用于對細長的、圓柱形的構(gòu)件進行等離子涂覆的裝置和方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種用于對細長的、圓柱形的構(gòu)件進行等離子涂覆的裝置和方法。所述裝置具有：至少一個處理腔(1)；細長的第一存儲腔(2)和細長的第二存儲腔(3)，存儲腔沒有閉鎖裝置地與處理腔(1)連接；細長的第一傳送腔(4)，第一傳送腔與第一存儲腔(2)連接；細長的第二傳送腔(5)，第二傳送腔與第二存儲腔(3)連接；在第一傳送腔和第二傳送腔(4、5)的兩個端部上的閉鎖裝置(9、10、11、12)；至少一個泵系統(tǒng)(6、36)；在第一傳送腔和第二傳送腔(4、5)中以及第一存儲腔和第二存儲腔(2、3)中的運送裝置，運送裝置將至少兩個構(gòu)件(13、14)同時和彼此并行定向地供應(yīng)給處理腔(1)和從處理腔(1)導出；和在處理腔(1)中或上的至少一個等離子燃燒器。
【專利說明】用于對細長的、圓柱形的構(gòu)件進行等離子涂覆的裝置和方 法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種用于對細長的、圓柱形的構(gòu)件、特別是管狀的構(gòu)件進行等離子涂 覆的裝置和方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 如果構(gòu)件的表面受到等離子體作用，則可能在相應(yīng)地選擇等離子體參數(shù)，如壓力、 溫度和等離子體組成的情況下有目的地影響表面的功能性和特性。由現(xiàn)有技術(shù)已知用于對 由任意材料組成的表面進行處理、改性或涂覆的方法，其中利用由等離子體組成的微粒流 或能量流。這主要包括等離子噴涂、電弧等離子熔覆、等離子熱處理法、等離子CVD法和等 離子凈化。工件表面的功能性的改變通過等離子體粒子有目的的作用來實現(xiàn)。這可以通過 具有確定化學特性的微粒的相互作用或通過由等離子體發(fā)出的輻射的作用來實現(xiàn)。在用于 對構(gòu)件進行等離子涂覆的方法中，涂層材料通過供應(yīng)能量而被置于蒸汽態(tài)或氣態(tài)并由蒸汽 相或氣相沉積在構(gòu)件上。
[0003] 為了產(chǎn)生等離子體，使用等離子燃燒器。在電弧等離子燃燒器中，通過電弧使流動 的氣體離子化并加熱到10000K至20000K的溫度。在高頻等離子燃燒器中，通過向圓柱形 線圈上施加高頻的電磁場使流動的氣體離子化。在由介電材料制成的圓柱形的放電容器中 形成密度較大的等離子體，所述等離子體具有高能量密度。這里等離子體溫度也達到最高 20000K。電弧等離子燃燒器和高頻等離子燃燒器是用于產(chǎn)生等離子體的裝置，所述裝置產(chǎn) 生定向的自由射束。此外還存著很多方法或方法變型，如PVD物理蒸汽沉積和CVD化學蒸 汽沉積，這些方法和方法變型由氣相在工件上沉積涂層。在很多情況下這里涂層材料泉狀 (quellformig)地存在于涂層腔中。
[0004] 在等離子體中用確定的材料對構(gòu)件或工件進行涂覆，在其表面上對其進行凈化、 激活或加工。為了在此時防止對工件的污染，加工在真空中進行。為此，構(gòu)件被引入處理腔 中。所述處理腔相對于大氣封閉并且在采用一個或多個泵的情況下排真空。
[0005] 等離子體僅在很狹窄的區(qū)域內(nèi)出現(xiàn)并且對于細長的、圓柱形的構(gòu)件不能在整個構(gòu) 件上形成。因此，為了對細長的構(gòu)件的整個表面進行等離子處理，必須引導等離子體射束經(jīng) 過構(gòu)件，或者構(gòu)件必須相對于等離子體射束運動。在兩種情況下都需要復雜的裝置，以便在 等離子處理期間使構(gòu)件和等離子體射束相對于彼此運動。
[0006] 已知的方法有這樣的缺點，即，利用這些方法不能在細長的構(gòu)件的整個長度和整 個周邊上涂覆均勻的涂層。此外，涂覆細長構(gòu)件所需的處理腔很大。處理腔的排真空由于 大的體積導致時間和能量上大的耗費。這種均勻的涂層例如對于玻璃管是必要的，所述玻 璃管應(yīng)供應(yīng)給太陽熱能的應(yīng)用場合。這里層厚上少數(shù)幾個納米的差別對構(gòu)件的功能會產(chǎn)生 不利的影響。
[0007] 由DE 10 2007 035 518 A1已知一種用于對細長的圓柱形構(gòu)件進行等離子涂覆的 裝置，所述裝置裝備有一個處理腔和兩個細長的傳送腔。在處理腔上設(shè)置等離子燃燒器。已 經(jīng)證明不利的是，每次只能有一個構(gòu)件利用該裝置涂覆，并且涂覆過程的周期時間較長。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0008] 本發(fā)明的目的是，提供一種用于對細長的圓柱形的構(gòu)件進行等離子涂覆的裝置和 方法，利用所述裝置和方法，能夠在整個長度上和整個周邊上對構(gòu)件涂覆均勻的涂層，所述 裝置和方法能夠以較小的時間和能量上的耗費運行，所述裝置和方法具有較短的周期時 間，并且所述裝置和方法使得能同時對多個構(gòu)件進行涂覆。
[0009] 所述目的通過具有權(quán)利要求1的特征的裝置以及通過具有權(quán)利要求15的特征的 方法來實現(xiàn)。所述裝置的特征在于，設(shè)有第一存儲腔和第二存儲腔。第一存儲腔設(shè)置在處理 腔和第一傳送腔之間。第二存儲腔設(shè)置在處理腔和第二傳送腔之間。此外，所述裝置的特 征還在于，在第一傳送腔和第二傳送腔中和在第一存儲腔和第二存儲腔中設(shè)有運送裝置， 所述運送裝置同時并且相互平行定向地向處理腔供應(yīng)至少兩個構(gòu)件和從處理腔中導出至 少兩個構(gòu)件。等離子燃燒器提供等離子體射束，所述等離子體射束使得能同時對供應(yīng)的各 構(gòu)件進行涂覆。構(gòu)件通過運送裝置沿運送方向在兩個存儲腔中輸送并繞各自的軸線旋轉(zhuǎn)。 以這種方式所供應(yīng)的各構(gòu)件的涂覆在其整個表面上進行。因此可以同時對多個構(gòu)件進行涂 覆。
[0010] 第一傳送腔和第二傳送腔以及第一存儲腔和第二存儲腔是細長的。它們都以其縱 向沿運送裝置的運送方向定向。
[0011] 由于具有至少兩個傳送腔、至少兩個存儲腔和至少一個處理腔的布置結(jié)構(gòu)，在處 理腔中對構(gòu)件進行涂覆期間，已經(jīng)可以將新的構(gòu)件輸送到第一傳送腔中。因此可以同時在 所述裝置中存在多個批次構(gòu)件，例如第一批位于第二傳送腔中，第二批位于處理腔和第一 存儲腔和第二存儲腔中，而第三批位于第一傳送腔中。批次是指在一個時刻輸送到裝置中 的構(gòu)件的總體。一個批次的構(gòu)件關(guān)于運送裝置的運送方向同時都處于裝置中的一個位置 處。
[0012] 由于運送裝置以及由于所述裝置具有多個傳送腔和多個存儲腔的結(jié)構(gòu)，可以同時 對多個構(gòu)件進行涂覆。這樣實現(xiàn)了高的生產(chǎn)率。單位時間利用所述裝置涂覆的構(gòu)件的件數(shù) 提高。這確保實現(xiàn)了短的周期時間。
[0013] 處理腔中優(yōu)選沒有設(shè)置運送裝置。特別是在處理腔中沒有運送裝置的部件。處理 腔在傳送方向上比待涂覆的細長構(gòu)件短。優(yōu)選處理腔在傳送方向上比待涂覆的構(gòu)件的長度 的一半短。與處理腔相鄰的存儲腔裝備有運送裝置。所述運送裝置負責運送構(gòu)件通過處理 腔。如果運送裝置只設(shè)置在處理腔之外，則基本上避免了涂層材料對運送裝置的污染。
[0014] 第一存儲腔到處理腔的過渡部和處理腔到第二存儲腔的過渡部優(yōu)選沒有閉鎖裝 置。所述三個腔的排真空利用泵系統(tǒng)進行，所述泵系統(tǒng)例如連接到處理腔上。
[0015] 在第一傳送腔的兩個端部上和在第二傳送腔的兩個端部上設(shè)置有閉鎖裝置。在第 一傳送腔和第二傳送腔的背向處理腔的端部上的閉鎖裝置也稱為外部的閉鎖裝置。所述外 部的閉鎖裝置在大氣側(cè)封閉所述裝置。在第一和第二傳送腔的朝向處理腔的端部上的閉鎖 裝置稱為內(nèi)部的閉鎖裝置。這兩個傳送腔通過附加的泵系統(tǒng)排真空或通過和處理腔、第一 存儲腔和第二存儲腔相同的泵系統(tǒng)排真空。如果設(shè)有兩個泵系統(tǒng)，則對處理腔和第一存儲 腔以及第二存儲腔排真空的泵系統(tǒng)稱為第一泵系統(tǒng)，而對兩個傳送裝置排真空的泵系統(tǒng)稱 為第二泵系統(tǒng)。
[0016] 兩個傳送腔以在其端部上的閉鎖裝置構(gòu)成真空閘門，用于向裝置中輸入和從裝置 中輸出構(gòu)件。
[0017] 根據(jù)本發(fā)明的一個優(yōu)選的實施形式，在第一傳送腔和第二傳送腔的端部上的閉鎖 裝置設(shè)有孔板?？装蹇梢栽O(shè)置在第一傳送腔和第二傳送腔中和/或第一存儲腔和第二存儲 腔中?？装彘_口與構(gòu)件相適配。其開口橫截面僅略大于被輸送通過孔板開口的構(gòu)件的橫截 面，例如大5%至20%。孔板對壓力不同的區(qū)域之間的壓力平衡起反作用，只要閉鎖裝置處 于打開位置。當構(gòu)件被向第一傳送腔或第二傳送腔中輸送或從所述傳送腔輸送出來時，閉 鎖裝置處于打開位置。由于孔板的開口橫截面僅略大于構(gòu)件的橫截面，在向第一傳送腔或 第二傳送腔中運送構(gòu)件或?qū)?gòu)件從第一傳送腔或第二傳送腔中運送出來時，壓力平衡僅通 過構(gòu)件和孔板之間的縫隙發(fā)生。
[0018] 利用根據(jù)本發(fā)明的裝置，相對于DE 10 2007 035 518 A1的裝置容積至少提高到 三倍并且經(jīng)濟性以5倍至10倍提高。
[0019] 裝置的處理能力和經(jīng)濟性此外還可以通過優(yōu)化涂層生長速度來提高。這通過改變 流動場來實現(xiàn)，對流動場的改變可以通過向等離子燃燒器中或處理腔中裝入附加的部件來 實現(xiàn)。
[0020] 根據(jù)本發(fā)明的一個有利的實施形式，處理腔沿運送方向比待涂覆的構(gòu)件短。此外， 第一倍和第二傳送腔沿運送方向比待涂覆的構(gòu)件長。附加于此，第一存儲腔和第二存儲腔 也可以比構(gòu)件長。但如果第一存儲腔和第二存儲腔與構(gòu)件的長度相同或略短于構(gòu)件，也已 經(jīng)足夠了。只需要確保，當在處理腔中存在涂覆過程所需的壓力時，才開始對構(gòu)件進行等離 子涂覆。
[0021] 根據(jù)本發(fā)明的另一個有利的實施形式，運送裝置裝備有多個滾輪單元。每個滾輪 單元具有一個滾輪支承件，所述滾輪支承件帶有至少三個在滾輪支承件上并排設(shè)置的滾 輪。這里一個滾輪單元的三個滾輪的旋轉(zhuǎn)軸線相互平行并且彼此錯開。
[0022] 根據(jù)本發(fā)明的另一個有利的實施形式，滾輪的旋轉(zhuǎn)軸線和構(gòu)件的運送方向之間的 角度大于〇°并且小于90°。由于所述角度，滾輪在構(gòu)件上施加由沿構(gòu)件的縱向的第一分 量和沿垂直于構(gòu)件的縱向的第二分量合成的力。第一分量用于實現(xiàn)構(gòu)件沿其縱向并由此沿 運送方向的加速。第二分量用于實現(xiàn)構(gòu)件繞其縱軸線的旋轉(zhuǎn)。如果滾輪的旋轉(zhuǎn)軸線與運送 方向的角度為45°，則兩個力分量的大小相同。如果所述角度小于45°，則垂直于運送方 向的力分量大于沿運送方向的力分量。在這種情況下，構(gòu)件被更強地驅(qū)動旋轉(zhuǎn)。如果所述 角度大于45°，則沿運送方向的力分量大于垂直于運送方向的力分量。在這種情況下，構(gòu)件 被更強地沿運送方向加速。
[0023] 根據(jù)本發(fā)明的另一個有利的實施形式，滾輪單元能旋轉(zhuǎn)地支承在一個支座上。滾 輪的旋轉(zhuǎn)軸線與構(gòu)件的運送方向之間的角度是可調(diào)的。
[0024] 根據(jù)本發(fā)明的另一個有利的實施形式，運送裝置裝備有驅(qū)動裝置和傳動裝置，所 述驅(qū)動裝置和傳動裝置將滾輪單元的所有滾輪驅(qū)動至相同的旋轉(zhuǎn)速度。替代共同的驅(qū)動裝 置，也可以給每個滾輪單元設(shè)置單獨的驅(qū)動裝置，例如步進電機。
[0025] 根據(jù)本發(fā)明的另一個有利的實施形式，所述裝置裝備有設(shè)置在第一傳送腔前面的 前置模塊。所述前置模塊裝備有運送裝置，所述運送裝置同時向第一傳送腔中運送至少兩 個構(gòu)件。
[0026] 根據(jù)本發(fā)明的另一個有利的實施形式，所述前置模塊裝備有至少兩個能抬起和能 降下的、用于至少兩個構(gòu)件的支承部。所述構(gòu)件可以放置在支承部上。通過使支承部降下， 構(gòu)件被放置到運送系統(tǒng)上。
[0027] 根據(jù)本發(fā)明的另一個有利的實施形式，所述裝置裝備有設(shè)置在第二傳送腔后面的 后置模塊。所述后置模塊裝備有一個運送裝置，所述運送裝置同時將至少兩個構(gòu)件從第二 傳送腔中運送出來。
[0028] 根據(jù)本發(fā)明的另一個有利的實施形式，后置模塊裝備有至少兩個能抬起和能降下 的、用于至少兩個構(gòu)件的支承部。利用所述支承部能夠?qū)⑺鰳?gòu)件從運送裝置上抬起并輸 送給另一個加工步驟。
[0029] 根據(jù)本發(fā)明的另一個有利的實施形式，所述裝置在第一傳送腔上或在第一存儲腔 上裝備有第一測量裝置，所述第一測量裝置在運送期間檢測構(gòu)件的至少一個物理特性。這 樣例如可以測量構(gòu)件與預(yù)先規(guī)定的幾何形狀的偏差或反射率。
[0030] 根據(jù)本發(fā)明的另一個有利的實施形式，所述裝置在第二傳送腔上或在第二存儲腔 上裝備有第二測量裝置，所述第二測量裝置優(yōu)選測量與第一測量裝置所測量的物理特性相 同的構(gòu)件物理特性。以這種方式，可以在等離子涂覆之前和之后檢測測量值或由測量值導 出的量并將其進行對比。這可以得出關(guān)于涂覆質(zhì)量的結(jié)論。
[0031] 對測量值的檢測用于質(zhì)量保證和質(zhì)量控制。通過在涂覆之前和之后測量待涂覆的 構(gòu)件可以獲得關(guān)于涂層質(zhì)量的信息。所述測量在運送構(gòu)件時進行，從而可以在構(gòu)件的整個 表面上分布地獲得測量值。這使得還可以得到平均值。傳感器可以例如無接觸地檢測測量 值，或者具有柔性的測量頭，所述測量頭與構(gòu)件總是具有相同的間距。構(gòu)件與圓柱形形狀的 偏差以這種方式得到補償。
[0032] 根據(jù)本發(fā)明的另一個有利的實施形式，第一測量裝置和第二測量裝置分別裝備有 至少一個光源和至少一個光傳感器，所述光傳感器檢測由構(gòu)件反射的光源的光。以這種方 式檢測構(gòu)件的反射特性。如果在等離子涂覆時在處理腔中涂覆抗反射涂層，則可以根據(jù)反 射率測量確定涂層的質(zhì)量。
[0033] 根據(jù)本發(fā)明的另一個有利的實施形式，處理腔裝備有混合腔，在混合腔中導入混 合腔的涂層材料分布在等離子體射束中。
[0034] 根據(jù)本發(fā)明的另一個有利的實施形式，混合腔裝備有彎曲的管，通過所述管輸送 涂層材料。涂層材料優(yōu)選在等離子體射束之外并且向等離子體射束的邊緣上導入。向等離 子體邊緣導入的涂層材料由等離子體射束攪動（verwirbeln)并在此時混合到等離子體射 束中。
[0035] 根據(jù)本發(fā)明的另一個有利的實施形式，在處理腔中設(shè)置至少一個阻擋體，等離子 燃燒器的等離子體射束對準阻擋體的表面。利用阻擋體例如可以影響并優(yōu)化流動場。
[0036] 根據(jù)本發(fā)明的另一個有利的實施形式，阻擋體由對于等離子體射束惰性的材料組 成。
[0037] 根據(jù)本發(fā)明的具有權(quán)利要求15的特征的方法的特征在于以下方法步驟：
[0038] 將第一構(gòu)件和第二構(gòu)件運送到第一傳送腔中，
[0039] -旦第一構(gòu)件和第二構(gòu)件沿運送方向后面的端部被容納到第一傳送腔中，則關(guān)閉 第一傳送腔上的外部的閉鎖裝置，
[0040] 對第一傳送腔排真空到這樣的壓力，所述壓力與連接在第一傳送腔上的第一存儲 腔和設(shè)置在該存儲腔上的處理腔的壓力基本上相同。
[0041] 打開設(shè)置在第一傳送腔和第一存儲腔之間的內(nèi)部的閉鎖裝置，
[0042] 將第一構(gòu)件和第二構(gòu)件從第一傳送腔運送到第一存儲腔中，
[0043] 關(guān)閉內(nèi)部的閉鎖裝置，
[0044] 對第一傳送腔進行通風，
[0045] 將第一構(gòu)件和第二構(gòu)件從第一存儲腔運送到處理腔中，
[0046] 在處理腔中通過等離子涂覆對第一構(gòu)件和第二構(gòu)件進行涂覆，
[0047] 將第一構(gòu)件和第二構(gòu)件運送到設(shè)置在處理腔上的第二存儲腔中，
[0048] 對沿運送方向連接在第二存儲腔之后的第二傳送腔排真空至這樣的壓力，所述壓 力基本上對應(yīng)于處理腔和第二存儲腔中的壓力，
[0049] 打開第二存儲腔和第二傳送腔之間的內(nèi)部的閉鎖裝置，
[0050] 將第一構(gòu)件和第二構(gòu)件從第二存儲腔運送到第二傳送腔中
[0051 ] 關(guān)閉第二存儲腔和第二傳送腔之間的內(nèi)部的閉鎖裝置，
[0052] 對第二傳送腔進行通風，
[0053] 將第一構(gòu)件和第二構(gòu)件由第二傳送腔運送出來。
[0054] 所述方法由此不僅提供了同時對至少兩個構(gòu)件進行涂覆的優(yōu)點，而且還能在對構(gòu) 件進行涂覆期間將前面的構(gòu)件從裝置中輸出并將后面的構(gòu)件輸入裝置中。由此在裝置中可 以同時存在三組或三個批次的構(gòu)件。
[0055] 根據(jù)本發(fā)明的另一個有利的實施形式，將第三構(gòu)件和第四構(gòu)件運送到第一傳送腔 中，此后對第一傳送腔進行通風。第一傳送腔由此立即重新裝載構(gòu)件，此后將前面的構(gòu)件輸 送到第一存儲腔，并且第一傳送腔和第一存儲腔之間的閉鎖裝置重新位于關(guān)閉位置中。裝 載有構(gòu)件的第一傳送腔的排真空和前面的構(gòu)件在處理腔中的涂覆可以由此同時進行。
[0056] 根據(jù)按本發(fā)明的方法的另一個有利的實施形式，在等離子涂覆之前檢測構(gòu)件的至 少一個物理特性。在等離子涂覆之后第二次檢測構(gòu)件的相同的物理特性。此時獲得的各測 量值相互比較，以便評估等離子涂覆的質(zhì)量。由所述測量值可以得到關(guān)于涂覆的信息。以 這種方式進行質(zhì)量檢查。例如檢測反射特性作為物理特性。為此用光照射構(gòu)件。檢測并評 估由構(gòu)件反射的光。特別是檢測反射的光的量。此外也可以檢測反射的光的波長。對構(gòu)件 的照射可以利用白光或利用具有不同波長或波長范圍的單色光進行。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0057] 由下面的說明、附圖和權(quán)利要求可以得出本發(fā)明的其他優(yōu)點和有利的實施形式。 在附圖中示出本發(fā)明的一個實施例。其中：
[0058] 圖1用立體圖示出用于等離子涂覆的裝置，
[0059] 圖2用沿構(gòu)件的運送方向從前面觀察的視圖示出根據(jù)圖1的裝置，
[0060] 圖3示出圖3的局部，
[0061] 圖4用側(cè)視圖示出根據(jù)圖1的裝置，
[0062] 圖5用俯視圖示出根據(jù)圖1的裝置，
[0063] 圖6示出根據(jù)圖1的裝置的處理腔、第一存儲腔和第二存儲腔以及泵系統(tǒng)，
[0064] 圖7示出根據(jù)圖1的裝置的第一傳送腔，
[0065] 圖8示出根據(jù)圖1的裝置的第二傳送腔，
[0066] 圖9示出根據(jù)圖1的裝置的前置模塊，
[0067] 圖10示出根據(jù)圖1的裝置的后置模塊，
[0068] 圖11示出具有等離子體發(fā)生器的處理腔，
[0069] 圖12用立體圖示出根據(jù)圖1的裝置的運送裝置
[0070] 圖14用從下面觀察的立體圖示出根據(jù)圖1的裝置的運送裝置，
[0071] 圖15示出運送滑架。
【具體實施方式】
[0072] 在圖1、圖2、圖4和圖5中用不同的視圖示出用于對細長的圓柱形的構(gòu)件進行等 離子涂覆的裝置。為了更好的概覽，圖1中沒有示出裝置的各個部件設(shè)置在其上的臺架。所 述裝置具有處理腔1、第一存儲腔2、第二存儲腔3、第一傳送腔4、第二傳送腔5、第一泵系統(tǒng) 6、前置模塊7和后置模塊8以及第二泵系統(tǒng)36。第一傳送腔4在朝向前置模塊7的側(cè)面 上裝備有第一閉鎖裝置9。第一傳送腔4在朝向第一存儲腔2的側(cè)面上裝備有第二閉鎖裝 置10。第二傳送腔5在朝向第二存儲腔3的側(cè)面上裝備有第三閉鎖裝置11。第二傳送腔 5在朝向后置模塊8的側(cè)面上裝備有第四閉鎖裝置12。第一閉鎖裝置和第四閉鎖裝置相對 于大氣環(huán)境封閉所述裝置。閉鎖裝置9、10、11、12是用于真空技術(shù)的滑閥。在第一存儲腔 2和處理腔1之間沒有設(shè)置閉鎖裝置。在處理腔1和第二存儲腔3之間同樣沒有設(shè)置閉鎖 裝置。處理腔1和第一存儲腔與第二存儲腔2、3通過第一泵系統(tǒng)6排真空并調(diào)整到預(yù)先規(guī) 定的壓力。一旦調(diào)整了處理腔1和第一存儲腔與第二存儲腔2、3中的所述壓力，則在輸入 和輸出構(gòu)件時和對構(gòu)件進行涂覆期間所述壓力僅在很小的程度上改變。
[0073] 第一傳送腔和第二傳送腔4、5通過第二泵系統(tǒng)36排真空。第二泵系統(tǒng)通過接頭 23與第一傳送腔4連接，而通過接頭24與第二傳送腔5連接。這兩個接頭通過管或軟管與 第二泵系統(tǒng)36連接。在輸入和輸出構(gòu)件時，第一傳送腔和第二傳送腔4、5中的壓力與第一 存儲腔及第二存儲腔2、3和處理腔中相比在很大的范圍內(nèi)變化。因此給第一傳送腔和第二 傳送腔4、5設(shè)置單獨的泵系統(tǒng)。
[0074] 等離子燃燒器從上面安裝到處理腔1上。等離子燃燒器利用凸緣連接在指向上面 的開口上。等離子燃燒器在圖11中示出。所述等離子燃燒器為了進行維護工作而從處理 腔1上抬起。
[0075] 圖2和圖3示出裝置的觀察方向?qū)?yīng)于構(gòu)件的運送方向的視圖。在圖示中可以看 到在第一傳送腔4的朝向前置模塊的開口上的兩個圓柱形的構(gòu)件13、14和一個孔板15?？?板限定第一閉鎖裝置9上的第一傳送腔4的開口橫截面。閉鎖裝置9為了更清楚起見在圖 2和圖3中沒有示出。這種孔板也設(shè)置在第二閉鎖裝置、第三閉鎖裝置和第四閉鎖裝置的范 圍內(nèi)。
[0076] 構(gòu)件13、14是具有圓形橫截面的管狀的構(gòu)件或筒狀（rohrenfdrmig)的構(gòu)件。
[0077] 在圖4和圖5中用從側(cè)面和從上面觀察的視圖示出所述裝置。為了更為清楚起 見，沒有示出泵系統(tǒng)6。圖4中示出用于處理腔的臺架16,用于第一存儲腔2的臺架17、用 于第二存儲腔3的臺架18、用于第一傳送腔4的臺架19、用于第二傳送腔5的臺架20、用于 前置模塊7的臺架21和用于后置模塊8的臺架22。裝置的各個部件設(shè)置在這些臺架16、 17、18、19、20、21、22上。各臺架是可移動的。這方便了對裝置的維護和修理并簡化了各個 部件的拆除和通過其他部件進行替換。
[0078] 圖4中還示出第一測量裝置39和第二測量裝置50。第一測量裝置49設(shè)置在第一 傳送腔4上。利用第一測量裝置用白光照射構(gòu)件。檢測并評估由構(gòu)件反射的光。第二測量 裝置50設(shè)置在第二傳送腔5上。第二測量裝置同樣用白光照射構(gòu)件并檢測由構(gòu)件反射的 光。利用第一測量裝置49在進行等離子涂覆之前測量構(gòu)件。利用第二測量裝置50在等離 子涂覆之后測量構(gòu)件。
[0079] 在圖6中示出處理腔1連同第一存儲腔和第二存儲腔2、3、所屬的臺架16、17、18 和第一泵系統(tǒng)6以及第二泵系統(tǒng)36。此外還可以看到第二閉鎖裝置和第三閉鎖裝置10、11。 該處理腔有利地在其外側(cè)上受到冷卻，例如利用水進行冷卻。以這種方式防止了，處理腔和 連接在處理腔上的傳送腔4、5過度升溫。冷卻裝置在圖中不可見。此外可以設(shè)置內(nèi)部冷卻 裝置，它是導流裝置的一部分。所述導流裝置實現(xiàn)了使等離子體射束朝待涂覆的構(gòu)件轉(zhuǎn)向。
[0080] 圖7中示出第一傳送腔4連同其臺架18和第一閉鎖裝置9。在該圖中還可看到接 頭23,第一傳送腔4通過接頭23連接到第二泵系統(tǒng)36上。
[0081] 圖8示出第二傳送腔5連同所屬的臺架20、第四閉鎖裝置12和接頭24,第二傳送 腔5通過該接頭連接到第二泵系統(tǒng)36上。
[0082] 在圖9中示出前置模塊7連同所屬的臺架21。前置模塊7裝備有運送裝置和能抬 起和降下的支承部25。運送裝置具有五個滾輪單元26，所述滾輪單元具有用于各三個滾輪 27、28、29的滾輪支承件。滾輪單元26能運動地設(shè)置在構(gòu)造成板件的支座30上。在圖12 中給出了滾輪單元的具體圖示。在前置模塊7上設(shè)有總共五個支承部25。這些支承部都具 有兩個凹部31、32。凹部31、32具有柱形的形狀。凹部的橫截面是半圓形的并且由此能與 管形的構(gòu)件13、14相適配。五個支承部25都通過在圖中不可見的驅(qū)動裝置同時抬起或降 下。這些支承部首先處于抬起的位置，從而可以將構(gòu)件放置在其上，構(gòu)件不必與運送裝置的 滾輪27、28、29接觸。然后，五個支承部25都同時下降至這樣的程度，使得構(gòu)件13、14支承 在運送裝置的滾輪27、28、29上并且不在支承在支承部25上。然后通過滾輪27、28、29的 旋轉(zhuǎn)，構(gòu)件13、14被朝第一傳送腔4的方向輸送。
[0083] 在圖10中示出后置模塊8連同所屬的臺架22。后置模塊8和前置模塊7 -樣裝 備有運送裝置。所述運送裝置基本上對應(yīng)于圖9中所示的前置模塊的運送裝置。附加于此， 后置模塊9可以和前置模塊7 -樣裝備有能抬起和降下的支承部。所述支承部在圖10中 沒有示出。利用運送裝置從第二傳送腔中輸送出來的構(gòu)件13、14可以利用能運動的支承部 從運送裝置的滾輪上抬起。
[0084] 圖11示出處理腔1連同等離子燃燒器37、管狀的阻擋體（Stauk0rper) 38和兩 個構(gòu)件13、14。阻擋體38位置固定地設(shè)置在處理腔1中。構(gòu)件13、14通過第一存儲腔和第 二存儲腔的運送裝置運送。在處理腔1中沒有運送裝置。等離子燃燒器37的等離子體射 束39在碰撞到阻擋體38上時產(chǎn)生等離子云40,所述等離子云對涂覆產(chǎn)生有利的作用。
[0085] 等離子燃燒器例如可以是具有鎢陰極和水冷的銅陽極的同軸等離子燃燒器，所述 銅陽極在導流的區(qū)域設(shè)有氧化鉭內(nèi)層。它設(shè)計成用于產(chǎn)生激發(fā)的氧/氬混合物。氧氣在等 離子體射束的高溫區(qū)域中供給。通過對等離子體射束特殊的流動引導，防止氧氣與熱的鎢 陰極接觸。通過彎曲的管，將涂層材料、例如六甲基二甲硅醚HMDSO導入處理腔并將其供應(yīng) 給等離子體射束。涂層材料的供應(yīng)裝置還具有定量單元和蒸發(fā)單元。如果涂層材料被輸送 到等離子燃燒器中，則可以形成致密的層。如果涂層材料在等離子燃燒器的外部供應(yīng)，則產(chǎn) 生多孔的層。
[0086] 也可以使用具有由介電材料制成的水冷的放電管的感應(yīng)式的等離子燃燒器，所 述放電管由感應(yīng)線圈包圍，以便產(chǎn)生純的高度激勵的氧等離子體。氧氣供應(yīng)按方位角 (azimutal)沿放電管壁進行。涂層材料沿軸向直接在放電區(qū)域中輸入等離子燃燒器中。在 這種情況下，實現(xiàn)致密的層。如果涂層材料在等離子燃燒器之外供應(yīng)到等離子體射束中，則 形成多孔的層。
[0087] 在圖12和圖13中示出運送裝置的透視圖，所述運送裝置運送管狀的構(gòu)件。所述 運送裝置是構(gòu)成在圖9中示出的前置模塊7的組成部分的運送裝置。相應(yīng)的運送裝置設(shè)置 在第一傳送腔和第二傳送腔中以及第一存儲腔和第二存儲腔中。運送裝置具有多個滾輪單 元26。每個滾輪單元裝備一個滾輪支承件33,在所述滾輪支承件中可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置三個滾輪 27、28、29。這里各滾輪27、28、29至少局部地向上突出于滾輪支承件22,從而圓柱形的構(gòu) 件13、14可以放置在滾輪27、28、29上。在兩個外側(cè)的滾輪27和29上分別僅放置一個構(gòu) 件13、14。在中間的滾輪28上放置兩個構(gòu)件13和14。滾輪支承件33設(shè)置在構(gòu)造成板件 的支座30上。支座30在背向滾輪的側(cè)面上設(shè)置驅(qū)動電機34和驅(qū)動軸35。驅(qū)動電機的轉(zhuǎn) 矩通過傳動裝置36從驅(qū)動軸35傳遞到滾輪27、28、29上。
[0088] 如果應(yīng)同時并排運送多于兩個構(gòu)件，滾輪單元必須相應(yīng)地擴展另外的滾輪。
[0089] 所有滾輪單元26能繞垂直于板件30延伸的軸線旋轉(zhuǎn)，從而可以調(diào)整滾輪27、28、 29的旋轉(zhuǎn)軸線相對于構(gòu)件13、14的縱軸線和相對于運送方向定向的角度。所述角度大于 0°小于90°。由于該角度，構(gòu)件在運送時進行螺旋形的運動，所述運動由沿構(gòu)件的縱軸線 的平移運動和繞構(gòu)件的縱軸線的旋轉(zhuǎn)運動合成。沿構(gòu)件13、14縱軸線的平移運動對應(yīng)于運 送裝置沿運送方向的運動。滾輪單元的角度可以無級地調(diào)整。由此可以無級地調(diào)整螺旋線 的螺距并且由此除了均勻性以外還能夠?qū)ν扛菜俣仁┘佑绊憽?br>
[0090] 為了進行涂覆，首先對處理腔1排真空。第一閉鎖裝置、第二閉鎖裝置、第三閉鎖 裝置和第四閉鎖裝置關(guān)閉。由于處理腔較小的容積可以快速建立等離子涂覆所需的例如 10Pa至5000Pa的壓力。接著激活等離子燃燒器，并且在處理腔1中點燃等離子體。這樣建 立了涂覆所需的等離子體組成。
[0091] 接著將兩個構(gòu)件13、14放置在前置模塊7的支承部25上。各支承部25同時下降， 從而將構(gòu)件13、14置于運送裝置的滾輪27、28、29上。打開第一閉鎖裝置9。此時，傳送腔 4、5的泵系統(tǒng)36分別通過一個閥與第一傳送腔和第二傳送腔分開。構(gòu)件13、14利用運送 裝置輸送到第一傳送腔4中。這通過前置模塊7的運送裝置和第一傳送腔7的運送裝置進 行。在構(gòu)件移入第一傳送腔時，確定構(gòu)件的至少一個物理特性。這通過第一測量裝置49進 行。
[0092] 當構(gòu)件13、14完全被容納到第一傳送腔4中時，第一閉鎖裝置關(guān)閉并對傳送腔4 排真空，直至在該傳送腔中調(diào)整到至少接近與第一存儲腔和第二存儲腔2、3和處理腔1中 相同的壓力。一旦達到該壓力，打開第二閉鎖裝置10。將構(gòu)件13、14運送到第一存儲腔2 中。一旦構(gòu)件13、14完全離開第一傳送腔4,則重新關(guān)閉第二閉鎖裝置10。接著，可以對第 一傳送腔4進行通風，并打開第一閉鎖裝置9。可以在第一傳送腔4中容納其他構(gòu)件。
[0093] 將構(gòu)件13、14從第一存儲腔2運送到處理腔1和第二存儲腔3中。在處理腔1中 構(gòu)件進行等離子涂覆。
[0094] 第四閉鎖裝置12關(guān)閉，并且第二傳送腔5排真空，直至在第二傳送腔5中調(diào)整到 至少接近與第一存儲腔和第二存儲腔2、3和處理腔1中相同的壓力。然后打開第三閉鎖裝 置11。經(jīng)涂覆的構(gòu)件13、14被運送到第二傳送腔5中。一旦構(gòu)件13、14完全容納到第二 傳送腔中，則重新關(guān)閉第三閉鎖裝置11。處理腔1現(xiàn)在準備好對下面的構(gòu)件進行等離子涂 覆。
[0095] 對第四傳送腔5通風。打開第四閉鎖裝置2并利用運送裝置將構(gòu)件13、14從第二 傳送腔5輸送給后置模塊8。在從第二傳送腔5向后置模塊8運送時，對于構(gòu)件13、14檢測 和在從前置模塊7向第一傳送腔4運送時相同的物理特性。這利用第二測量裝置50進行， 所述測量裝置設(shè)置在第二傳送腔上。在第二次測量中獲得的測量值或由此導出的量與第一 次測量的對應(yīng)值比較。這樣獲得關(guān)于涂覆質(zhì)量的信息。
[0096] 在處理腔中對構(gòu)件進行涂覆期間，處于第二傳送腔中的之前已經(jīng)涂覆的構(gòu)件已經(jīng) 可以從第二傳送腔中運送出來。此外可以將下面的構(gòu)件運送到第一傳送腔中。以這種方式， 同時有三組或三個批次的構(gòu)件處于裝置中。
[0097] 在圖14中示出運送滑架41，利用該運送滑架可以例如將扁平的構(gòu)件、特別是板件 運送通過根據(jù)圖1至圖13的裝置。運送滑架具有兩個能旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在支承塊42、43、44中 的輥子46、47。每個輥子46、47配設(shè)兩個支承塊。在所述四個支承塊中在圖中僅能看到三 個支承塊42、43、44。第四支承塊被遮擋。輥子46、47能夠繞其旋轉(zhuǎn)軸線自由旋轉(zhuǎn)。支承塊 設(shè)置在板件48上。輥子可以放置在根據(jù)圖12和圖13的運送裝置的滾輪27、28、29上。通 過滾輪27、28、29的旋轉(zhuǎn)，輥子被驅(qū)動旋轉(zhuǎn)。此外運送滑架被驅(qū)動進行沿運送裝置的運送方 向的平移運動。這里，設(shè)置在板件48上構(gòu)件可以被運送通過裝置。
[0098] 本發(fā)明的所有特征可以單獨地以及按相互間任意的組合構(gòu)成本發(fā)明的重要內(nèi)容。
[0099] 附圖標記列表
[0100] 1 處理腔
[0101] 2 第一存儲腔
[0102] 3 第二存儲腔
[0103] 4 第一傳送腔
[0104] 5 第二傳送腔
[0105] 6 第一泵系統(tǒng)
[0106] 7 前置模塊
[0107] 8 后置模塊
[0108] 9 第一閉鎖裝置
[0109] 10 第二閉鎖裝置
[0110] 11 第三閉鎖裝置
[0111] 12 第四閉鎖裝置
[0112] 13 構(gòu)件
[0113] 14 構(gòu)件
[0114] 15 孔板
[0115] 16 臺架
[0116] 17 臺架
[0117] 18 臺架
[0118] 19 臺架
[0119] 20 臺架
[0120] 21 臺架
[0121] 22 臺架
[0122] 23 接頭
[0123] 24 接頭
[0124] 25 支承部
[0125] 26 滾輪單元
[0126] 27 滾輪
[0127] 28 滾輪
[0128] 29 滾輪
[0129] 30 支座
[0130] 31 凹部
[0131] 32 凹部
[0132] 33 滾輪支承件
[0133] 34 驅(qū)動電機
[0134] 35 驅(qū)動軸
[0135] 36 第二泵系統(tǒng)
[0136] 37 等離子燃燒器
[0137] 38 阻擋體
[0138] 39 等離子體射束
[0139] 40 等離子云
[0140] 41 運送滑架
[0141] 42 支承塊
[0142] 43 支承塊
[0143] 44 支承塊
[0144] 45
[0145] 46 輥子
[0146] 47 輥子
[0147] 48 板件
[0148] 49 第一測量裝置
[0149] 50 第二測量裝置
【權(quán)利要求】
1. 一種用于對細長的、圓柱形的構(gòu)件進行等離子涂覆的裝置，包括： 至少一個處理腔（1)， 第一存儲腔（2)，所述第一存儲腔（2)與所述處理腔（1)沒有閉鎖裝置地連接， 第二存儲腔（3)，所述第二存儲腔（3)在所述處理腔（1)的背離所述第一存儲腔的側(cè)面 上與所述處理腔（1)沒有閉鎖裝置地連接， 細長的第一傳送腔（4)，所述第一傳送腔（4)在背離所述處理腔的側(cè)面上與所述第一 存儲腔⑵連接， 細長的第二傳送腔（5)，所述第二傳送腔（5)在背離所述處理腔的側(cè)面上與所述第二 存儲腔⑶連接， 在所述第一傳送腔（4)的兩個端部上和所述第二傳送腔（5)的兩個端部上的閉鎖裝置 (9、10、11、12)， 一個或多個泵系統(tǒng)（6、36)，所述泵系統(tǒng)用于對所述處理腔（1)、所述第一存儲腔（2)和 所述第二存儲腔（3)以及所述第一傳送腔（4)和所述第二傳送腔（5)進行排真空， 在所述第一傳送腔和所述第二傳送腔（4、5)中以及所述第一存儲腔和所述第二存儲 腔（2、3)中的運送裝置，所述運送裝置將至少兩個構(gòu)件（13、14)同時并且彼此平行定向地 供應(yīng)給所述處理腔（1)和從所述處理腔（1)導出， 在所述處理腔（1)中或上的至少一個等離子燃燒器（37)，該等離子燃燒器（37)的等離 子體射束以0°和180°的不同的角度相對于所述運送裝置的運送方向定向，所述至少兩 個構(gòu)件（13、14)同時用導入等離子體射束（39)中的涂覆材料涂覆。
2. 根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的裝置，其特征在于，所述處理腔（1)比待涂覆的 構(gòu)件（13、14)短，并且第一傳送腔和第二傳送腔（4、5)比待涂覆的構(gòu)件（13、14)長。
3. 根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的裝置，其特征在于，所述運送裝置裝備有多個滾 輪單元（26)，每個所述滾輪單元裝備有一個滾輪支承件（33)和至少三個在所述滾輪支承 件上并排設(shè)置的滾輪（27、28、29)，一個所述滾輪單元（33)的所述滾輪（27、28、29)的旋轉(zhuǎn) 軸線相互平行和錯開。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于，所述滾輪（27、28、29)的旋轉(zhuǎn)軸線與所述 構(gòu)件的運送方向之間的角度大于0°小于90°。
5. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于，所述滾輪單元（26)可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在支座 (30)上，所述滾輪（27、28、29)的旋轉(zhuǎn)軸線與所述構(gòu)件（13、14)的運送方向之間的角度是可 調(diào)的。
6. 根據(jù)權(quán)利要求3、4或5所述的裝置，其特征在于，所述運送裝置裝備有驅(qū)動裝置 (34、35)，所述驅(qū)動裝置驅(qū)動所述滾輪單元（26)的所有滾輪（27、28、29)至相同的旋轉(zhuǎn)速 度。
7. 根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的裝置，其特征在于，所述裝置裝備有前置于所述 第一傳送腔（4)中的前置模塊（7)，所述前置模塊（7)裝備有運送裝置，所述運送裝置將至 少兩個構(gòu)件同時運送到所述第一傳送腔（4)中。
8. 根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的裝置，其特征在于，所述裝置裝備有后置于所述 第二傳送腔（5)中的后置模塊（8)，所述后置模塊（8)裝備有運送裝置，所述運送裝置將至 少兩個構(gòu)件同時從所述第二傳送腔（5)運送出來。
9. 根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的裝置，其特征在于，所述前置模塊（7)和/或后置模塊 (8)裝備有用于所述構(gòu)件（13、14)的能抬起和降下支承件（25)。
10. 根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的裝置，其特征在于，所述裝置在所述第一傳送腔 (4)上或在所述第一存儲腔（2)上裝備有第一測量裝置，所述第一測量裝置在運送期間檢 測所述構(gòu)件（13、14)的至少一個物理特性，并且所述裝置在所述第二傳送腔（5)上或在所 述第二存儲腔（3)上裝備有第二測量裝置，所述第二測量裝置檢測所述構(gòu)件（13、14)的與 所述第一測量裝置所檢測的物理特性相同的物理特性。
11. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的裝置，其特征在于，所述第一測量裝置和所述第二測量裝 置分別裝備有至少一個光源以及分別裝備有至少一個光傳感器，所述光傳感器檢測由所述 構(gòu)件（13、14)反射的光源的光。
12. 根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的裝置，其特征在于，所述處理腔（1)裝備有混合 腔，在所述混合腔中，導入所述混合腔的涂層材料分配到所述等離子體射束中。
13. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的裝置，其特征在于，所述混合腔裝備有彎曲的管，通過所述 管供應(yīng)涂層材料。
14. 根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的裝置，其特征在于，在所述處理腔中設(shè)置有至少 一個阻擋體，所述等離子燃燒器的等離子體射束對準所述阻擋體的表面。
15. -種用于對細長的圓柱形的構(gòu)件、特別是管狀的構(gòu)件進行等離子涂覆的方法，其特 征在于，該方法具有以下步驟： 將至少一個第一構(gòu)件（13)和至少一個第二構(gòu)件（14)運送到第一傳送腔（4)中，所述 第一傳送腔裝備有第一閉鎖裝置和第二閉鎖裝置（9、10)，此時所述第一閉鎖裝置（9)打 開，而所述第二閉鎖裝置（10)關(guān)閉， 一旦所述第一構(gòu)件和所述第二構(gòu)件（13、14)沿運送方向后面的端部被容納到所述第 一傳送腔（4)中，則關(guān)閉所述第一傳送腔（4)上的所述第一閉鎖裝置（9)， 對所述第一傳送腔（4)排真空到這樣的壓力，所述壓力與連接在所述第一傳送腔（4) 上的第一存儲腔（2)和設(shè)置在所述第一存儲腔（2)上的處理腔（1)的壓力基本上相同， 打開所述第二閉鎖裝置（10)，所述第二閉鎖裝置設(shè)置在所述第一傳送腔（4)和所述第 一存儲腔⑵之間， 將所述第一構(gòu)件和所述第二構(gòu)件（13、14)從所述第一傳送腔（4)運送到所述第一存儲 腔⑵中， 關(guān)閉所述第二閉鎖裝置（10)， 對所述第一傳送腔（4)進行通風， 將所述第一構(gòu)件和所述第二構(gòu)件（13、14)從所述第一存儲腔（2)運送到所述處理腔 ⑴中， 在所述處理腔（1)中通過等離子涂覆對所述第一構(gòu)件（13)和所述第二構(gòu)件（14)進行 涂覆， 將所述第一構(gòu)件和所述第二構(gòu)件（13、14)運送到設(shè)置在所述處理腔（1)上的第二存儲 腔⑶中， 對沿運送方向連接在所述第二存儲腔（3)之后的第二傳送腔（5)排真空至這樣的壓 力，所述壓力基本上對應(yīng)于所述處理腔（1)和所述第二存儲腔（3)中的壓力，此時關(guān)閉所述 第二存儲腔（3)和所述第二傳送腔（5)之間的第三閉鎖裝置（11)并且同樣關(guān)閉在所述第 二傳送腔（5)的另一個端部上的第四閉鎖裝置（12)， 將所述第一構(gòu)件和所述第二構(gòu)件（13、14)從所述第二存儲腔（3)運送到所述第二傳送 腔⑵中， 關(guān)閉所述第二存儲腔（3)和所述第二傳送腔（5)之間的所述第三閉鎖裝置（11)， 對所述第二傳送腔（5)進行通風，并打開所述第四閉鎖裝置（12) 將所述第一構(gòu)件和所述第二構(gòu)件（13、14)由所述第二傳送腔（5)運送出來。
16. 根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其特征在于，在對所述第一傳送腔（4)進行通風之 后，將至少一個第三構(gòu)件和至少一個第四構(gòu)件傳送到所述第一傳送腔（4)中。
17. 根據(jù)權(quán)利要求15或16所述的方法，其特征在于，將具有至少兩個構(gòu)件的第一組從 所述第二傳送腔（5)中運送出來，此時具有至少兩個構(gòu)件的第二組裝載在所述處理腔中， 并將具有至少兩個構(gòu)件的第三組運送到所述第一傳送腔（4)中。
【文檔編號】C23C16/54GK104254639SQ201380021587
【公開日】2014年12月31日 申請日期:2013年3月5日 優(yōu)先權(quán)日:2012年3月5日
【發(fā)明者】S·洛爾 申請人:洛爾等離子技術(shù)有限公司