一種精密電子件的蝕刻生產(chǎn)線的制作方法
【專利摘要】一種精密電子件的蝕刻生產(chǎn)線，用于對金屬件的蝕刻加工。包括用于對電子件進(jìn)行覆膜的電泳涂裝工序、用于對電子件進(jìn)行雕花的鐳雕工序、用于對電子件的覆膜進(jìn)行圖文處理的蝕刻工序、用于對電子件覆膜進(jìn)行脫離的脫膜工序，所述的電泳涂裝工序包括依次連接的預(yù)清理裝置、除油裝置、一次水洗裝置、除銹裝置、二次水洗裝置、中和裝置、磷化裝置、鈍化裝置、涂裝裝置、超濾水洗裝置、烘干裝置。以上所述的鐳雕工序包括鐳雕機(jī)和數(shù)據(jù)控制系統(tǒng)，所述的鐳雕機(jī)設(shè)于鐳雕臺(tái)上，還包括安裝在鐳雕臺(tái)上的排風(fēng)裝置。其有益效果是，工藝簡單、環(huán)保、產(chǎn)品質(zhì)量高。
【專利說明】一種精密電子件的蝕刻生產(chǎn)線
[0001]

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0002]本發(fā)明涉及精密電子件的加工，尤其涉及到對金屬件的蝕刻加工。

【背景技術(shù)】
[0003]蝕刻指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果?，F(xiàn)有的蝕刻生產(chǎn)線過于復(fù)雜，所用工序繁多，由于過多使用化學(xué)原料，不但提升了生產(chǎn)成本，而且對環(huán)境保護(hù)造成影響。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的是提供一種結(jié)構(gòu)簡單的精密電子件的蝕刻生產(chǎn)線。
[0005]為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:
一種精密電子件的蝕刻生產(chǎn)線，其特征是:包括用于對電子件進(jìn)行覆膜的電泳涂裝工序、用于對電子件進(jìn)行雕花的鐳雕工序、用于對電子件的覆膜進(jìn)行圖文處理的蝕刻工序、用于對電子件覆膜進(jìn)行脫離的脫膜工序，所述的電泳涂裝工序包括依次連接的預(yù)清理裝置、除油裝置、一次水洗裝置、除銹裝置、二次水洗裝置、中和裝置、磷化裝置、鈍化裝置、涂裝裝置、超濾水洗裝置、烘干裝置。
[0006]以上所述的鐳雕工序包括鐳雕機(jī)和數(shù)據(jù)控制系統(tǒng)，所述的鐳雕機(jī)設(shè)于鐳雕臺(tái)上，還包括安裝在鐳雕臺(tái)上的排風(fēng)裝置。
[0007]以上所述的排風(fēng)裝置包括排風(fēng)機(jī)和與排風(fēng)機(jī)相連接的排風(fēng)管道，所述的排風(fēng)管道與鐳雕臺(tái)固定連接。
[0008]本發(fā)明有益效果是，工藝簡單、環(huán)保、產(chǎn)品質(zhì)量高。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]圖1為本發(fā)明結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2為本發(fā)明中電泳涂裝工序結(jié)構(gòu)示意圖；
圖3為本發(fā)明鐳雕工序示意圖。
[0010]圖中:1.電泳涂裝工序；2.鐳雕工序；3.蝕刻工序；4.脫膜工序；5.數(shù)據(jù)控制系統(tǒng)；6.儀雕臺(tái)7.排風(fēng)機(jī)；8.儀雕機(jī)；9.排風(fēng)管道。

【具體實(shí)施方式】
[0011]參見附圖1，本發(fā)明包括用于對電子件進(jìn)行覆膜的電泳涂裝工序1、用于對電子件進(jìn)行雕花的鐳雕工序2、用于對電子件的覆膜進(jìn)行圖文處理的蝕刻工序3、用于對電子件覆膜進(jìn)行脫離的脫膜工序4。
[0012]參見附圖2，所述的電泳涂裝工序I包括依次連接的預(yù)清理裝置、除油裝置、一次水洗裝置、除銹裝置、二次水洗裝置、中和裝置、磷化裝置、鈍化裝置、涂裝裝置、超濾水洗裝置、烘干裝置。
[0013]電泳涂裝前工件的表面處理，是電泳涂裝的一個(gè)重要環(huán)節(jié)，主要涉及除油、除銹、磷化等工序，并由相應(yīng)的裝置完成。其處理好壞，不僅影響膜外觀、降低防腐性能，并能破壞漆液的穩(wěn)定性。因此，對于涂裝前工件表面，要求無油污、銹痕，無前處理藥品及磷化沉化沉渣等，磷化膜結(jié)晶致密均勻。
[0014]參見附圖3，以上所述的鐳雕工序2包括鐳雕機(jī)8和數(shù)據(jù)控制系統(tǒng)5，所述的鐳雕機(jī)8設(shè)于鐳雕臺(tái)6上，還包括安裝在鐳雕臺(tái)6上的排風(fēng)裝置。以上所述的排風(fēng)裝置包括排風(fēng)機(jī)7和與排風(fēng)機(jī)7相連接的排風(fēng)管道9，所述的排風(fēng)管道9與鐳雕臺(tái)6固定連接。本發(fā)明設(shè)有的排風(fēng)裝置，可以將鐳雕時(shí)產(chǎn)生的粉末或有毒氣體快速排出，保持環(huán)境的清潔，減少對操作人員的傷害。通過鐳雕機(jī)8產(chǎn)生的激光束的光能，按照數(shù)據(jù)控制系統(tǒng)5預(yù)先設(shè)定的部位，燒掉電泳涂裝工序I中在電子件表面形成的覆膜，露出覆膜下的基材，進(jìn)入蝕刻工序3對相應(yīng)部位進(jìn)行蝕刻處理。
[0015]蝕刻一般在蝕刻機(jī)中進(jìn)行，要想得到條紋清晰、裝飾性很強(qiáng)的圖紋，必須注意控制好蝕刻工藝的條件，主要是蝕刻溶液的溫度和蝕刻時(shí)間。溶液溫度稍高，可以提高金屬溶解的速度，也就是蝕刻的速度，縮短蝕刻所需要的時(shí)間，但是蝕刻溶液一般都是強(qiáng)酸液，強(qiáng)酸液在溫度高的情況下腐蝕性強(qiáng)，容易使防護(hù)的覆膜涂層軟化甚至溶解，使非蝕刻部位的耐蝕層附著力下降，導(dǎo)致在蝕刻和非蝕刻交界處的耐蝕覆膜脫落或溶化，使蝕刻圖紋模糊走樣，影響圖紋的美觀真實(shí)和裝飾效果，因此溫度一般在40— 48°C。同樣，如果蝕刻的時(shí)間太長，特別是蝕刻液溫度較高的情況下，耐蝕覆膜涂層浸潰時(shí)間過長，也同樣起到上述的副作用和不良后果，因此，時(shí)間控制上也要適當(dāng)，不能浸得太久，一般不宜超過20?25min。經(jīng)過蝕刻工序3后，經(jīng)脫膜工序4除去電子件表面的覆膜，得到最終電子件產(chǎn)品。
[0016]應(yīng)當(dāng)說明的是，本發(fā)明所述的實(shí)施方式僅僅是其優(yōu)選方式，對屬于本發(fā)明技術(shù)方案而僅僅是顯而易見的改動(dòng)，均應(yīng)屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種精密電子件的蝕刻生產(chǎn)線，其特征是:包括用于對電子件進(jìn)行覆膜的電泳涂裝工序、用于對電子件進(jìn)行雕花的鐳雕工序、用于對電子件的覆膜進(jìn)行圖文處理的蝕刻工序、用于對電子件覆膜進(jìn)行脫離的脫膜工序，所述的電泳涂裝工序包括依次連接的預(yù)清理裝置、除油裝置、一次水洗裝置、除銹裝置、二次水洗裝置、中和裝置、磷化裝置、鈍化裝置、涂裝裝置、超濾水洗裝置、烘干裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的精密電子件的蝕刻生產(chǎn)線，其特征是:所述的鐳雕工序包括鐳雕機(jī)和數(shù)據(jù)控制系統(tǒng)，所述的鐳雕機(jī)設(shè)于鐳雕臺(tái)上，還包括安裝在鐳雕臺(tái)上的排風(fēng)裝置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的精密電子件的蝕刻生產(chǎn)線，其特征是:所述的排風(fēng)裝置包括排風(fēng)機(jī)和與排風(fēng)機(jī)相連接的排風(fēng)管道，所述的排風(fēng)管道與鐳雕臺(tái)固定連接。
【文檔編號】C23F1/08GK104342700SQ201310342484
【公開日】2015年2月11日 申請日期:2013年8月8日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月8日
【發(fā)明者】楊其祥 申請人:天津祥和興金屬制品有限公司