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一種金屬粘結(jié)片的無變形分離裝置的制作方法

文檔序號:3282761閱讀:174來源:國知局
專利名稱:一種金屬粘結(jié)片的無變形分離裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及金屬料片因高溫退火引起粘結(jié)的分離裝置,尤其適用于軟磁合金芯片因高溫退火引起粘結(jié)的分離裝置。
背景技術(shù)
金屬片在所承受的機械加工過程中,內(nèi)部會產(chǎn)生應(yīng)力及微觀結(jié)構(gòu)破壞,此應(yīng)力及微觀結(jié)構(gòu)破壞對其物理性能、機械性能會產(chǎn)生不良影響,為此需要進(jìn)行高溫退火,以消除應(yīng)力及恢復(fù)再結(jié)晶。但是,金屬片在高溫退火過程中,由于爐溫較高,常常發(fā)生金屬片之間相互粘結(jié)的現(xiàn)象。如,用于電磁互感器的1J85類軟磁合金芯片,在加工制備時,需先由軟磁合金帶材沖制成環(huán)形、E形等形狀的芯片,再將芯片高溫(1150°C左右)及保護(hù)氣氛下退火——達(dá)到消除應(yīng)力、充分再結(jié)晶的目的,以獲取理想的磁性能狀態(tài)。傳統(tǒng)制備軟磁合金芯片的工藝過程中,當(dāng)進(jìn)行高溫退火時,其裝料方法是:將芯片坯料堆放在料盒內(nèi),或?qū)⑿酒髁洗┰谝桓饘賻想S后將一串串坯料串堆放在料盒內(nèi),芯片坯料之間用氧化鋁粉或氧化鎂粉隔離,繼而將料盒放進(jìn)爐堂內(nèi)進(jìn)行氫氣保護(hù)下的高溫退火熱處理。這種方法存在的缺點是:由于受隔離粉劑分布不均勻等因素的影響,高溫下芯片之間容易發(fā)生粘結(jié)現(xiàn)象,當(dāng)對其粘結(jié)部分進(jìn)行人為分離時,極易發(fā)生芯片變形而不能使用,致使廢品率高。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的在于,提供一種能夠?qū)⒔饘僬辰Y(jié)片進(jìn)行無變形的分離裝置,從而大大提聞廣品合格率。本實用新型是這樣實現(xiàn)的:該金屬粘結(jié)片的分離 裝置,主要由加熱裝置、容器、反應(yīng)器、酸性氣體收集排放管道、酸性氣體中和處理器、收集與排放氣體管道組成。容器套裝在反應(yīng)器的中下部;加熱裝置位于容器下方;酸性氣體收集排放管道的一端與反應(yīng)器上部相通,其另一端與酸性氣體中和處理器的下部相通;排氣管的下端位于酸性氣體中和處理器上部,上端伸出酸性氣體中和處理器。所述反應(yīng)器為耐酸腐蝕材料制成,所述酸性氣體中和處理器為耐酸堿腐蝕材料制成;所述容器、反應(yīng)器均有良好的導(dǎo)熱性及耐熱性,容器能在< 900°C工作一年以上,反應(yīng)器能在< 100°C下工作一年以上。使用時,分別在容器和反應(yīng)器中加入水和酸性介質(zhì),在酸性氣體中和處理器中加入弱堿性液體;然后將粘結(jié)芯片放入反應(yīng)器中;開啟加熱裝置,粘結(jié)芯片的粘結(jié)部分便在熱強酸液的浸泡作用下被溶解分離開,同時也在酸與金屬反應(yīng)產(chǎn)生的微小氣泡的作用下被均勻緩慢地?fù)伍_,從而實現(xiàn)宏觀上的無變形分離目的。本實用新型之金屬片粘結(jié)無變形分離裝置,結(jié)構(gòu)簡單,分離效率達(dá)100%,產(chǎn)品光亮平整,采用此方法分離后的芯片,依然保持熱處理后的優(yōu)良磁性能,該分離裝置適于工業(yè)化批量生產(chǎn)。
以下結(jié)合附圖和實施例對本實用新型做進(jìn)一步說明。
圖1、本實用新型實施例的整體構(gòu)造示意圖圖中:I加熱裝置,2容器,3水,4酸性介質(zhì),5粘結(jié)芯片,6反應(yīng)器,7酸性氣體收集排放管道,8排氣管道,9酸性氣體中和處理器,10弱堿性液體。
具體實施方式
圖1顯示了本實施例的整體構(gòu)造該實施例主要由加熱裝置1、容器2、反應(yīng)器6、酸性氣體收集排放管道7、酸性氣體中和處理器9、排氣管道8組成。容器2套裝在反應(yīng)器6的中下部,反應(yīng)器為耐HCL的塑料制成,反應(yīng)器6密封式坐落在容器2的頂部。容器和反應(yīng)器中分別裝著水和工業(yè)用濃度為20% 30%的HCL ;加熱裝置I為液化氣灶,位于容器2下方;酸性氣體收集排放管道7的一端位于反應(yīng)器酸性液體4的液面上方,酸性氣體收集排放管道7的另一端插入酸氣處理器的弱堿性液體10 (石灰水)之液面的下部;排氣管道8的下端位于酸性氣體中和處理器9中的堿性液體液面10之上部,上端伸出酸性氣體中和處理器9。酸性氣體中和處理器9、排氣管道8,采用耐酸堿腐蝕的塑料材料制成。使用時,分別在容器和反應(yīng)器中加入水和上述濃度的工業(yè)鹽酸,在酸性氣體中和處理器中加入弱堿性石灰水液體;然后將規(guī)格為12.2*8.8*0.35mm的1J85軟磁合金粘結(jié)芯片放入反應(yīng)器中;開啟加熱裝置,15-20分鐘,取出芯片并以清水漂洗,然后放入弱堿性水里(清石灰水)中和處理,隨后置于攝氏80度以下的溫度中烘干。
權(quán)利要求1.一種金屬粘結(jié)片的無變形分離裝置,其特征在于:由容器(2)、酸性介質(zhì)的反應(yīng)器(6)、酸性氣體收集排放管道(7)、酸性氣體中和器(9)、排氣管道⑶組成;容器⑵套裝在反應(yīng)器(6)的中下部;酸性氣體收集排放管道(7)的一端與反應(yīng)器(6)之上部相通,酸性氣體收集排放管道(7)的另一端與酸性氣體中和器(9)之下部相通;排氣管道(8)的下端位于酸性氣體中和器(9)上部,上端伸出酸性氣體中和器(9)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述金屬粘結(jié)片的無變形分離裝置,其特征在于:所述容器(2)下方設(shè)有加熱裝置(I)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述金屬粘結(jié)片的無變形分離裝置,其特征在于:所述反應(yīng)器(6)是能在< 100°c下工作一年以上的耐酸性介質(zhì)腐蝕材料制成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述金屬粘結(jié)片的無變形分離裝置,其特征在于:所述酸性氣體中和器(9)是耐酸堿的腐蝕材料制成。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述金屬粘結(jié)片的無變形分離裝置,其特征在于:所述容器(2)是能在900°C以下工作一年以上的耐蝕材料制成。
專利摘要本實用新型涉及一種金屬粘結(jié)片的無變形分離裝置,容器套裝在反應(yīng)器的中下部;加熱裝置位于容器下方;酸性氣體收集排放管道的一端與反應(yīng)器上部相通,另一端與酸性氣體中和器下部相通;排氣管道的下端位于酸性氣體中和器上部,上端伸出酸性氣體中和器。使用時,分別在容器和反應(yīng)器中加入水和酸性介質(zhì),在酸性氣體中和器中加入弱堿性液體,然后將粘結(jié)片放入反應(yīng)器中,開啟加熱裝置,從而實現(xiàn)粘結(jié)片的無變形分離。本實用新型之粘結(jié)片的分離裝置,結(jié)構(gòu)簡單,分離成本低,有效分離率達(dá)100%,被分離產(chǎn)品光亮平整,適于工業(yè)化批量生產(chǎn)。
文檔編號C23G1/02GK203049044SQ201320055910
公開日2013年7月10日 申請日期2013年1月29日 優(yōu)先權(quán)日2013年1月29日
發(fā)明者石海清, 吳志新 申請人:江蘇特威希電氣有限公司
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