專利名稱：一種鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種鍍膜工裝，特別是涉及一種鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，主要適用于磁控濺射鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
目前磁控濺射鍍膜是屬于PVD鍍膜方式的一個(gè)分支，該鍍膜法是指，在真空環(huán)境下，通過電壓和磁場(chǎng)的共同作用，以被離化的惰性氣體離子對(duì)靶材進(jìn)行轟擊，致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出并沉積在基件上形成薄膜，由于磁控濺射鍍膜機(jī)技術(shù)具有，成膜工藝處理溫度低，瞬間溫度不超過20(TC，不會(huì)熱灼傷被鍍件，結(jié)合強(qiáng)度高，不污染環(huán)境，被廣泛運(yùn)用于汽車反光鏡、手機(jī)面板、汽車內(nèi)外飾件的鍍膜。由于鍍膜產(chǎn)品的多樣性決定，需要對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行部分區(qū)域鍍膜，而通常使用的遮蔽式鍍膜工裝，往往只實(shí)現(xiàn)中間部分鍍膜邊緣部分遮蔽的形式，要實(shí)現(xiàn)邊緣部分鍍膜中間部分遮蔽，通常會(huì)選用貼PET薄膜遮蔽，鍍膜后再移除，或者使用絲網(wǎng)印刷涂覆遮蔽非鍍膜區(qū)域，鍍膜后再除去涂膠，而以上兩種方式成本高，輪廓度偏離大，邊緣難以平滑，工藝流程長(zhǎng)，增加了不良品產(chǎn)生的幾率。如，中國(guó)專利公開了公開號(hào)為CN202430282U的一種新型的磁控濺射鍍膜基片夾具，該新型的磁控濺射鍍膜基片夾具為鏤空框架結(jié)構(gòu)，所述鏤空框架底部為鏤空擋板，覆蓋基片背面四邊，所述鏤空擋板內(nèi)表面四個(gè)角上用螺絲固定安裝四個(gè)同樣大小的墊子，所述鏤空框架正上端設(shè)置有一擋板。該新型的磁控濺射鍍膜基片夾具遮擋邊緣部分，無法進(jìn)行外緣全封閉帶的鍍膜。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述不足，而提供一種結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，使用方便，可實(shí)現(xiàn)鍍外緣全封閉帶，鍍膜精確度高，成膜位置準(zhǔn)確，邊緣清晰無陰影，可鍍?nèi)我庑螤畹耐饩壢忾]的鍍膜帶，成本較低的鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝。本實(shí)用新型解決上述問題所采用的技術(shù)方案是:該鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，包括主干框架，主干框架上設(shè)置至少一個(gè)架設(shè)基片的架設(shè)單元，所述架設(shè)單元包括遮擋片、遮擋片固定梁和被鍍膜片支撐固定架，所述遮擋片固定梁的兩端固定在主干框架上，該遮擋片固定梁位于主干框架的鍍膜面，所述遮擋片上設(shè)置有固定孔，遮擋片通過所述固定孔與遮擋片固定梁固定，遮擋片與主干框架平行，所述被鍍膜片支撐固定架位于主干框架的非鍍膜面的同一側(cè)，該被鍍膜片支撐固定架的一端通過轉(zhuǎn)軸與主干框架活動(dòng)連接，所述主干框架上設(shè)有卡座，被鍍膜片支撐固定架的另一端與卡座相配合，所述被鍍膜片支撐固定架位于架設(shè)單元的上方，所述遮擋片的邊緣與所述架設(shè)單元的邊緣之間有一圈間隙。遮擋片用于遮蔽被鍍膜片的被鍍面的非鍍膜部分，遮擋片固定梁用于固定遮擋片，被鍍膜片支撐固定架用于固定被鍍膜片的位置，豎鍍時(shí)可防止被鍍膜片移動(dòng)，遮擋片的邊緣與所述架設(shè)單元的邊緣之間的一圈間隙使被鍍膜片的鍍膜部分裸露。本實(shí)用新型每個(gè)架設(shè)單元還包括至少三個(gè)被鍍膜片基準(zhǔn)定位支撐點(diǎn)，所述被鍍膜片基準(zhǔn)定位支撐點(diǎn)位于架設(shè)單元的邊緣。被鍍膜片基準(zhǔn)定位支撐點(diǎn)主要起到定位被鍍膜片的作用。本實(shí)用新型所述遮擋片的邊緣用CNC或慢走絲加工,表面粗糙度Ra=0.8 μ m以下，遮擋片的固定孔與輪廓一次裝夾，確保位置度小于0.05_，遮擋片的雙面經(jīng)過平面磨床加工，遮擋片與被鍍膜片的貼合面的平面度小于0.05。使外緣全封閉帶成膜位置準(zhǔn)確，邊緣清晰無陰影。本實(shí)用新型所述遮擋片固定梁與被鍍膜片的被鍍面的距離> 28mm，該遮擋片固定梁的寬度< 6.5_?？蓪?shí)現(xiàn)磁控濺射鍍膜機(jī)靶材通過氬離子轟擊后，鍍膜材料被均勻?yàn)R落在鍍膜區(qū)域。本實(shí)用新型所述遮擋片固定梁的兩端的棱角處設(shè)有兩個(gè)1.6X45°的倒角?？商嵘潭合路降牟Ａ雍穸鹊木鶆蛐?。本實(shí)用新型所述架設(shè)單元的邊緣與被鍍膜片的間隙< 1.27_。防止被鍍膜片的邊沿由于繞射效應(yīng)也會(huì)被鍍上膜層，影響產(chǎn)品檔次和外觀。本實(shí)用新型所述遮擋片與主干框架的鍍膜一側(cè)的平面之間的距離為12_。用于消除繞射的膜層沉降。主干框架的鍍膜一側(cè)即遮擋片所在的一側(cè)。作為優(yōu)選，架設(shè)單元為六個(gè)。本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下優(yōu)點(diǎn)和效果:結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，使用方便，可鍍?nèi)我庑螤畹耐饩壢忾]的鍍膜帶，遮擋片用于遮蔽被鍍膜片的被鍍面的非鍍膜部分，遮擋片固定梁用于固定遮擋片，被鍍膜片支撐固定架用于固定被鍍膜片的位置，豎鍍時(shí)可防止被鍍膜片移動(dòng)，遮擋片的邊緣與架設(shè)單元的邊緣之間的一圈間隙使被鍍膜片的鍍膜部分裸露，可實(shí)現(xiàn)鍍外緣全封閉帶，鍍膜精確度高，成膜位置準(zhǔn)確，邊緣清晰無陰影，被鍍膜片基準(zhǔn)定位支撐點(diǎn)主要起到定位被鍍膜片的作用，另外可防止擦傷磁控濺射鍍膜機(jī)內(nèi)的玻璃，遮擋片與主干框架的鍍膜一 側(cè)的平面之間的距離為12_，可消除繞射的膜層沉降，成本較低，適用于橫鍍和豎鍍兩種腔體。

圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例的鍍膜面的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例的非鍍膜面的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3是本實(shí)用新型實(shí)施例被鍍膜片被鍍面的結(jié)構(gòu)示意圖。標(biāo)號(hào)說明:遮擋片1、遮擋片固定梁2、被鍍膜片基準(zhǔn)定位支撐點(diǎn)3、主干框架4、被鍍膜片支撐固定架5、被鍍膜片6、鍍膜部分61和非鍍膜部分62。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖并通過實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)說明，以下實(shí)施例是對(duì)本實(shí)用新型的解釋而本實(shí)用新型并不局限于以下實(shí)施例。參見圖1至圖3，本實(shí)施例包括主干框架4和三條被鍍膜片支撐固定架5，主干框架4上設(shè)置有六個(gè)架設(shè)單元，六個(gè)架設(shè)單元以2X3的形式排列。本實(shí)施例一個(gè)架設(shè)單元包括遮擋片1、遮擋片固定梁2、被鍍膜片基準(zhǔn)定位支撐點(diǎn)3。[0021]本實(shí)施例每個(gè)架設(shè)單元對(duì)應(yīng)兩個(gè)遮擋片固定梁2，兩個(gè)遮擋片固定梁2平行設(shè)置，遮擋片固定梁2的兩端固定在主干框架4上，遮擋片固定梁2位于主干框架4的鍍膜面，遮擋片I上設(shè)置有四個(gè)固定孔，遮擋片I通過固定孔與遮擋片固定梁2固定，遮擋片I與主干框架4平行。遮擋片I的邊緣與所述架設(shè)單元的邊緣之間有一圈間隙，使被鍍膜片6的鍍膜部分61裸露，遮擋片I用于遮蔽被鍍膜片6的被鍍面的非鍍膜部分62。本實(shí)施例被鍍膜片支撐固定架5位于主干框架4的非鍍膜面，被鍍膜片支撐固定架5的一端通過轉(zhuǎn)軸與主干框架4活動(dòng)連接，主干框架4上設(shè)有卡座，被鍍膜片支撐固定架5的另一端與卡座相配合，被鍍膜片支撐固定架5位于兩個(gè)架設(shè)單元的上方，此處所述的“上方”為橫鍍時(shí)，本實(shí)施例所呈現(xiàn)的狀態(tài)限定的方向，三個(gè)被鍍膜片支撐固定架5平行設(shè)置。本實(shí)施例架設(shè)單元還包括每個(gè)架設(shè)單元對(duì)應(yīng)九個(gè)被鍍膜片基準(zhǔn)定位支撐點(diǎn)3，被鍍膜片基準(zhǔn)定位支撐點(diǎn)3位于架設(shè)單元的邊緣。本實(shí)施例遮擋片I的邊緣用CNC或慢走絲加工，表面粗糙度Ra=0.8 μ m以下，遮擋片I的固定孔與輪廓一次裝夾，確保位置度小于0.05_，遮擋片I的雙面經(jīng)過平面磨床加工，遮擋片I與被鍍膜片6的貼合面的平面度小于0.05。CNC為“計(jì)算機(jī)數(shù)字控制機(jī)床”的
英文縮寫。本實(shí)施例遮擋片固定梁2與被鍍面距離> 28mm,該遮擋片固定梁2的寬度<6.5_，遮擋片固定梁2的兩端的棱角處設(shè)有兩個(gè)1.6X45°的倒角。架設(shè)單元的邊緣與被鍍膜片6的間隙彡1.27mm。遮擋片I與主干框架4的鍍膜面之間的距離為12mm。使用時(shí)，將被鍍膜片支撐固定架5打開，用無痕吸盤吸住被鍍膜片6的非鍍膜面，將被鍍膜片6緊貼遮擋片I放置，遮擋片I遮住被鍍膜片6上的非鍍膜部分62，利用被鍍膜片基準(zhǔn)定位支撐 點(diǎn)3固定被鍍膜片6。然后將被鍍膜片支撐固定架5合上，固定住被鍍膜片
6。再將本鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝豎放入磁控濺射鍍膜機(jī)，靶材通過氬離子轟擊后，鍍膜材料被均勻?yàn)R落在鍍膜部分61，從而完成鍍膜。此外，需要說明的是，本說明書中所描述的具體實(shí)施例，其零、部件的形狀、所取名稱等可以不同，本說明書中所描述的以上內(nèi)容僅僅是對(duì)本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)所作的舉例說明。凡依據(jù)本實(shí)用新型專利構(gòu)思所述的構(gòu)造、特征及原理所做的等效變化或者簡(jiǎn)單變化，均包括于本實(shí)用新型專利的保護(hù)范圍內(nèi)。本實(shí)用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)所描述的具體實(shí)施例做各種各樣的修改或補(bǔ)充或采用類似的方式替代，只要不偏離本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)或者超越本權(quán)利要求書所定義的范圍，均應(yīng)屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，包括主干框架，主干框架上設(shè)置至少一個(gè)架設(shè)基片的架設(shè)單元，其特征在于:所述架設(shè)單元包括遮擋片、遮擋片固定梁和被鍍膜片支撐固定架，所述遮擋片固定梁的兩端固定在主干框架上，該遮擋片固定梁位于主干框架的鍍膜面，所述遮擋片上設(shè)置有固定孔，遮擋片通過所述固定孔與遮擋片固定梁固定，遮擋片與主干框架平行，所述被鍍膜片支撐固定架位于主干框架的非鍍膜面的同一側(cè)，該被鍍膜片支撐固定架的一端通過轉(zhuǎn)軸與主干框架活動(dòng)連接，所述主干框架上設(shè)有卡座，被鍍膜片支撐固定架的另一端與卡座相配合，所述被鍍膜片支撐固定架位于架設(shè)單元的上方，所述遮擋片的邊緣與所述架設(shè)單元的邊緣之間有一圈間隙。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，其特征在于:每個(gè)架設(shè)單元還包括至少三個(gè)被鍍膜片基準(zhǔn)定位支撐點(diǎn)，所述被鍍膜片基準(zhǔn)定位支撐點(diǎn)位于架設(shè)單元的邊緣。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍外緣全封 閉帶的鍍膜工裝，其特征在于:所述遮擋片的邊緣用CNC或慢走絲加工，表面粗糙度Ra=0.8μπι以下，遮擋片的固定孔與輪廓一次裝夾，確保位置度小于0.05mm ;遮擋片的雙面經(jīng)過平面磨床加工，遮擋片與被鍍膜片的貼合面的平面度小于0.05。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，其特征在于:所述遮擋片固定梁與被鍍膜片的被鍍面的距離> 28mm，該遮擋片固定梁的寬度< 6.5mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，其特征在于:所述遮擋片固定梁的兩端的棱角處設(shè)有兩個(gè)1.6X45°的倒角。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，其特征在于:所述架設(shè)單元的邊緣與被鍍膜片的間隙彡1.27mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，其特征在于:所述遮擋片與主干框架的鍍膜一側(cè)的平面之間的距離為12mm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，其特征在于:所述架設(shè)單元為六個(gè)。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝，主要適用于磁控濺射鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。本實(shí)用新型包括主干框架，主干框架上設(shè)置至少一個(gè)架設(shè)基片的架設(shè)單元，架設(shè)單元包括遮擋片、遮擋片固定梁和被鍍膜片支撐固定架，遮擋片固定梁的兩端固定在主干框架上，遮擋片通過所述固定孔與遮擋片固定梁固定，被鍍膜片支撐固定架位于主干框架的非鍍膜面的同一側(cè)，被鍍膜片支撐固定架的一端通過轉(zhuǎn)軸與主干框架活動(dòng)連接，遮擋片的邊緣與所述架設(shè)單元的邊緣之間有一圈間隙。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，使用方便，可實(shí)現(xiàn)鍍外緣全封閉帶，鍍膜精確度高，成膜位置準(zhǔn)確，邊緣清晰無陰影，可鍍?nèi)我庑螤畹耐饩壢忾]的鍍膜帶，成本較低。
文檔編號(hào)C23C14/35GK203159701SQ20132010570
公開日2013年8月28日 申請(qǐng)日期2013年3月8日 優(yōu)先權(quán)日2013年3月8日
發(fā)明者趙禮, 李志忠 申請(qǐng)人:浙江藍(lán)特光學(xué)股份有限公司