設(shè)置有第二擋板41，第二擋板41通過(guò)開(kāi)啟與關(guān)閉控制有機(jī)材料在襯底上的生長(zhǎng)與結(jié)束。第二擋板41可以設(shè)置在襯底平臺(tái)4上，也可以獨(dú)立于襯底平臺(tái)4設(shè)置。其獨(dú)立于襯底平臺(tái)4設(shè)置時(shí)，只要能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)載物平臺(tái)的遮擋即可。
[0074]在本發(fā)明中，所述真空蒸鍍室還包括與腔體I相通的機(jī)械傳送交接系統(tǒng)7，所述機(jī)械傳送交接系統(tǒng)7在腔體I內(nèi)與襯底平臺(tái)4相連，用于將襯底輸送至襯底平臺(tái)4處，并將襯底安放于襯底平臺(tái)4上或者將生長(zhǎng)有有機(jī)薄膜的襯底與襯底平臺(tái)4分離并輸送出腔體I。在本發(fā)明中，所述機(jī)械傳送交接系統(tǒng)包括機(jī)械傳送帶和驅(qū)動(dòng)電機(jī)，此時(shí)，腔體I上設(shè)置有傳送通道，用于機(jī)械傳送帶的進(jìn)出。機(jī)械傳送帶在驅(qū)動(dòng)電機(jī)的作用下將襯底由腔體I外輸送至腔體I的襯底平臺(tái)4處，并將襯底安放于襯底平臺(tái)上。當(dāng)蒸鍍完成后,襯底平臺(tái)4上的襯底經(jīng)由機(jī)械傳送帶輸出腔體I進(jìn)行下一步處理。
[0075]腔體I內(nèi)還設(shè)置有掩膜版儲(chǔ)倉(cāng)5，其用于儲(chǔ)存掩膜版。本發(fā)明對(duì)所述掩膜版儲(chǔ)倉(cāng)5的位置沒(méi)有特殊限制，利于掩膜版的輸送、不影響有機(jī)材料在襯底上的蒸鍍即可。在掩膜版儲(chǔ)倉(cāng)5和襯底平臺(tái)4之間還設(shè)置有掩膜版對(duì)接系統(tǒng)6，其用于輸送掩膜版并使所述掩膜版與襯底對(duì)接。在本發(fā)明提供的實(shí)施例中，掩膜版對(duì)接系統(tǒng)6可以為機(jī)械傳送帶，將掩膜版儲(chǔ)倉(cāng)內(nèi)的掩膜版輸送至襯底平臺(tái)處，并與襯底平臺(tái)上的襯底相對(duì)接。當(dāng)掩膜版對(duì)接系統(tǒng)6和機(jī)械傳送交接系統(tǒng)7均為機(jī)械傳輸帶時(shí)，可以為同一個(gè)機(jī)械傳輸帶，該機(jī)械傳輸帶經(jīng)過(guò)襯底平臺(tái)和掩膜版儲(chǔ)倉(cāng)，當(dāng)需要安放襯底時(shí)，將襯底由腔體外輸送至襯底平臺(tái)；然后行進(jìn)至掩膜版儲(chǔ)倉(cāng)，負(fù)載掩膜版后將其輸送至襯底平臺(tái)處并與襯底對(duì)接。在其他實(shí)施例中，掩膜版對(duì)接系統(tǒng)6和機(jī)械傳送交接系統(tǒng)7可以為兩個(gè)獨(dú)立的系統(tǒng)，分別負(fù)責(zé)掩膜版的輸送和對(duì)接以及襯底的輸送和安放。
[0076]本發(fā)明提供的有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備還包括自動(dòng)控制系統(tǒng)，所述自動(dòng)控制系統(tǒng)包括:控制總機(jī)，分別與所述控制總機(jī)相連的真空系統(tǒng)控制模塊、膜厚監(jiān)測(cè)控制模塊、束源爐溫控模塊、襯底平臺(tái)控制模塊、傳送交接控制模塊、掩膜版對(duì)接模塊和擋板監(jiān)控模塊；其中，
[0077]所述真空系統(tǒng)控制模塊用于采集所述腔體內(nèi)的真空度信號(hào)并將所述真空度信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及用于接收所述控制總機(jī)依據(jù)所述真空度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)所述反饋信號(hào)控制抽真空設(shè)備；
[0078]所述膜厚監(jiān)測(cè)控制模塊用于采集蒸發(fā)源的蒸發(fā)速度信號(hào)和膜厚度信號(hào)，并將所述蒸發(fā)速度信號(hào)和所述膜厚度信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)；
[0079]所述束源爐溫控模塊用于采集束源爐的溫度信號(hào)并將所述溫度信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及用于接收所述控制總機(jī)依據(jù)所述溫度信號(hào)和所述蒸發(fā)速度信號(hào)和/或膜厚度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)所述反饋信號(hào)控制束源爐；
[0080]所述襯底平臺(tái)控制模塊用于采集襯底平臺(tái)的高度信號(hào)、位置信號(hào)、溫度信號(hào)和轉(zhuǎn)速信號(hào)并將所述高度信號(hào)、位置信號(hào)、溫度信號(hào)和轉(zhuǎn)速信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及用于接收所述控制總機(jī)分別依據(jù)所述高度信號(hào)、位置信號(hào)、溫度信號(hào)和轉(zhuǎn)速信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)各反饋信號(hào)控制襯底平臺(tái)；
[0081]所述傳送交接控制模塊用于接收所述控制總機(jī)依據(jù)所述真空度信號(hào)和襯底平臺(tái)的位置信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并根據(jù)所述反饋信號(hào)控制機(jī)械傳送交接系統(tǒng)；
[0082]所述掩膜版對(duì)接模塊用于采集掩膜版的位置信號(hào)并將所述位置信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及用于接收所述控制總機(jī)依據(jù)所述掩膜版的位置信號(hào)和襯底平臺(tái)的位置信號(hào)所生成的反饋信號(hào)，并根據(jù)所述反饋信號(hào)控制掩膜版對(duì)接系統(tǒng)；
[0083]所述擋板監(jiān)控模塊用于接收所述控制總機(jī)發(fā)送的開(kāi)啟信號(hào)和關(guān)閉信號(hào)，以及接收所述控制總機(jī)分別依據(jù)所述蒸發(fā)速度信號(hào)和所述膜厚度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)所述開(kāi)啟信號(hào)、關(guān)閉信號(hào)和反饋信號(hào)控制第一擋板和第二擋板。
[0084]參見(jiàn)圖2，圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備的自動(dòng)控制系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖，其中，101為控制總機(jī)，102為與所述控制總機(jī)相連的真空系統(tǒng)控制模塊，103為與所述控制總機(jī)相連的膜厚監(jiān)測(cè)控制模塊，104為與所述控制總機(jī)相連的束源爐溫控模塊，105為與所述控制總機(jī)相連的襯底平臺(tái)控制模塊；106為與所述控制總機(jī)相連的傳送交接控制模塊；107為與所述控制總機(jī)相連的掩膜版對(duì)接模塊；108為與所述控制總機(jī)相連的擋板監(jiān)控模塊。
[0085]所述自動(dòng)控制系統(tǒng)包括控制總機(jī)1，控制總機(jī)I可以為人機(jī)交互界面，可以進(jìn)行有機(jī)材料蒸鍍過(guò)程中各工藝參數(shù)和蒸鍍程序的設(shè)置，也可以接收上述各控制模塊采集并發(fā)送的信號(hào)，并根據(jù)預(yù)設(shè)的工藝參數(shù)和蒸鍍程度對(duì)接收到的信號(hào)進(jìn)行處理生成反饋信號(hào)，并將各反饋信號(hào)發(fā)送給相應(yīng)的控制模塊，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)有機(jī)材料真空蒸鍍過(guò)程的自動(dòng)控制。
[0086]所述自動(dòng)控制系統(tǒng)包括真空系統(tǒng)控制模塊102，真空系統(tǒng)控制模塊102用于采集所述腔體內(nèi)的真空度信號(hào)并將所述真空度信號(hào)發(fā)給控制總機(jī)101，控制總機(jī)接收所述真空度信號(hào)后，根據(jù)預(yù)設(shè)的抽真空程序以及真空度對(duì)該信號(hào)進(jìn)行處理，并生成反饋信號(hào)發(fā)送給真空系統(tǒng)控制模塊102 ;真空系統(tǒng)控制模塊102接收該反饋信號(hào)后，依據(jù)該反饋信號(hào)控制抽真空設(shè)備，例如控制抽真空設(shè)備的開(kāi)啟與關(guān)閉。
[0087]真空系統(tǒng)控制模塊102包括分別與所述控制總機(jī)相連的真空計(jì)和抽真空控制模塊；
[0088]所述真空計(jì)用于采集所述腔體內(nèi)的真空度信號(hào)并將所述真空度信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)；
[0089]所述抽真空控制模塊用于接收所述控制總機(jī)依據(jù)所述真空度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)所述反饋信號(hào)控制抽真空裝置。
[0090]在本發(fā)明中，所述真空計(jì)可以設(shè)置在腔體I內(nèi)部，用于采集腔體I內(nèi)的真空度信號(hào)。真空計(jì)可以采用復(fù)合真空計(jì)、電離真空計(jì)或石英真空計(jì)等能夠在低真空和高真空區(qū)間自動(dòng)切換并實(shí)現(xiàn)真空度信號(hào)數(shù)字化的真空計(jì)。所述真空計(jì)采集腔體I內(nèi)的真空度信號(hào)后，將其發(fā)送給控制總機(jī)1，控制總機(jī)I接收該真空度信號(hào)，并根據(jù)預(yù)設(shè)的真空度信號(hào)進(jìn)行處理后生成反饋信號(hào)，然后將該反饋信號(hào)發(fā)送給抽真空控制模塊；所述抽真空控制模塊接收所述反饋信號(hào)，并依據(jù)所述反饋信號(hào)控制抽真空裝置。
[0091]當(dāng)抽真空設(shè)備包括通過(guò)機(jī)械泵閥門與所述腔體相通的機(jī)械泵和通過(guò)分子泵閥門與所述抽真空閥門相通的分子泵時(shí)，所述抽真空控制模塊根據(jù)接收到的反饋信號(hào)分別控制所述機(jī)械泵和分子泵的開(kāi)啟與關(guān)閉，例如，當(dāng)腔體I內(nèi)真空度較低時(shí)，開(kāi)啟機(jī)械泵進(jìn)行抽真空；當(dāng)真空度降低至IOOPa時(shí)，關(guān)閉機(jī)械泵，開(kāi)啟分子泵進(jìn)行抽真空。
[0092]在本發(fā)明中，所述膜厚監(jiān)測(cè)控制模塊103用于采集蒸發(fā)源的蒸發(fā)速度信號(hào)和膜厚度信號(hào)，并將所述蒸發(fā)速度信號(hào)和所述膜厚度信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)。膜厚監(jiān)測(cè)控制模塊103采集腔體I內(nèi)蒸發(fā)源的蒸發(fā)速度和襯底上生長(zhǎng)的膜的厚度，并將所述蒸發(fā)速度信號(hào)和所述膜厚度信號(hào)發(fā)送給控制總機(jī)I。在有機(jī)材料蒸鍍過(guò)程中，蒸發(fā)源，即有機(jī)材料的蒸發(fā)速度穩(wěn)定后開(kāi)始蒸鍍才能夠得到厚度均勻的膜；當(dāng)膜厚達(dá)到預(yù)定數(shù)值時(shí)，即可停止蒸鍍。膜厚檢測(cè)控制模塊103在蒸鍍初期采集蒸發(fā)源的蒸發(fā)速度信號(hào)并將該蒸發(fā)速度信號(hào)發(fā)送給控制總機(jī)1，在蒸鍍后期采集襯底上生長(zhǎng)得到的膜的厚度信號(hào)并將該膜厚度信號(hào)發(fā)送給控制總機(jī)I。在本實(shí)施例中，膜厚監(jiān)測(cè)控制模塊103包括膜厚探測(cè)器，其設(shè)置在腔體I內(nèi)，可以設(shè)置在電阻加熱束源爐附近，此時(shí)，其監(jiān)測(cè)探頭的高度可以調(diào)整，以便進(jìn)行襯底上的膜厚度的監(jiān)測(cè)；也可以設(shè)置在襯底平臺(tái)附近，同樣的，其監(jiān)測(cè)探頭的高度也可以調(diào)整，以便進(jìn)行蒸發(fā)速度的監(jiān)測(cè)。在其他實(shí)施例中，膜厚監(jiān)測(cè)控制模塊103可以包括蒸發(fā)速度探測(cè)器和膜厚探測(cè)器，所述蒸發(fā)速度探測(cè)器用于采集蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率信號(hào)并將所述蒸發(fā)速率發(fā)送給控制總機(jī)；所述膜厚探測(cè)器用于采集襯底上生長(zhǎng)的膜的厚度信號(hào)并將所述厚度信號(hào)發(fā)送給控制總機(jī)。在本實(shí)施例中，膜厚探測(cè)器可以采用6M Hz的石英晶體振蕩器。
[0093]控制總機(jī)101接收到上述蒸發(fā)速度信號(hào)和/或膜厚度信號(hào)后，可以單獨(dú)對(duì)所述蒸發(fā)速度信號(hào)和/或膜厚度信號(hào)進(jìn)行處理生成反饋信號(hào)，也可以對(duì)蒸發(fā)速度信號(hào)和/或膜厚度信號(hào)以及其他信號(hào)綜合處理生成反饋信號(hào)。
[0094]在本發(fā)明中，所述束源爐溫控模塊104用于采集束源爐的溫度信號(hào)并將所述溫度信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及用于接收所述控制總機(jī)依據(jù)所述溫度信號(hào)和所述蒸發(fā)速度信號(hào)和/或膜厚度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)所述反饋信號(hào)控制束源爐。蒸鍍初始，束源爐升溫過(guò)程中，蒸發(fā)源的蒸發(fā)速度不穩(wěn)定，當(dāng)蒸發(fā)源的蒸發(fā)速度得到預(yù)定蒸鍍速率后，控制束源爐溫度穩(wěn)定開(kāi)始進(jìn)行蒸鍍；當(dāng)蒸鍍到預(yù)定的膜厚度時(shí)，束源爐開(kāi)始降溫直至熄滅。即，在蒸鍍初始，束源爐溫控模塊104采集電阻加熱束源爐的溫度信號(hào)，并將該溫度信號(hào)發(fā)送給控制總機(jī)101，控制總機(jī)101對(duì)該溫度信號(hào)進(jìn)行處理，同時(shí)根據(jù)預(yù)設(shè)的溫度生成反饋信號(hào)并發(fā)送給束源爐溫控模塊，束源爐溫控模塊根據(jù)該信號(hào)控制束源爐，使其快速升溫或者保持穩(wěn)定；當(dāng)蒸鍍即將結(jié)束時(shí)，控制總機(jī)根據(jù)接收到的蒸發(fā)速度信號(hào)和/或膜厚度信號(hào)生成反饋信號(hào)，并發(fā)送給束源爐溫控模塊104，束源爐溫控模塊104接收所述反饋信號(hào)后，根據(jù)所述反饋信號(hào)控制電阻加熱束源爐的關(guān)閉或者降溫速率等。在本實(shí)施例中，束源爐溫控模塊104包括用于采集束源爐溫度的溫度傳感器，其可以為熱偶探頭。
[0095]在其他實(shí)施例中，當(dāng)包括多個(gè)束源爐時(shí)，控制總機(jī)根據(jù)預(yù)設(shè)的蒸發(fā)速率生成相應(yīng)的控制信號(hào)，并發(fā)送給束源爐溫控模塊104 ;所述束源爐溫控模塊104接收控制總機(jī)的控制信號(hào)，首先控制蒸發(fā)速率最低的有機(jī)材料所在的束源爐，然后按照蒸發(fā)速率由低至高的順序依次控制各束源爐，控制方法與上文所述相同，本發(fā)明在此不再贅述。
[0096]在本發(fā)明中，所述襯底平臺(tái)控制模塊105用于采集襯底平臺(tái)的高度信號(hào)、位置信號(hào)、溫度信號(hào)和轉(zhuǎn)速信號(hào)并將所述高度信號(hào)、位置信號(hào)、溫度信號(hào)和轉(zhuǎn)速信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及用于接收所述控制總機(jī)分別依據(jù)所述高度信號(hào)、位置信號(hào)、溫度信號(hào)和轉(zhuǎn)速信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)各反饋信號(hào)控制襯底平臺(tái)。在本實(shí)施例中，所述襯底平臺(tái)控制模塊105包括高度控制模塊、位置控制模塊、溫度控制模塊和轉(zhuǎn)速控制模塊，所述高度控制模塊用于采集襯底平臺(tái)的高度信號(hào)，并將所述高度信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及接收所述控制總機(jī)根據(jù)預(yù)設(shè)的襯底平臺(tái)的高度和所述高度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并根據(jù)所述反饋信號(hào)控制襯底平臺(tái)；所述位置控制模塊用于采集襯底平臺(tái)的位置信號(hào)，并將所述位置信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及接收所述控制總機(jī)根據(jù)預(yù)設(shè)的襯底平臺(tái)的位置和所述位置信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并根據(jù)所述反饋信號(hào)控制襯底平臺(tái)；所述溫度控制模塊用于采集襯底平臺(tái)的溫度信號(hào)，并將所述溫度信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及接收所述控制總機(jī)根據(jù)預(yù)設(shè)的襯底平臺(tái)的溫度和所述溫度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并根據(jù)所述反饋信號(hào)控制襯底平臺(tái)；所述轉(zhuǎn)速控制模塊用于采集襯底平臺(tái)的轉(zhuǎn)速信號(hào)，并將所述轉(zhuǎn)速信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及接收所述控制總機(jī)根據(jù)預(yù)設(shè)的襯底平臺(tái)的轉(zhuǎn)速和所述轉(zhuǎn)速信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并根據(jù)所述反饋信號(hào)控制襯底平臺(tái)。
[0097]所述高度控制模塊用于采集襯底平臺(tái)的高度信號(hào)，并將所述高度信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，所述控制總機(jī)接收到所述高度信號(hào)后，根據(jù)預(yù)設(shè)的襯底平臺(tái)的高度對(duì)所述高度信號(hào)進(jìn)行處理生成反饋信號(hào)，并將所述反饋信號(hào)發(fā)送給高度控制模塊，所述高度控制模塊接收到所述反饋信號(hào)后根據(jù)該反饋信號(hào)控制襯底平臺(tái)的升降，控制襯底平臺(tái)的高度。同樣的，所述位置控制模塊、溫度控制模塊和轉(zhuǎn)速控制模塊的工作原理與所述高度控制模塊相同，區(qū)別在于其控制的分別是襯底平臺(tái)的位置、溫度和轉(zhuǎn)速，其中，襯底平臺(tái)的高度是指襯底平臺(tái)相對(duì)于腔體的高度，襯底平臺(tái)的位置是指襯底平臺(tái)相對(duì)于蒸發(fā)源的位置。
[0098]當(dāng)腔體內(nèi)設(shè)置有多個(gè)束源爐，需要進(jìn)行多個(gè)蒸發(fā)源的蒸鍍時(shí)，一種蒸發(fā)源蒸鍍完成后，控制總機(jī)根據(jù)預(yù)設(shè)的蒸發(fā)源的蒸鍍順序生成控制信號(hào)使可束源爐溫控模塊控制相應(yīng)的束源爐，同時(shí)，控制總機(jī)根據(jù)接收到的襯底平臺(tái)的高度信號(hào)、位置信號(hào)、溫度信號(hào)和轉(zhuǎn)速信號(hào)以及預(yù)設(shè)的襯底平臺(tái)的高度、位置、溫度和轉(zhuǎn)速生成反饋信號(hào)，并發(fā)送給襯底平臺(tái)控制模塊105，襯底平臺(tái)控制模塊接收該反饋信號(hào)并根據(jù)該反饋信號(hào)控制襯底平臺(tái)的高度、位置、溫度和轉(zhuǎn)速。
[0099]在本發(fā)明中，所述傳送交接控制模塊106用于接收所述控制總機(jī)發(fā)送的控制信號(hào)，并根據(jù)所述控制信號(hào)控制機(jī)械傳送交接系統(tǒng)。蒸鍍初期，所述控制總機(jī)依據(jù)接收到的所述真空度信號(hào)和襯底平臺(tái)的位置信號(hào)以及預(yù)設(shè)的真空度信號(hào)和襯底平臺(tái)的位置信號(hào)生成反饋信號(hào)，并將該反饋信號(hào)發(fā)送給傳送交接模塊106，所述傳送交接模塊接收該反饋信號(hào)后控制機(jī)械傳送交接系統(tǒng)將襯底送至腔內(nèi)并安裝在襯底平臺(tái)上;蒸鍍完成后,所述控制總機(jī)依據(jù)預(yù)設(shè)的蒸發(fā)源的蒸發(fā)量生成控制信號(hào)，并將該控制信號(hào)發(fā)送給傳送交接模塊106，所述傳送交接模塊106根據(jù)該控制信號(hào)控制機(jī)械傳送交接系統(tǒng)從襯底平臺(tái)上將襯底取下并將襯底由腔內(nèi)送至下一操作裝置中。
[0100]在本發(fā)明中，所述掩膜版對(duì)接模塊107用于采集掩膜版的位置信號(hào)并將所述位置信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及用于接收所述控制總機(jī)依據(jù)所述掩膜版的位置信號(hào)和襯底平臺(tái)的位置信號(hào)所生成的反饋信號(hào)，并根據(jù)所述反饋信號(hào)控制掩膜版對(duì)接系統(tǒng)。在蒸鍍過(guò)程中，將襯底安放在襯底平臺(tái)上后，掩膜版對(duì)接模塊采集掩膜版的位置信號(hào)，并將所述位置信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)；所述控制總機(jī)接收到掩膜版的位置信號(hào)后，結(jié)合襯底平臺(tái)的位置信號(hào)生成反饋信號(hào)并發(fā)送給掩膜版對(duì)接模塊，掩膜版對(duì)接模塊接收該反饋信號(hào)并依據(jù)該反饋信號(hào)控制掩膜版對(duì)接系統(tǒng)，使掩膜版對(duì)接系統(tǒng)從掩膜版儲(chǔ)倉(cāng)將掩膜版取出輸送至襯底平臺(tái)并將其對(duì)接到襯底的下方位置并緊密貼合；當(dāng)蒸鍍完成后，控制總機(jī)依據(jù)預(yù)設(shè)的蒸發(fā)源的蒸發(fā)量生成控制信號(hào)，并將所述控制信號(hào)發(fā)送給掩膜版對(duì)接模塊，掩膜版對(duì)接模塊接收所述控制信號(hào)并依據(jù)該控制信號(hào)控制掩膜版對(duì)接系統(tǒng)，使掩膜版對(duì)接系統(tǒng)將掩膜版與襯底分離并將掩膜版送至掩膜版儲(chǔ)倉(cāng)。
[0101]所述自動(dòng)控制系統(tǒng)還包括擋板監(jiān)控模塊108，擋板監(jiān)控模塊108用于接收所述控制總機(jī)發(fā)送的開(kāi)啟信號(hào)和關(guān)閉信號(hào)，以及接收所述控制總機(jī)分別依據(jù)所述蒸發(fā)速度信號(hào)和所述膜厚度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)所述開(kāi)啟信號(hào)、關(guān)閉信號(hào)和反饋信號(hào)控制第一擋板和第二擋板。擋板監(jiān)控模塊108包括分別與控制總機(jī)相連的第一擋板監(jiān)控模塊和第二擋板監(jiān)控模塊，其中，第一擋板監(jiān)控模塊用于接收所述控制總機(jī)發(fā)送的開(kāi)啟信號(hào)和關(guān)閉信號(hào)，以及接收所述控制總機(jī)分別依據(jù)所述蒸發(fā)速度信號(hào)和所述膜厚度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)所述開(kāi)啟信號(hào)、關(guān)閉信號(hào)和反`饋信號(hào)控制第一擋板；第二擋板控制模塊用于接收所述控制總機(jī)發(fā)送的開(kāi)啟信號(hào)和關(guān)閉信號(hào)，以及接收所述控制總機(jī)分別依據(jù)所述蒸發(fā)速度信號(hào)和所述膜厚度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)所述開(kāi)啟信號(hào)、關(guān)閉信號(hào)和反饋信號(hào)控制第二擋板。
[0102]蒸鍍初始，蒸鍍速率不穩(wěn)定時(shí)，第一檔板打開(kāi)，第二擋板關(guān)閉；當(dāng)蒸鍍速度穩(wěn)定后，第二擋板也打開(kāi)，蒸發(fā)源蒸發(fā)并在襯底上形成薄膜；蒸鍍至預(yù)定膜厚后，關(guān)閉第二擋板，并關(guān)閉束源爐，束源爐完全冷卻后，關(guān)閉第一擋板。在此過(guò)程中，控制總機(jī)根據(jù)預(yù)設(shè)程序?qū)Φ谝粨醢蹇刂颇K發(fā)送開(kāi)啟信號(hào)，第一擋板控制模塊接受該開(kāi)啟信號(hào)并依據(jù)該開(kāi)啟信號(hào)開(kāi)啟第一檔板；控制總機(jī)根據(jù)接收到的蒸發(fā)速度信號(hào)生成反饋信號(hào)，并將該反饋信號(hào)發(fā)送給第二擋板控制模塊，第二擋板控制模塊根據(jù)該反饋信號(hào)控制第二擋板，使第二檔板開(kāi)啟；控制總機(jī)根據(jù)接收到的膜厚信號(hào)以及預(yù)設(shè)的膜厚信號(hào)生成反饋信號(hào)并將所述反饋信號(hào)發(fā)送給第二擋板控制模塊，所述第二檔板控制模塊接收所述反饋信號(hào)并根據(jù)所述反饋信號(hào)控制第二檔板，使第二擋板關(guān)閉；控制總機(jī)根據(jù)接收到的束源爐溫度信號(hào)以及預(yù)設(shè)的冷卻時(shí)間生成反饋信號(hào)，并將該反饋信號(hào)發(fā)送給第一擋板控制模塊，所述第一擋板控制模塊接收所述反饋信號(hào)并根據(jù)所述反饋信號(hào)控制第一擋板，使第一擋板關(guān)閉。
[0103]在其他實(shí)施例中，所述自動(dòng)控制系統(tǒng)還包括與所述控制總機(jī)相連的運(yùn)行檢測(cè)模塊，所述運(yùn)行檢測(cè)模塊用于采集真空系統(tǒng)控制模塊、膜厚監(jiān)測(cè)控制模塊、束源爐溫控模塊、襯底平臺(tái)控制模塊、傳送交接控制模塊、掩膜版對(duì)接模塊和擋板監(jiān)控模塊的異常信號(hào)并將所述異常信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及用于接收所述控制總機(jī)依據(jù)所述異常信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并將所述反饋信號(hào)發(fā)送給相應(yīng)模塊，各相應(yīng)模塊根據(jù)接收到的反饋信號(hào)控制相應(yīng)的部件。
[0104]在其他實(shí)施例中，所述有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備還包括與控制總機(jī)相連的工作模式切換模塊，所述工作模式切換模塊用于接收控制總機(jī)發(fā)送的切換信號(hào)并根據(jù)該切換信號(hào)進(jìn)行手動(dòng)工作模式和全自動(dòng)工作模式的切換。
[0105]在其他實(shí)施例中，所述自動(dòng)控制系統(tǒng)還包括與所述控制總機(jī)相連的閥門監(jiān)控模塊，所述閥門監(jiān)控模塊用于接收控制總機(jī)發(fā)送的控制信號(hào)并依據(jù)該控制信號(hào)控制閥門。例如，當(dāng)抽真空系統(tǒng)包括機(jī)械泵和分子泵時(shí)，機(jī)械泵上設(shè)置機(jī)械泵閥門，分子泵上設(shè)置分子泵閥門，當(dāng)開(kāi)始抽真空時(shí)，所述閥門監(jiān)控模塊接收控制總機(jī)發(fā)送的控制信號(hào)，控制機(jī)械泵閥門的開(kāi)啟進(jìn)行抽真空；當(dāng)腔體內(nèi)真空度下降為IOOPa時(shí)，所述閥門監(jiān)控模塊接收控制總機(jī)發(fā)送的控制信號(hào)，控制機(jī)械泵閥門關(guān)閉同時(shí)控制分子泵閥門開(kāi)啟繼續(xù)進(jìn)行抽真空；當(dāng)蒸鍍完成時(shí)，所述閥門監(jiān)控模塊接收控制總機(jī)發(fā)送的控制信號(hào)，控制分子泵閥門關(guān)閉，停止抽真空。
[0106]本發(fā)明提供的有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備的工作過(guò)程及工作原理如下:
[0107]首先，開(kāi)啟所述有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備的總開(kāi)關(guān)，通過(guò)控制總機(jī)101設(shè)定真空度、襯底平臺(tái)與束源爐的距離、各有機(jī)材料的蒸鍍速率、各有機(jī)材料形成的膜的厚度等參數(shù)；
[0108]然后，啟動(dòng)自動(dòng)控制系統(tǒng)，控制總機(jī)101向真空系統(tǒng)控制模塊102發(fā)送控制信號(hào)，真空系統(tǒng)控制模塊102接收該控制信號(hào)后開(kāi)啟抽真空系統(tǒng)，同時(shí)，襯底平臺(tái)控制模塊105采集襯底平臺(tái)的位置、高度、溫度和轉(zhuǎn)速信號(hào)并將所述信號(hào)發(fā)送給控制總機(jī)101 ;當(dāng)抽真空系統(tǒng)包括機(jī)械泵和分子泵時(shí)，真空系統(tǒng)控制模塊102首先根據(jù)所述控制信號(hào)控制機(jī)械泵開(kāi)啟進(jìn)行抽真空；真空系統(tǒng)控制模塊102同時(shí)采集腔體內(nèi)的真空度信號(hào)并將所述真空度信號(hào)發(fā)送給控制總機(jī)101，控制總機(jī)101根據(jù)該真空度信號(hào)以及預(yù)設(shè)的真空度生成反饋信號(hào)并發(fā)送給真空系統(tǒng)控制模塊102，真空系統(tǒng)控制模塊102接收該反饋信號(hào)并依據(jù)該反饋信號(hào)控制抽真空系統(tǒng)；當(dāng)腔體內(nèi)真空度降低至IOOPa時(shí)，控制總機(jī)根據(jù)接收到的真空度信號(hào)生成反饋信號(hào)并將所述反饋信號(hào)傳遞給真空系統(tǒng)控制模塊102，真空系統(tǒng)控制模塊102控制機(jī)械泵關(guān)閉同時(shí)控制分子泵開(kāi)啟；
[0109]當(dāng)腔體內(nèi)真空度達(dá)到預(yù) 定真空度時(shí)，即，控制總機(jī)接收到的真空度信號(hào)與預(yù)設(shè)的真空度相同時(shí)，控制總機(jī)根據(jù)接收到的真空度信號(hào)和預(yù)設(shè)的真空度生成反饋信號(hào)并將所述反饋信號(hào)發(fā)送給傳送交接模塊106，傳送交接模塊106接收該反饋信號(hào)并依據(jù)所述反饋信號(hào)控制機(jī)械傳送交接系統(tǒng)，將襯底輸送至腔體內(nèi)；同時(shí)，控制總機(jī)接收來(lái)自襯底平臺(tái)的位置信號(hào)，并依據(jù)所述位置信號(hào)生成反饋信號(hào)發(fā)送給傳送交接模塊，傳送交接模塊接收該反饋信號(hào)，并依據(jù)所述反饋信號(hào)控制機(jī)械傳送交接系統(tǒng)，將襯底輸送至襯底平臺(tái)處，將并襯底安放于襯底平臺(tái)上；
[0110]襯底安放完畢后，控制總機(jī)101向掩膜版對(duì)接模塊107發(fā)送控制信號(hào)，掩膜版對(duì)接模塊107接收該控制信號(hào)并依據(jù)該控制信號(hào)控制掩膜版對(duì)接系統(tǒng)；同時(shí)，掩膜版對(duì)接模塊107將采集到的掩膜版的位置信號(hào)發(fā)送給控制總機(jī)101，控制總機(jī)101接收該位置信號(hào)并根據(jù)該位置信號(hào)以及接收到的襯底平臺(tái)的位置信號(hào)生成反饋信號(hào)，并將該反饋信號(hào)發(fā)送給掩膜版對(duì)接模塊107，掩膜版對(duì)接模塊107控制掩膜版對(duì)接系統(tǒng)將掩膜版從掩膜版儲(chǔ)倉(cāng)中取出并輸送至襯底平臺(tái)處，并將掩膜版安放于襯底下方，并與襯底緊密貼合；掩膜版安放完畢后，控制總機(jī)101向擋板監(jiān)控模塊108發(fā)送關(guān)閉信號(hào)，，所述擋板監(jiān)控魔窟奧108控制第二擋板關(guān)閉，然后，控制總機(jī)101根據(jù)接收到的襯底平臺(tái)的位置信號(hào)、高度信號(hào)、溫度信號(hào)和轉(zhuǎn)速信號(hào)以及預(yù)設(shè)的襯底平臺(tái)的位置、高度、溫度和轉(zhuǎn)速生產(chǎn)反饋信號(hào)，并將該反饋信號(hào)發(fā)送給襯底平臺(tái)控制模塊105，襯底平臺(tái)控制模塊105接收該反饋信號(hào)并根據(jù)所述反饋信號(hào)控制所述襯底平臺(tái)，使其升降至蒸鍍位置經(jīng)根據(jù)工藝設(shè)定開(kāi)始旋轉(zhuǎn)或加熱； [0111]完成上述操作后，控制總機(jī)101向擋板控制模塊108發(fā)送控制信號(hào)，擋板控制模塊108接收所述控制信號(hào)并根據(jù)所述控制信號(hào)控制第一檔板開(kāi)啟；控制總機(jī)101接收束源爐溫控模塊104發(fā)送的溫度信號(hào)，依據(jù)該溫度信號(hào)以及預(yù)設(shè)的溫度生成反饋信號(hào)，并發(fā)送給束源爐溫控模塊104，束源爐溫控模塊104根據(jù)所述反饋信號(hào)控制電阻加熱束源爐，使電阻加熱束源爐開(kāi)啟、升溫、加熱有機(jī)材料；同時(shí)，膜厚監(jiān)測(cè)控制模塊103采集有機(jī)蒸發(fā)源的蒸發(fā)速度信號(hào)，并將所述蒸發(fā)速度信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)101，所述控制總機(jī)101根據(jù)所述蒸發(fā)速度信號(hào)和預(yù)設(shè)的蒸鍍速度生成反饋信號(hào)，并將所述反饋信號(hào)發(fā)送給束源爐溫控模塊104 ;當(dāng)有機(jī)蒸發(fā)源的蒸發(fā)速度與預(yù)設(shè)的蒸發(fā)速度相同時(shí)，束源爐溫控模塊104接收到控制總機(jī)101發(fā)送的反饋信號(hào)并根據(jù)該反饋信號(hào)控制電阻加熱束源爐穩(wěn)定加熱功率和溫度；同時(shí)，控制總機(jī)101根據(jù)蒸發(fā)速度信號(hào)和預(yù)設(shè)的蒸鍍速度生成反饋信號(hào)，并將所述反饋信號(hào)發(fā)送給擋板控制模塊108，擋板控制模塊108接收所述反饋信號(hào)后并依據(jù)所述反饋信號(hào)控制第二擋板，使第二擋板打開(kāi)，在襯底上開(kāi)始生長(zhǎng)薄膜；
[0112]膜厚監(jiān)測(cè)控制模塊103采集襯底上生長(zhǎng)的膜的厚度信號(hào)，并將所述厚度信號(hào)發(fā)送給控制總機(jī)101 ;控制總機(jī)101接收所述厚度信號(hào)，依據(jù)所述厚度信號(hào)和預(yù)設(shè)的膜厚度生成反饋信號(hào)，并將所述反饋信號(hào)發(fā)送給擋板控制模塊108 ;所述擋板控制模塊108接收所述反饋信號(hào)并根據(jù)所述反饋信號(hào)控制第二擋板，當(dāng)膜厚度與預(yù)設(shè)的膜厚度相同時(shí)，擋板控制模塊108根據(jù)接收的反饋信號(hào)控制第二擋板關(guān)閉，停止薄膜的生長(zhǎng)；
[0113]控制總機(jī)101依據(jù)接收到的膜厚度信號(hào)和預(yù)設(shè)的膜厚信號(hào)生成反饋信號(hào)并發(fā)送給束源爐溫控模塊104，束源爐溫控模塊104接收所述反饋信號(hào)并依據(jù)所述反饋信號(hào)控制電阻加熱束源爐。當(dāng)膜厚度與預(yù)設(shè)的膜厚度相同時(shí)，束源爐溫控模塊104根據(jù)接收到的反饋信號(hào)控制電阻加熱束源爐，使電阻加熱束源爐停止加熱。束源爐溫控模塊104同時(shí)采集束源爐的溫度信號(hào)，并將該溫度信號(hào)發(fā)送給控制總機(jī)101 ;控制總機(jī)101接收該溫度信號(hào)并根據(jù)該溫度信號(hào)和預(yù)定的溫度信號(hào)生成反饋信息，并將所述反饋信息發(fā)送給擋板控制模塊108 ;擋板控制模塊108接收到所述反饋信息，并根據(jù)所述反饋信息控制第一檔板，當(dāng)電阻加熱束源爐溫度與預(yù)設(shè)溫度相同時(shí)，擋板控制模塊108根據(jù)接收到的反饋信息控制第一擋板，使第一擋板關(guān)閉；
[0114]當(dāng)蒸鍍兩種或兩種以上有機(jī)材料時(shí)，按照蒸發(fā)速率由小到大的順序，按照上述過(guò)程依次進(jìn)行有機(jī)材料的蒸鍍。蒸鍍完畢后，控制總機(jī)101依據(jù)預(yù)設(shè)的蒸發(fā)源的蒸發(fā)量生成控制信號(hào)，并發(fā)送給掩膜版對(duì)接模塊107，掩膜版對(duì)接模塊107接收所述控制信號(hào)并根據(jù)所述控制信號(hào)控制掩膜版對(duì)接系統(tǒng)，使掩膜版對(duì)接系統(tǒng)將掩膜版與襯底分離并將掩膜版送至掩膜版儲(chǔ)倉(cāng)；
[0115]取下掩膜版后，控制總機(jī)101根據(jù)預(yù)設(shè)的蒸發(fā)源的蒸發(fā)量生成控制信號(hào)，并將該控制信號(hào)發(fā)送給傳送交接模塊106，所述傳送交接模塊106接收該控制信號(hào)并根據(jù)該控制信號(hào)控制機(jī)械傳送交接系統(tǒng)從襯底平臺(tái)上將襯底取下并將襯底由腔內(nèi)送至下一操作裝置中，繼續(xù)器件制備的其他步驟；
[0116]最后，控制總機(jī)101根據(jù)預(yù)設(shè)指令對(duì)真空系統(tǒng)控制模塊102發(fā)出控制信號(hào)，真空系統(tǒng)控制模塊102接收所述控制信號(hào)并根據(jù)所述控制信號(hào)控制抽真空系統(tǒng)，使抽真空系統(tǒng)停止抽真空，使得整個(gè)系統(tǒng)完全關(guān)系。
[0117]在所述有機(jī)材料蒸鍍?cè)O(shè)備運(yùn)行期間，運(yùn)行檢測(cè)模塊采集真空系統(tǒng)控制模塊、膜厚監(jiān)測(cè)控制模塊、束源爐溫控模塊、襯底平臺(tái)控制模塊、傳送交接控制模塊、掩膜版對(duì)接模塊和擋板監(jiān)控模塊的異常信號(hào)并將所述異常信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，所述控制總機(jī)接收所述異常信號(hào)并根據(jù)所述異常信號(hào)生成反饋信號(hào)，并將所述反饋信號(hào)發(fā)送給運(yùn)行檢測(cè)模塊，所述運(yùn)行檢測(cè)模塊接收所述異常信號(hào)并將所述反饋信號(hào)發(fā)送給相應(yīng)模塊，各相應(yīng)模塊根據(jù)接收到的反饋信號(hào)控制相應(yīng)的部件。
[0118]在本發(fā)明提供的真空蒸鍍?cè)O(shè)備中，真空系統(tǒng)控制模塊、膜厚監(jiān)測(cè)控制模塊、束源爐溫控模塊、襯底平臺(tái)控制模塊、傳送交接控制模塊、掩膜版對(duì)接模塊和擋板監(jiān)控模塊等各模塊通過(guò)收集真空蒸鍍室內(nèi)束源爐溫度、蒸發(fā)速度、膜厚、襯底平臺(tái)溫度、襯底平臺(tái)轉(zhuǎn)速、襯底平臺(tái)高度、襯底平臺(tái)位置等各項(xiàng)參數(shù)信號(hào)，并將各項(xiàng)參數(shù)信號(hào)發(fā)送給控制總機(jī)，所述控制總機(jī)根據(jù)預(yù)設(shè)的各項(xiàng)參數(shù)對(duì)收到的各項(xiàng)參數(shù)信號(hào)進(jìn)行處理得到反饋信號(hào)，并將該反饋信號(hào)反饋給相應(yīng)的控制模塊，相應(yīng)的控制模塊再根據(jù)相應(yīng)的反饋信號(hào)對(duì)相應(yīng)的部件，如抽真空設(shè)備、束源爐、襯底平臺(tái)等進(jìn)行自動(dòng)調(diào)控，實(shí)現(xiàn)有機(jī)材料真空鍍膜的自動(dòng)控制，不僅節(jié)省了大量人力，更重要的是能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)有機(jī)材料真空蒸鍍過(guò)程的有效監(jiān)測(cè)，實(shí)現(xiàn)了有機(jī)材料真空蒸鍍精度、品質(zhì)和速度的提高。 同時(shí)，本發(fā)明提供的有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備中，各控制模塊與控制總機(jī)相互作用，實(shí)現(xiàn)了對(duì)有機(jī)材料真空蒸鍍過(guò)程中蒸發(fā)速率、加熱溫度、膜厚度、襯底平臺(tái)和掩膜版的位置等參數(shù)的精密監(jiān)測(cè)和控制，在提高有機(jī)材料真空蒸鍍精度、品質(zhì)和速度的基礎(chǔ)上，提高有機(jī)光電器件的性能，減少不同批次器件的性能偏差。
[0119]以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于，包括真空蒸鍍室和自動(dòng)控制系統(tǒng)； 其中，所述真空蒸鍍室包括: 腔體； 與所述腔體相通的抽真空設(shè)備； 設(shè)置在所述腔體內(nèi)、用于加熱蒸發(fā)源的電阻加熱束源爐，所述電阻加熱束源爐上方設(shè)置有第一擋板； 與所述電阻加熱束源爐對(duì)應(yīng)設(shè)置的襯底平臺(tái)，所述襯底平臺(tái)上設(shè)置有第二擋板； 設(shè)置在所述腔體內(nèi)的掩膜版儲(chǔ)倉(cāng)； 與所述掩膜版儲(chǔ)倉(cāng)相連、用于輸送掩膜版并使所述掩膜版與襯底對(duì)接或分離的掩膜版對(duì)接系統(tǒng)； 與所述腔體相通、用于傳送襯底并使所述襯底與所述襯底平臺(tái)連接或分離的機(jī)械傳送交接系統(tǒng)，所述機(jī)械傳送交接系統(tǒng)與所述襯底平臺(tái)相連接； 所述自動(dòng)控制系統(tǒng)包括:控制總機(jī)，分別與所述控制總機(jī)相連的真空系統(tǒng)控制模塊、膜厚監(jiān)測(cè)控制模塊、束源爐溫控模塊、襯底平臺(tái)控制模塊、傳送交接控制模塊、掩膜版對(duì)接模塊和擋板監(jiān)控模塊；其中， 所述真空系統(tǒng)控制模塊用于采集所述腔體內(nèi)的真空度信號(hào)并將所述真空度信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及用于接收所述控制總機(jī)依據(jù)所述真空度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)所述反饋信號(hào)控制抽真空設(shè)備； 所述膜厚監(jiān)測(cè)控制模塊用于采集蒸發(fā)源的蒸發(fā)速度信號(hào)和膜厚度信號(hào)，并將所述蒸發(fā)速度信號(hào)和所述膜厚度信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)； 所述束源爐溫控模塊用于采集束源爐的溫度信號(hào)并將所述溫度信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及用于接收所述控制總機(jī)依據(jù)所述溫度信號(hào)和所述蒸發(fā)速度信號(hào)和/或膜厚度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)所述反饋信號(hào)控制束源爐； 所述襯底平臺(tái)控制模塊用于采集襯底平臺(tái)的高度信號(hào)、位置信號(hào)、溫度信號(hào)和轉(zhuǎn)速信號(hào)并將所述高度信號(hào)、位置信號(hào)、溫度信號(hào)和轉(zhuǎn)速信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及用于接收所述控制總機(jī)分別依據(jù)所述高度信號(hào)、位置信號(hào)、溫度信號(hào)和轉(zhuǎn)速信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)各反饋信號(hào)控制襯底平臺(tái)； 所述傳送交接模塊用于接收所述控制總機(jī)發(fā)送的控制信號(hào)，并根據(jù)所述控制信號(hào)控制機(jī)械傳送交接系統(tǒng)； 所述掩膜版對(duì)接模塊用于采集掩膜版的位置信號(hào)并將所述位置信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及用于接收所述控制總機(jī)依據(jù)所述掩膜版的位置信號(hào)和襯底平臺(tái)的位置信號(hào)所生成的反饋信號(hào)，并根據(jù)所述反饋信號(hào)控制掩膜版對(duì)接系統(tǒng)； 所述擋板監(jiān)控模塊用于接收所述控制總機(jī)發(fā)送的開(kāi)啟信號(hào)和關(guān)閉信號(hào)，以及接收所述控制總機(jī)分別依據(jù)所述蒸發(fā)速度信號(hào)和所述膜厚度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)所述開(kāi)啟信號(hào)、關(guān)閉信號(hào)和反饋信號(hào)控制第一擋`板和第二擋板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于，所述自動(dòng)控制系統(tǒng)還包括與所述控制總機(jī)相連的運(yùn)行檢測(cè)模塊，所述運(yùn)行檢測(cè)模塊用于采集真空系統(tǒng)控制模塊、膜厚監(jiān)測(cè)控制模塊、束源爐溫控模塊、襯底平臺(tái)控制模塊、傳送交接控制模塊、掩膜版對(duì)接模塊和擋板監(jiān)控模塊的異常信號(hào)并將所述異常信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及用于接收所述控制總機(jī)依據(jù)所述異常信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并將所述反饋信號(hào)發(fā)送給相應(yīng)模塊。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于，所述抽真空設(shè)備包括:通過(guò)機(jī)械泵閥門與所述腔體相通的機(jī)械泵和通過(guò)分子泵閥門與所述抽真空閥門相通的分子泵； 所述真空系統(tǒng)控制模塊包括:分別與所述控制總機(jī)相連的真空計(jì)和抽真空控制模塊； 所述真空計(jì)用于采集所述腔體內(nèi)的真空度信號(hào)并將所述真空度信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)； 所述抽真空控制模塊用于接收所述控制總機(jī)依據(jù)所述真空度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)所述反饋信號(hào)控制機(jī)械泵或分子泵。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于，所述膜厚監(jiān)測(cè)控制模塊包括分別與控制總機(jī)相連的蒸發(fā)速度探測(cè)器和膜厚探測(cè)器，所述蒸發(fā)速度探測(cè)器用于采集蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率信號(hào)并將所述蒸發(fā)速率發(fā)送給控制總機(jī)；所述膜厚探測(cè)器用于采集襯底上生長(zhǎng)的膜的厚度信號(hào)并將所述厚度信號(hào)發(fā)送給控制總機(jī)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于，所述襯底平臺(tái)控制模塊包括分別與控制總機(jī)相連的高度控制模塊、位置控制模塊、溫度控制模塊和轉(zhuǎn)速控制模塊，所述高度控制模塊用于采集襯底平臺(tái)的高度信號(hào)，并將所述高度信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及接收所述控制總機(jī)根據(jù)預(yù)設(shè)的襯底平臺(tái)的高度和所述高度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并根據(jù)所述反饋信號(hào)控制襯底平臺(tái)；所述位置控制模塊用于采集襯底平臺(tái)的位置信號(hào)，并將所述位置信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及接收所述控制總機(jī)根據(jù)預(yù)設(shè)的襯底平臺(tái)的位置和所述位置信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并根據(jù)所述反饋信號(hào)控制襯底平臺(tái)；所述溫度控制模塊用于采集襯底平臺(tái)的溫度信號(hào)，并將所述溫度信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及接收所述控制總機(jī)根據(jù)預(yù)設(shè)的襯底平臺(tái)的溫度和所述溫度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并根據(jù)所述反饋信號(hào)控制襯底平臺(tái)；所述轉(zhuǎn)速控制模塊用于采集襯底平臺(tái)的轉(zhuǎn)速信號(hào)，并將所述轉(zhuǎn)速信號(hào)發(fā)送給所述控制總機(jī)，以及接收所述控制總機(jī)根據(jù)預(yù)設(shè)的襯底平臺(tái)的轉(zhuǎn)速和所述轉(zhuǎn)速信號(hào)生成的反饋信號(hào)， 并根據(jù)所述反饋信號(hào)控制襯底平臺(tái)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于，所述擋板監(jiān)控模塊包括第一擋板監(jiān)控模塊和第二擋板監(jiān)控模塊，所述第一擋板監(jiān)控模塊和第二擋板監(jiān)控模塊分別與所述控制總機(jī)相連； 第一擋板監(jiān)控模塊用于接收所述控制總機(jī)發(fā)送的開(kāi)啟信號(hào)和關(guān)閉信號(hào)，以及接收所述控制總機(jī)分別依據(jù)所述蒸發(fā)速度信號(hào)和所述膜厚度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)所述開(kāi)啟信號(hào)、關(guān)閉信號(hào)和反饋信號(hào)控制第一擋板； 第二擋板控制模塊用于接收所述控制總機(jī)發(fā)送的開(kāi)啟信號(hào)和關(guān)閉信號(hào)，以及接收所述控制總機(jī)分別依據(jù)所述蒸發(fā)速度信號(hào)和所述膜厚度信號(hào)生成的反饋信號(hào)，并依據(jù)所述開(kāi)啟信號(hào)、關(guān)閉信號(hào)和反饋信號(hào)控制第二擋板。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于，還包括與控制總機(jī)相連的工作模式切換模塊，所述工作模式切換模塊用于接收控制總機(jī)發(fā)送的切換信號(hào)并根據(jù)該切換信號(hào)進(jìn)行手動(dòng)工作模式和全自動(dòng)工作模式的切換。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)材料真空蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于，還包括與所述控制總機(jī)相連的閥門監(jiān)控模塊，所述閥門監(jiān)控模塊用于接收控制總機(jī)發(fā)送的控制信號(hào)并依據(jù)該控制信號(hào)控制閥門。
【文檔編號(hào)】C23C14/26GK103726023SQ201410043604
【公開(kāi)日】2014年4月16日 申請(qǐng)日期:2014年1月29日 優(yōu)先權(quán)日:2014年1月29日
【發(fā)明者】張洪杰, 周亮, 李成宇, 鄧瑞平 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春應(yīng)用化學(xué)研究所