晶棒的拋光處理方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了晶棒的拋光處理方法，包括：第一步，將晶棒浸泡在水中，保持至少5分鐘；第二步，將晶棒取出，并將晶棒的兩端固定在旋轉(zhuǎn)加工工作臺(tái)上；第三步，旋轉(zhuǎn)晶棒，并且利用寬度5cm左右的粗砂布，沿著晶棒的一端向另一端以20cm/s的速度往復(fù)移動(dòng)，進(jìn)行第一次打磨；第四步，旋轉(zhuǎn)晶棒，并且利用寬度10cm左右的細(xì)砂布，沿著晶棒的一端向另一端以25cm/s的速度往復(fù)移動(dòng)，進(jìn)行第二次打磨；第五步，旋轉(zhuǎn)晶棒，并且利用寬度10cm左右的沾水細(xì)砂布，沿著晶棒的一端向另一端以15cm/s的速度往復(fù)移動(dòng)，進(jìn)行第三次打磨；第六步，風(fēng)干。通過(guò)上述技術(shù)方案晶棒的拋光處理方法，可以大大降低晶棒的磨損程度，節(jié)省晶棒的材料。
【專(zhuān)利說(shuō)明】晶棒的拋光處理方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種晶棒的拋光處理方法，屬于半導(dǎo)體材料【技術(shù)領(lǐng)域】。
【背景技術(shù)】
[0002]在進(jìn)行半導(dǎo)體加工的過(guò)程中，所使用的晶棒毛坯料經(jīng)常需要進(jìn)行拋光處理，在拋光處理的過(guò)程中，容易造成晶棒磨損過(guò)多，浪費(fèi)嚴(yán)重的問(wèn)題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的是提供一種晶棒的拋光處理方法，減少拋光磨損，節(jié)省材料。
[0004]本發(fā)明的目的通過(guò)以下技術(shù)方案來(lái)具體實(shí)現(xiàn):
晶棒的拋光處理方法，包括:
第一步，將晶棒浸泡在水中，保持至少5分鐘；
第二步，將晶棒取出，并將晶棒的兩端固定在旋轉(zhuǎn)加工工作臺(tái)上；
第三步，旋轉(zhuǎn)晶棒，并且利用寬度5cm左右的粗砂布，沿著晶棒的一端向另一端以20cm/s的速度往復(fù)移動(dòng)，進(jìn)行第一次打磨；
第四步，旋轉(zhuǎn)晶棒，并且利用寬度IOcm左右的細(xì)砂布，沿著晶棒的一端向另一端以25cm/s的速度往復(fù)移動(dòng)，進(jìn)行第二次打磨；
第五步，旋轉(zhuǎn)晶棒，并且利用寬度IOcm左右的沾水細(xì)砂布，沿著晶棒的一端向另一端以15cm/s的速度往復(fù)移動(dòng)，進(jìn)行第三次打磨；
第六步，風(fēng)干。
[0005]通過(guò)上述技術(shù)方案晶棒的拋光處理方法，可以大大降低晶棒的磨損程度，節(jié)省晶棒的材料。
【具體實(shí)施方式】
[0006]本發(fā)明實(shí)施例一所述的晶棒的拋光處理方法，包括:
第一步，將晶棒浸泡在水中，保持5分鐘；
第二步，將晶棒取出，并將晶棒的兩端固定在旋轉(zhuǎn)加工工作臺(tái)上；
第三步，旋轉(zhuǎn)晶棒，并且利用寬度5cm左右的粗砂布，沿著晶棒的一端向另一端以20cm/s的速度往復(fù)移動(dòng)，進(jìn)行第一次打磨；
第四步，旋轉(zhuǎn)晶棒，并且利用寬度IOcm左右的細(xì)砂布，沿著晶棒的一端向另一端以25cm/s的速度往復(fù)移動(dòng)，進(jìn)行第二次打磨；
第五步，旋轉(zhuǎn)晶棒，并且利用寬度IOcm左右的沾水細(xì)砂布，沿著晶棒的一端向另一端以15cm/s的速度往復(fù)移動(dòng)，進(jìn)行第三次打磨；
第六步，風(fēng)干。
[0007]通過(guò)上述技術(shù)方案晶棒的拋光處理方法，可以大大降低晶棒的磨損程度，節(jié)省晶棒的材料。
【權(quán)利要求】
1.晶棒的拋光處理方法，包括: 第一步，將晶棒浸泡在水中，保持至少5分鐘； 第二步，將晶棒取出，并將晶棒的兩端固定在旋轉(zhuǎn)加工工作臺(tái)上； 第三步，旋轉(zhuǎn)晶棒，并且利用寬度5cm左右的粗砂布，沿著晶棒的一端向另一端以20cm/s的速度往復(fù)移動(dòng)，進(jìn)行第一次打磨； 第四步，旋轉(zhuǎn)晶棒，并且利用寬度IOcm左右的細(xì)砂布，沿著晶棒的一端向另一端以25cm/s的速度往復(fù)移動(dòng)，進(jìn)行第二次打磨； 第五步，旋轉(zhuǎn)晶棒，并且利用寬度IOcm左右的沾水細(xì)砂布，沿著晶棒的一端向另一端以15cm/s的速度往復(fù)移動(dòng)，進(jìn)行第三次打磨； 第六步，風(fēng)干。
【文檔編號(hào)】B24B21/02GK103522149SQ201310477542
【公開(kāi)日】2014年1月22日 申請(qǐng)日期:2013年10月14日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月14日
【發(fā)明者】劉耀峰, 潘振東 申請(qǐng)人:無(wú)錫榮能半導(dǎo)體材料有限公司