一種用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板，其包括平面板及形成在平面板上的開(kāi)口，所述開(kāi)口按預(yù)設(shè)的位置排列，所述開(kāi)口內(nèi)壁在任意一個(gè)垂直于所述平面板上下平面的截面上形成平滑過(guò)渡曲線，所述平滑過(guò)渡曲線與所述平面板上下平面為非垂直結(jié)構(gòu)且與所述平面板上下平面形成的圖形為蒸鍍?cè)匆粋?cè)開(kāi)口大、另一側(cè)開(kāi)口小的結(jié)構(gòu)；此種結(jié)構(gòu)在蒸鍍過(guò)程中不出現(xiàn)可能存在的死角，可以完全避免現(xiàn)有結(jié)構(gòu)對(duì)沉積均勻性造成的影響，對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量提升有極大的幫助。
【專(zhuān)利說(shuō)明】[0001] -種用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0002] 本發(fā)明涉及一種掩模板，具體涉及一種用于有機(jī)發(fā)光顯示器像素蒸鍍用的掩模 板。
[0003]

【背景技術(shù)】
[0004] 與現(xiàn)行IXD技術(shù)相較，利用有機(jī)發(fā)光二級(jí)管（0LED)技術(shù)所制成的顯示器不僅具 有可全彩化、反應(yīng)時(shí)間快、高亮度（10(Tl4, 000cd/m2)、高流明效率（16~381m/W)、170度以 上的視角、無(wú)一般LCD殘影、可制作成大尺寸與可撓曲性面板、能夠在攝氏-30度~80度的 范圍內(nèi)作業(yè)等優(yōu)勢(shì)，而且制程簡(jiǎn)單，整體厚度也能縮小至1mm以下，成本更僅有TFT-IXD的 3(Γ40%。因此，利用0LED技術(shù)所制成的顯示器在深得社會(huì)歡迎。
[0005] 在有機(jī)發(fā)光顯示器的制造過(guò)程中，其中有機(jī)層的沉積會(huì)使用到掩模板，圖1所示 為采用掩模板蒸鍍有機(jī)材料的示意圖。掩模板10由于比較薄，在蒸鍍前會(huì)通過(guò)相關(guān)工藝固 定在掩模外框11上，蒸鍍時(shí)，掩模板10借助掩模外框11固定在支撐臺(tái)12上，蒸鍍?cè)?3中 的有機(jī)材料通過(guò)蒸發(fā)擴(kuò)散至掩模板10下方，掩模板10上在一定的位置設(shè)置有開(kāi)口 100,有 機(jī)材料通過(guò)開(kāi)口 100沉積在基板14上對(duì)應(yīng)的位置處，形成像素點(diǎn)。
[0006] 圖2所示為掩模板的平面示意圖，掩模板為整版結(jié)構(gòu)（圖中所示）或?yàn)槎鄩K拼接而 成（圖中未示出，所謂拼接即是掩模板由若干相對(duì)小的單元模板拼接成大尺寸的掩模板)， 掩模板10上設(shè)置有與有機(jī)發(fā)光顯示器上像素點(diǎn)相對(duì)應(yīng)的開(kāi)口 100,開(kāi)口 100 -般在掩模板 10上為陣列結(jié)構(gòu)。掩模板10通過(guò)激光焊接或超聲波焊接等工藝實(shí)現(xiàn)與掩模外框11的連 接。圖3所示為圖1所示掩模板中Α部分的平面放大示意圖，開(kāi)口 100整體構(gòu)成開(kāi)口矩陣。
[0007] 在技術(shù)要求上，像素點(diǎn)的大小都在微米級(jí)別，與掩模板的厚度尺寸在同一數(shù)量級(jí) 上。所以當(dāng)開(kāi)口的截面(如圖3所示a-a方向上一個(gè)開(kāi)口的截面)形貌設(shè)置為圖4所示的幾 何結(jié)構(gòu)時(shí)，即開(kāi)口的內(nèi)壁與板面呈垂直關(guān)系，開(kāi)口 100下方（即靠近蒸鍍?cè)?3的一面）的角 1000會(huì)對(duì)有機(jī)材料進(jìn)入開(kāi)口 100內(nèi)部產(chǎn)生阻礙，從而影響有機(jī)材料在基板14上的沉積均勻 性，從而使得有機(jī)發(fā)光顯示器的品質(zhì)不高。
[0008] 為解決以上問(wèn)題，申請(qǐng)?zhí)枮?004100339303的專(zhuān)利公開(kāi)了一種用于均勻形成有機(jī) 發(fā)光裝置的遮蔽掩模，其對(duì)存在以上問(wèn)題的開(kāi)口進(jìn)行了如圖5所示的設(shè)計(jì)，即將掩模板開(kāi) 口內(nèi)壁設(shè)置為兩頭倒錐的結(jié)構(gòu)，即開(kāi)口存在倒錐結(jié)構(gòu)1001及倒錐結(jié)構(gòu)1002。通過(guò)分析了解 至IJ，如此設(shè)計(jì)是基于蝕刻工藝來(lái)制作掩模板，上部的倒錐結(jié)構(gòu)1001是蝕刻工藝無(wú)法避免的 一種缺陷，此倒錐結(jié)構(gòu)1001在一定程度上構(gòu)成死角，依舊影響有機(jī)材料在基板上的沉積均 勻性。基于此，業(yè)界亟需一種更優(yōu)異的掩模板來(lái)滿(mǎn)足高品質(zhì)有機(jī)發(fā)光顯示器的蒸鍍工藝。
[0009]


【發(fā)明內(nèi)容】

[0010] 有鑒于此，需要克服現(xiàn)有技術(shù)中的上述缺陷中的至少一個(gè)。本發(fā)明提供了一種用 于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板，其包括平面板及形成在平面板上的開(kāi)口，其特征在于：所 述開(kāi)口按預(yù)設(shè)的位置排列，所述開(kāi)口內(nèi)壁在任意一個(gè)垂直于所述平面板上下平面的截面上 形成平滑過(guò)渡曲線，所述平滑過(guò)渡曲線與所述平面板上下平面為非垂直結(jié)構(gòu)且與所述平面 板上下平面形成的圖形為蒸鍍?cè)匆粋?cè)開(kāi)口大、另一側(cè)開(kāi)口小的結(jié)構(gòu)，所述平滑過(guò)渡曲線的 所有曲線的曲率中心位于所述開(kāi)口一側(cè)。。
[0011] 所述開(kāi)口的內(nèi)壁所在方向全部與平面板所在的平面方向?yàn)榉谴怪苯Y(jié)構(gòu)。圖6所示 結(jié)構(gòu)，開(kāi)口的內(nèi)壁所在方向A與平面板所在的平面方向B夾角α不等于90度。
[0012] 根據(jù)本發(fā)明【背景技術(shù)】中對(duì)現(xiàn)有技術(shù)所述，現(xiàn)有技術(shù)中掩模板上的開(kāi)口截面與掩模 板上下兩平面為垂直結(jié)構(gòu)或兩個(gè)倒錐結(jié)構(gòu)的組合，具有垂直結(jié)構(gòu)的掩模板會(huì)對(duì)蒸鍍?cè)磽]發(fā) 的材料在基板上的沉積均勻性造成影響，而具有倒錐結(jié)構(gòu)組合的掩模板不僅會(huì)對(duì)蒸鍍?cè)磽] 發(fā)的材料在基板上的沉積均勻性造成影響，在一定程度上形成蒸鍍死角，而且這種結(jié)構(gòu)也 是基于蝕刻工藝無(wú)法避免的一種缺陷，因此必須尋找一種新的結(jié)構(gòu)來(lái)避免對(duì)蒸鍍?cè)磽]發(fā)的 材料在基板上的沉積均勻性造成影響，本發(fā)明采用的結(jié)構(gòu)為采用激光工藝切割而成，所述 開(kāi)口內(nèi)壁在任意一個(gè)垂直于所述平面板上下平面的截面上形成平滑過(guò)渡曲線，所述平滑過(guò) 渡曲線與所述平面板上下平面為非垂直結(jié)構(gòu)，所述平滑過(guò)渡曲線的所有曲線的曲率中心位 于所述開(kāi)口一側(cè)。此種結(jié)構(gòu)可以保證不具有蒸鍍過(guò)程中可能存在的死角，可以完全避免上 述幾種結(jié)構(gòu)對(duì)沉積均勻性造成的影響，對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量提升有極大的幫助。
[0013] 另外，根據(jù)本發(fā)明公開(kāi)的用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板還具有如下附加技術(shù)特 征： 進(jìn)一步地，所述開(kāi)口在所述平面板上下平面上的形成的按圖案形狀為長(zhǎng)條形或矩形或 圓形。
[0014] 進(jìn)一步地，所述矩形為倒有圓角/倒角的矩形。
[0015] 同時(shí)，所述開(kāi)口構(gòu)成的圖案與基板上相應(yīng)的像素點(diǎn)位置相適應(yīng)，（作為現(xiàn)有技術(shù)， 沉積在基板上的像素點(diǎn)位置)。
[0016] 進(jìn)一步地，所述平滑過(guò)渡曲線為直線。
[0017] 進(jìn)一步，所述過(guò)渡平滑曲線與所述平面板所在的平面方向所呈的切線夾角范圍α 為 20° ?70°。
[0018] 進(jìn)一步，所述過(guò)渡平滑曲線與所述平面板所在的平面方向所呈的切線夾角范圍α 為 30° ?60°。
[0019] 優(yōu)選地，所述過(guò)渡平滑曲線與所述平面板所在的平面方向所呈的切線夾角范圍α 為 40。?50。。
[0020] 進(jìn)一步優(yōu)選地，所述過(guò)渡平滑曲線與所述平面板所在的平面方向所呈的切線夾角 范圍α為45。。
[0021] 進(jìn)一步，所述掩模板是通過(guò)激光工藝切割制作而成。
[0022] 進(jìn)一步，所述掩模板還包括用于固定用的掩模外框。
[0023] 以上所述掩模板的結(jié)構(gòu)特征是在理想狀況下的結(jié)構(gòu)，由于制作本身工藝的精度問(wèn) 題，實(shí)際產(chǎn)品的板面、開(kāi)口的內(nèi)壁可能達(dá)不到絕對(duì)的平面，故在不違背本發(fā)明的核心內(nèi)容而 刻意作出的修改依舊落在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
[0024] 通過(guò)提供以上所述掩模板，其不存在有機(jī)材料蒸鍍時(shí)的死角區(qū)域，從而使得有機(jī) 材料更均勻的沉積在基板上，形成質(zhì)量?jī)?yōu)異的像素點(diǎn)。
[0025] 圖6、圖7分別為本發(fā)明所述掩模板的反面與正面的平面局部視圖。
[0026] 圖8、9分別為具有圓形開(kāi)口和條形開(kāi)口掩模板反面的平面局部示意圖。
[0027] 本發(fā)明附加的方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變 得明顯，或通過(guò)本發(fā)明的實(shí)踐了解到。
[0028]

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0029] 本發(fā)明的上述和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從下面結(jié)合附圖對(duì)實(shí)施例的描述中將變 得明顯和容易理解，其中 ： 圖1所示為采用掩模板蒸鍍有機(jī)材料的示意圖； 圖2所示為掩模板的平面示意圖； 圖3所示為圖2所示掩模板中A部分的平面放大示意圖； 圖4為掩模板上沿圖3所不a_a方向一個(gè)開(kāi)口的截面不意圖； 圖5為一種改進(jìn)的開(kāi)口示意圖(現(xiàn)有技術(shù)）； 圖6為本發(fā)明掩模板的開(kāi)口截面一種實(shí)施例的不意圖； 圖7為本發(fā)明所述掩模板的一種實(shí)施例的反面局部示意圖； 圖8為與圖7相對(duì)應(yīng)實(shí)施例的正面局部示意圖； 圖9為另一具有圓形開(kāi)口掩模板反面的平面局部不意圖； 圖10為另一具有條形開(kāi)口掩模板反面的平面局部不意圖。
[0030] 其中，掩模板10,掩模外框11，支撐臺(tái)12,蒸鍍?cè)?3,開(kāi)口 100,基板14，角1000， 上部倒錐結(jié)構(gòu)1001，下部1002,開(kāi)口內(nèi)壁1003,開(kāi)口的內(nèi)壁所在方向A，過(guò)渡平滑曲線與所 述平面板所在的平面方向所呈的切線夾角a，a-a為觀測(cè)方向。

【具體實(shí)施方式】
[0031] 下面詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例，所述實(shí)施例的示例在附圖中示出，其中自始至終 相同或類(lèi)似的標(biāo)號(hào)表示相同或類(lèi)似的元件或具有相同或類(lèi)似功能的元件。下面通過(guò)參考附 圖描述的實(shí)施例是示例性的，僅用于解釋本發(fā)明，而不能解釋為對(duì)本發(fā)明的限制。
[0032] 在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術(shù)語(yǔ)"上"、"下"、"底"、"頂"、"前"、"后"、"內(nèi)"、 "外"、"左"、"右"等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便 于描述本發(fā)明和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以 特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。
[0033] 在本發(fā)明的描述中，需要說(shuō)明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語(yǔ)"聯(lián)接"、"連 通"、"相連"、"連接"應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，一體地連接，也可以是可拆卸連 接；可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通；可以是直接相連，也可以通過(guò)中間媒介間接相連，對(duì)于本 領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語(yǔ)在本發(fā)明中的具體含義。
[0034] 本發(fā)明的發(fā)明構(gòu)思如下，現(xiàn)有技術(shù)中掩模板上的開(kāi)口截面與掩模板上下兩平面為 垂直結(jié)構(gòu)或兩個(gè)倒錐結(jié)構(gòu)的組合，此類(lèi)結(jié)構(gòu)可以形成蒸鍍死角，會(huì)對(duì)蒸鍍?cè)磽]發(fā)的材料在 基板上的沉積均勻性造成影響，因此必須尋找一種新的結(jié)構(gòu)來(lái)避免對(duì)蒸鍍?cè)磽]發(fā)的材料在 基板上的沉積均勻性造成影響，本發(fā)明采用的結(jié)構(gòu)為采用激光工藝切割而成，所述開(kāi)口內(nèi) 壁在任意一個(gè)垂直于所述平面板上下平面的截面上形成平滑過(guò)渡曲線，所述平滑過(guò)渡曲線 與所述平面板上下平面為非垂直結(jié)構(gòu)，并且此類(lèi)結(jié)構(gòu)的所述平滑過(guò)渡曲線與所述平面板上 下平面為非垂直結(jié)構(gòu)且與所述平面板上下平面形成的圖形為蒸鍍?cè)匆粋?cè)開(kāi)口大、另一側(cè)開(kāi) 口小的結(jié)構(gòu)，所述平滑過(guò)渡曲線的所有曲線的曲率中心位于所述開(kāi)口一側(cè)，不會(huì)出現(xiàn)蒸鍍 過(guò)程中存在的死角，可以避免上述幾種結(jié)構(gòu)對(duì)沉積均勻性造成的影響，對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量提升 有極大的幫助。
[0035] 下面將參照附圖來(lái)描述本發(fā)明的用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板，其中圖 1-圖5為現(xiàn)有技術(shù)圖不，圖6為本發(fā)明掩模板的開(kāi)口截面一種實(shí)施例的不意圖，圖7為本發(fā) 明所述掩模板的一種實(shí)施例的反面局部不意圖，圖8為與圖7相對(duì)應(yīng)實(shí)施例的正面局部不 意圖，圖9為另一具有圓形開(kāi)口掩|旲板反面的平面局部不意圖，圖10另一為具有條形開(kāi)口 掩模板反面的平面局部示意圖。
[0036] 根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，如圖6-10所示，本發(fā)明提供的一種用于制造有機(jī)發(fā)光顯示 器的掩模板，其包括平面板及形成在平面板上的開(kāi)口 100,其特征在于：所述開(kāi)口 100按預(yù) 設(shè)的位置排列，所述開(kāi)口內(nèi)壁1003在任意一個(gè)垂直于所述平面板上下平面的截面上形成 平滑過(guò)渡曲線，所述平滑過(guò)渡曲線與所述平面板上下平面為非垂直結(jié)構(gòu)且與所述平面板上 下平面形成的圖形為蒸鍍?cè)?3-側(cè)開(kāi)口大、另一側(cè)開(kāi)口小的結(jié)構(gòu)，所述平滑過(guò)渡曲線的所 有曲線的曲率中心位于所述開(kāi)口一側(cè)，從圖6和圖10中可以看出，圖6中的平滑過(guò)渡曲線 為直線，其曲率中心位置在開(kāi)口一側(cè)。作為另一種實(shí)施例，平滑過(guò)度曲線為弧線（圖中未示 出），其曲率中心位置在開(kāi)口一側(cè)，同理，平滑過(guò)渡曲線為弧線組合的曲率中心位置也在開(kāi) 口 一側(cè)。
[0037] 在蒸鍍過(guò)程中，蒸鍍?cè)?3揮發(fā)沉積材料通過(guò)開(kāi)口 100在基板14上進(jìn)行沉積，由于 開(kāi)口內(nèi)壁1003與掩模板10上下兩平面為光滑過(guò)渡曲線，且與掩模板上下平面形成的圖案 為面向蒸鍍?cè)?3-側(cè)的開(kāi)口大、另一側(cè)開(kāi)口小的圖案結(jié)構(gòu)，如圖6所示，因此不存在蒸鍍死 角，能夠保證材料沉積的均勻性。
[0038] 根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述開(kāi)口 100在所述平面板上下平面上的形成的圖案 形狀為長(zhǎng)條形或矩形或圓形，如圖7-10,圖7中開(kāi)口形狀為矩形，其標(biāo)識(shí)的是從開(kāi)口較大的 一側(cè)進(jìn)行觀測(cè)的圖示，圖8為從開(kāi)口較小的一側(cè)進(jìn)行觀測(cè)的圖示；圖9所示為圓形開(kāi)口，其 標(biāo)識(shí)是從開(kāi)口較大的一側(cè)進(jìn)行觀測(cè)的圖示；圖10為長(zhǎng)條形開(kāi)口，一般情況下，長(zhǎng)寬比大于 50的情況下可以認(rèn)為是長(zhǎng)條形。
[0039] 蒸鍍?cè)次挥陂_(kāi)口較大的一側(cè)，蒸鍍材料從開(kāi)口較大一側(cè)進(jìn)入，逐漸匯集到開(kāi)口較 小的一側(cè)，蒸鍍過(guò)程中不會(huì)出現(xiàn)蒸鍍死角。
[0040] 根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述矩形為倒有圓角/倒角的矩形。
[0041] 同時(shí)，所述開(kāi)口 100構(gòu)成的圖案與基板上相應(yīng)的像素點(diǎn)位置相適應(yīng)，(作為現(xiàn)有技 術(shù)，沉積在基板上的像素點(diǎn)位置)。
[0042] 根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述平滑過(guò)渡曲線為直線，如圖6所示。
[0043] 根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述過(guò)渡平滑曲線與所述平面板所在的平面方向所呈 的切線夾角范圍α為20°?70°。
[0044] 根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述過(guò)渡平滑曲線與所述平面板所在的平面方向所呈 的切線夾角范圍α為30°?60°。
[0045] 優(yōu)選地，所述過(guò)渡平滑曲線與所述平面板所在的平面方向所呈的切線夾角范圍α 為 40。?50。。
[0046] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，進(jìn)一步優(yōu)選地，所述過(guò)渡平滑曲線與所述平面板所在 的平面方向所呈的切線夾角范圍α為45° ,如圖6所示。
[0047] 根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，所述掩模板10是通過(guò)激光工藝切割制作而成。
[0048] 根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，所述掩模板10還包括用于固定用的掩模外框11。
[0049] 以上所述掩模板的結(jié)構(gòu)特征是在理想狀況下的結(jié)構(gòu)，由于制作本身工藝的精度問(wèn) 題，實(shí)際產(chǎn)品的板面、開(kāi)口的內(nèi)壁可能達(dá)不到絕對(duì)的平面，故在不違背本發(fā)明的核心內(nèi)容而 刻意作出的修改依舊落在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
[0050] 通過(guò)提供以上所述掩模板，其不存在有機(jī)材料蒸鍍時(shí)的死角區(qū)域，從而使得有機(jī) 材料更均勻的沉積在基板上，形成質(zhì)量?jī)?yōu)異的像素點(diǎn)。
[0051] 盡管參照本發(fā)明的多個(gè)示意性實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行了詳細(xì)的描 述，但是必須理解，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以設(shè)計(jì)出多種其他的改進(jìn)和實(shí)施例，這些改進(jìn)和實(shí)施 例將落在本發(fā)明原理的精神和范圍之內(nèi)。具體而言，在前述公開(kāi)、附圖以及權(quán)利要求的范圍 之內(nèi)，可以在零部件和/或者從屬組合布局的布置方面作出合理的變型和改進(jìn)，而不會(huì)脫 離本發(fā)明的精神。除了零部件和/或布局方面的變型和改進(jìn)，其范圍由所附權(quán)利要求及其 等同物限定。
【權(quán)利要求】
1. 一種用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板，其包括平面板及形成在平面板上的開(kāi)口， 其特征在于：所述開(kāi)口按預(yù)設(shè)的位置排列，所述開(kāi)口內(nèi)壁在任意一個(gè)垂直于所述平面板上 下平面的截面上形成平滑過(guò)渡曲線，所述平滑過(guò)渡曲線與所述平面板上下平面為非垂直結(jié) 構(gòu)且與所述平面板上下平面形成的圖形為蒸鍍?cè)匆粋?cè)開(kāi)口大、另一側(cè)開(kāi)口小的結(jié)構(gòu)，所述 平滑過(guò)渡曲線的所有曲線的曲率中心位于所述開(kāi)口 一側(cè)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板，其特征在于，所述平滑 過(guò)渡曲線為直線。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板，其特征在 于，所述開(kāi)口在所述平面板上下平面上的形成的按圖案形狀為長(zhǎng)條形或矩形或圓形。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板，其特征在于，所述矩形 為倒有圓角/倒角的矩形。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板，其特征在 于，所述開(kāi)口構(gòu)成的圖案與基板上相應(yīng)的像素點(diǎn)位置相適應(yīng)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板，其特征 在于，所述過(guò)渡平滑曲線與所述平面板所在的平面方向所呈的切線夾角范圍α為20°? 70。。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板，其特征在于，所述過(guò)渡 平滑曲線與所述平面板所在的平面方向所呈的切線夾角范圍α為30°?60°。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板，其特征在于，所述過(guò)渡 平滑曲線與所述平面板所在的平面方向所呈的切線夾角范圍α為40°?50°。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板，其特征在于，所述過(guò)渡 平滑曲線與所述平面板所在的平面方向所呈的切線夾角范圍α為45°。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的掩模板，其特征在 于，所述掩模板是通過(guò)激光工藝切割制作而成。
【文檔編號(hào)】C23C14/04GK104060219SQ201310087649
【公開(kāi)日】2014年9月24日 申請(qǐng)日期:2013年3月19日 優(yōu)先權(quán)日:2013年3月19日
【發(fā)明者】魏志凌 申請(qǐng)人:昆山允升吉光電科技有限公司