拋丸處理裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種設(shè)置在旋轉(zhuǎn)體（14）的頂棚部（14U）上的自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件（46），該自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件（46）將處理目標（W）懸吊并支撐在處理室（R1）中。旋轉(zhuǎn)體（14）通過旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)（60）繞處理裝置的豎向方向的軸線周向公轉(zhuǎn)，并能夠在投射區(qū)域（40B）中自轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)體（14）通過使用旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)（60）在投射區(qū)域（40B）中作為處理目標（W）的公轉(zhuǎn)停止位置的三個位置處一次停止。處理室（R1）具有沿旋轉(zhuǎn)體（14）的周向方向的三室并列結(jié)構(gòu)。當旋轉(zhuǎn)體（14）在投射執(zhí)行在處理目標（W）上的公轉(zhuǎn)停止位置處一次停止時，處理室（R1）中的一個處理室設(shè)置在運入?yún)^(qū)域（40A）中，同時處理室（R1）的另一個處理室設(shè)置在運出區(qū)域（40C）中。
【專利說明】拋丸處理裝置【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型的一種模式涉及拋丸處理裝置，該拋丸處理裝置通過旋轉(zhuǎn)體將工件旋轉(zhuǎn)地移置并將投射材料投射至工件。
【背景技術(shù)】
[0002]在拋丸處理裝置中，一種具有下述構(gòu)型的裝置是已知的，在該裝置中，投射材料通過投射機投射到由吊架懸掛的工件上，并且吊架在公轉(zhuǎn)的同時在投射區(qū)域內(nèi)自轉(zhuǎn)。
[0003]引用列表
[0004]專利文獻
[0005]專利文獻1:日本特許申請公報:N0.He1-9-76157
實用新型內(nèi)容
[0006]技術(shù)問題
[0007]然而，使用這樣的裝置對工件的整個表面進行精確的拋丸處理需要一定的時間，并且在減少總的處理時間方面存在提升的空間。
[0008]在該【技術(shù)領(lǐng)域】，需要一種能夠減少總的處理時間的拋丸處理裝置。問題的解決方 案
[0009]根據(jù)本實用新型的一方面的拋丸處理裝置具有:旋轉(zhuǎn)體，該旋轉(zhuǎn)體繞處理裝置的豎向方向的軸線可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置，在該處理裝置中，多個處理室通過將繞軸線的空間由間隔部間隔開而沿周向方向并置，并且在處理室中，形成有用于工件的運入、用于工件的運出以及用于使投射材料通過的朝向外周側(cè)敞開的開口部；投射機，該投射機構(gòu)造為通過處理室中的開口部將投射材料投射到處理室的內(nèi)部；懸吊支撐部，該懸吊支撐部設(shè)置在旋轉(zhuǎn)體的頂棚部上，并構(gòu)造為將工件懸吊和支撐在處理室中并且能夠在投射材料受到通過投射機投射的投射區(qū)域中自轉(zhuǎn)；以及旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)，該旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)構(gòu)造為通過使旋轉(zhuǎn)體繞軸線旋轉(zhuǎn)而使懸吊支撐部公轉(zhuǎn)，并使用投射區(qū)域中作為工件的公轉(zhuǎn)停止位置的多個位置執(zhí)行旋轉(zhuǎn)體的一次停止。
[0010]根據(jù)本實用新型的一方面的拋丸處理裝置，旋轉(zhuǎn)體繞拋丸處理裝置的豎向方向的軸線可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置，在該處理裝置中，多個處理室通過將繞軸線的空間由間隔部間隔開而沿周向方向并置，形成有用于工件的運入、用于工件的運出以及用于使投射材料通過的朝向外周側(cè)敞開的開口部。另一方面，投射機將投射材料通過處理室中的開口部投射到處理室中。此外，懸吊支撐部設(shè)置在旋轉(zhuǎn)體的頂棚部上并將工件懸吊和支撐在處理室中，并能夠在工件受到投射機投射的投射區(qū)域中自轉(zhuǎn)。因此，工件受到整體周向上的投射。此外，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)通過使旋轉(zhuǎn)體繞處理裝置的豎向方向的軸線旋轉(zhuǎn)而使懸吊支撐部公轉(zhuǎn)，并使用在投射區(qū)域中的作為工件的公轉(zhuǎn)停止位置的多個位置執(zhí)行旋轉(zhuǎn)體的一次停止。因此，由于投射材料如何撞擊工件能夠通過所述多個公轉(zhuǎn)停止位置而相對地改變，因此可使投射更均勻及更準確。[0011]在實施方式中，工件的在投射區(qū)域中的公轉(zhuǎn)停止位置可被設(shè)定為第二位置、第一位置和第三位置，該第二位置為在處理裝置的平面圖上投射機中投射材料的投射方向的中心線上設(shè)置懸吊支撐部的自轉(zhuǎn)軸心的位置，該第一位置為相對于第二位置在旋轉(zhuǎn)體的旋轉(zhuǎn)方向上游側(cè)的位置，以及第三位置為相對于第二位置在旋轉(zhuǎn)體的旋轉(zhuǎn)方向下游側(cè)的位置。
[0012]根據(jù)實施方式所提供的拋丸處理裝置，已進入投射區(qū)域的工件可使其公轉(zhuǎn)以第一位置、第二位置和第三位置的順序停止并且可在旋轉(zhuǎn)的同時在相應(yīng)的位置處被投射。這里，第二位置為在處理裝置的平面圖上投射機中投射材料的投射方向的中心線上設(shè)置懸吊支撐部的自轉(zhuǎn)軸心的位置，該第一位置為相對于第二位置在旋轉(zhuǎn)體的旋轉(zhuǎn)方向上游側(cè)的位置，以及第三位置為相對于第二位置在旋轉(zhuǎn)體的旋轉(zhuǎn)方向下游側(cè)的位置。因此，工件在投射材料有效地撞擊的第二位置處以及在其之前的第一位置處和在其之后的第三位置處受到有效地以及均勻地投射。
[0013]在實施方式中，拋丸處理裝置具有用于使工件由懸吊支撐部懸吊和支撐的運入?yún)^(qū)域和用于將工件從懸吊支撐部降下的運出區(qū)域，處理室中的三個或更多個處理室可沿旋轉(zhuǎn)體的周向方向并置，并且可設(shè)置為使得當旋轉(zhuǎn)體在工件的公轉(zhuǎn)停止位置處進行一次停止時，處理室中的至少一個處理室設(shè)置在運入?yún)^(qū)域中，同時處理室中的至少另一個處理室設(shè)置在運出區(qū)域中。
[0014]根據(jù)實施方式所提供的拋丸處理裝置，運入?yún)^(qū)域可以為用于使工件由懸吊支撐部懸吊和支撐的區(qū)域，并且運出區(qū)域可以為用于將工件從懸吊支撐部降下的區(qū)域。處理室中的三個或更多個處理室可沿旋轉(zhuǎn)體的周向方向并置并且當旋轉(zhuǎn)體在工件的公轉(zhuǎn)停止位置處進行一次停止時，處理室中的至少一個處理室可設(shè)置在運入?yún)^(qū)域中，同時處理室中的至少另一個處理室可設(shè)置在運出區(qū)域中。因此，當在投射區(qū)域中對工件進行投射時，工件能夠由懸吊支撐部懸吊并支撐在運入?yún)^(qū)域中，并且同時工件可在運出區(qū)域中從懸吊支撐部被降下。如上所述，由于運出和運入能夠在投射期間在相同的時間點在分開的區(qū)域中執(zhí)行，因而與例如運出和運入在一個區(qū)域中執(zhí)行相比較而言，能夠減少用于運入/運出所需的時間。
[0015]在實施方式中，投射機可設(shè)置有第一投射機和第二投射機，該第一投射機設(shè)置在旋轉(zhuǎn)體的上部側(cè)上并設(shè)定為使得投射材料的投射方向的中心線朝著處理室的內(nèi)部側(cè)向處理裝置的下方側(cè)傾斜，該第二投射機設(shè)置在旋轉(zhuǎn)體的下部側(cè)上并設(shè)定為使得投射材料的投射方向的中心線朝著處理室的內(nèi)部側(cè)向處理裝置的上方側(cè)傾斜，并且投射材料的每單位時間的投射量設(shè)定為大于第一投射機的投射材料的每單位時間的投射量。
[0016]根據(jù)實施方式所提供的拋丸處理裝置，第一投射機可設(shè)置在旋轉(zhuǎn)體的上部側(cè)上并設(shè)定為使得投射材料的投射方向的中心線朝著處理室的內(nèi)部側(cè)向處理裝置的下方側(cè)傾斜。另一方面，第二投射機可設(shè)置在旋轉(zhuǎn)體的下部側(cè)上并設(shè)定為使得投射材料的投射方向的中心線朝著處理室的內(nèi)部側(cè)向處理裝置的上方側(cè)傾斜。由于投射材料如上所述從斜上方側(cè)和斜下方側(cè)投射至工件，所以使得對于工件的整體表面進行更有效地投射。此外，由于第二投射機具有的投射材料的每單位時間的投射量大于第一投射機的投射材料的每單位時間的投射量，因而即使投射材料因斜對地向上投射被減速，也能夠?qū)崿F(xiàn)以與由第一投射機的斜向地向下投射的拋丸處理相同程度的拋丸處理。
[0017]在實施方式中，第一投射機中的投射材料的投射方向的中心線和第二投射機中的投射材料的投射方向的中心線設(shè)定為具有至少在懸吊支撐部的自轉(zhuǎn)軸的下方側(cè)延長線上的各投射位置側(cè)的空間中彼此不交叉的關(guān)系。
[0018]根據(jù)實施方式所提供的拋丸處理裝置，由于第一投射機中的投射材料的投射方向的中心線和第二投射機中的投射材料的投射方向的中心線設(shè)定為具有至少在懸吊支撐部的自轉(zhuǎn)軸的下方側(cè)延長線上的各投射位置側(cè)的空間中彼此不交叉的關(guān)系，因而能夠抑制從第一投射機投射出的投射材料與從第二投射機投射出的投射材料在抵達工件之前彼此干擾的故障。因此，提高了投射效率。
[0019]實用新型的有益效果
[0020]如上所述，根據(jù)本實用新型的各個方面和各個實施方式，能夠提供總處理時間被減小的優(yōu)良效果。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0021]圖1為示出根據(jù)本實用新型的第一實施方式的噴丸裝置的整體構(gòu)型的前視圖。
[0022]圖2為示出根據(jù)本實用新型的第一實施方式的噴丸裝置的整體構(gòu)型的左側(cè)視圖。
[0023]圖3為示出根據(jù)本實用新型的第一實施方式的噴丸裝置的整體構(gòu)型的平面圖。
[0024]圖4為示出工件在投射區(qū)域中公轉(zhuǎn)停止位置的示意性平面圖。圖4 (A)示出第一位置，圖4 (B)示出第二位置，并且圖4 (C)示出第三位置。
[0025]圖5為基于用于說明根據(jù)本實用新型的第一實施方式的噴丸裝置的控制等的該裝置的平面圖的輪廓構(gòu)型圖。
[0026]圖6為示出根據(jù)本實用新型的第一實施方式的噴丸裝置的旋轉(zhuǎn)體及其外周部分的輪廓構(gòu)型的示意性立體圖。
[0027]圖7為示出根據(jù)本實用新型的第二實施方式的噴丸裝置的整體構(gòu)型的前視圖。
[0028]圖8為示出根據(jù)本實用新型的第二實施方式的噴丸裝置的整體構(gòu)型的右側(cè)視圖。
[0029]圖9為示出根據(jù)本實用新型的第二實施方式的噴丸裝置的整體構(gòu)型的平面圖。
[0030]圖10為基于示出本實用新型的第二實施方式中的處理室的構(gòu)型的平面圖的截面圖。
[0031]圖11為示出本實用新型的第二實施方式的變型的構(gòu)型的平面圖。相應(yīng)地，圖11(A)為第一變型，圖11 (B)為第二變型，圖11 (C)為第三變型，圖11 (D)為第四變型，圖11 (E)為第五變型，以及圖11 (F)為第六變型。
[0032]圖12為示出根據(jù)本實用新型的第三實施方式的噴丸裝置的整體構(gòu)型的前視圖。
[0033]圖13為示出根據(jù)本實用新型的第三實施方式的噴丸裝置的整體構(gòu)型的右側(cè)視圖。
[0034]圖14為示出根據(jù)本實用新型的第三實施方式的噴丸裝置的整體構(gòu)型的平面圖。
[0035]圖15為示出根據(jù)本實用新型的第四實施方式的噴丸裝置的整體構(gòu)型的前視圖。
[0036]圖16為示出根據(jù)本實用新型的第四實施方式的噴丸裝置的整體構(gòu)型的右側(cè)視圖。
[0037]圖17為示出根據(jù)本實用新型的第四實施方式的噴丸裝置的整體構(gòu)型的平面圖。
【具體實施方式】
[0038]【第一實施方式】[0039]將通過使用圖1至圖6描述作為根據(jù)本實用新型的第一實施方式的拋丸處理裝置的一種旋轉(zhuǎn)體吊架式噴丸裝置10。如在這些圖中適當?shù)厥境龅募^FR指示基于圖1中的裝置的前視圖的前側(cè)，箭頭UP指示裝置的上側(cè)，以及箭頭LH指示基于圖1中的裝置的前視圖的左側(cè)。此外，箭頭X指示工件W的運送方向。
[0040]圖1以前視圖示出根據(jù)本實用新型的第一實施方式的噴丸裝置10的整體構(gòu)型，圖2以左側(cè)視圖示出根據(jù)本實用新型的第一實施方式的噴丸裝置10的整體構(gòu)型，以及圖3以平面圖示出根據(jù)本實用新型的第一實施方式的噴丸裝置10的整體構(gòu)型。
[0041]根據(jù)該實施方式的噴丸裝置10為一種應(yīng)用于例如對鍛件等進行除垢的裝置。工件W包括鍛造結(jié)構(gòu)、壓制結(jié)構(gòu)、焊接結(jié)構(gòu)，熱處理產(chǎn)品(例如齒輪等)等或更具體地例如汽車相關(guān)的部件。
[0042]如圖1至圖3所示，噴丸裝置10設(shè)置有柜體12。柜體12形成為呈中空的大致七邊形的柱狀形狀。此外，如圖3中示出的，柜體12具有構(gòu)造為將工件W運入(參見箭頭A方向)的運入端口 12A和構(gòu)造為將形成的工件W運出(參見箭頭B方向)的運出端口 12B。
[0043]在柜體12中的中央部分處設(shè)置有大致圓筒形的旋轉(zhuǎn)體14。旋轉(zhuǎn)體14連接至旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)60以便如隨后將詳細描述地繞處理裝置的豎向方向的軸線被旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動。
[0044]在圖6中，旋轉(zhuǎn)體14的輪廓構(gòu)型及其外周部分以示意性的立體圖示出。如在圖6中示出的，在旋轉(zhuǎn)體14中，頂板構(gòu)件15A和底板構(gòu)件15B通過多個柱構(gòu)件15C、1?和15E沿處理裝置的豎向方向連接。此外，所述多個柱構(gòu)件15C、1?和15E圍繞旋轉(zhuǎn)體14的旋轉(zhuǎn)中心設(shè)置。柱構(gòu)件15C為彎曲成基于處理裝置的平面圖的大致U形的板狀構(gòu)件。這里，三個向外周側(cè)敞開的彎曲板狀柱構(gòu)件15C沿周向方向以一定間距設(shè)置。相鄰柱構(gòu)件15C的內(nèi)周側(cè)上的角部由用于連接的柱構(gòu)件15D連接。此外，相鄰柱構(gòu)件15C的外周側(cè)上的端部部分由用于外壁的柱構(gòu)件15E連接。
[0045]柱構(gòu)件15E設(shè)置有外周壁14W，使公轉(zhuǎn)軸部62的軸中心作為其基于處理裝置的平面圖的弧中心。外周壁14W設(shè)置在繞作為旋轉(zhuǎn)體14的旋轉(zhuǎn)中心的處理裝置的豎向方向的軸線的空間周圍的位置處。此外，在外周壁14W的內(nèi)部的空間中，多個處理室Rl (在本實施方式中為三個室)通過由間隔部16 (由上述彎曲板狀柱構(gòu)件15C (間隔構(gòu)件)組成的部分)將空間隔開而沿周向方向并置。處理室Rl為用于將工件W運入/運出以及用于投射投射材料的室。在這些處理室Rl中，朝向外周側(cè)開口的開口部14A由上述彎曲板狀柱構(gòu)件15C、頂板構(gòu)件15A、和底板構(gòu)件15B形成。開口部14A用于工件W的運入、用于工件W的運出以及用于使投射材料通過。如從上述說明和圖6中明顯看出的，間隔部16設(shè)置在旋轉(zhuǎn)體14中頂棚部14U的下側(cè)，但在圖3中，為便于理解圖，間隔部16未用虛線指示，而是由實線指
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[0046]這里，將給出對于處理室Rl的補充說明。圖6中示出的處理室Rl為設(shè)置在柜體12的內(nèi)部空間中并且通過旋轉(zhuǎn)體14的旋轉(zhuǎn)移置可以是運入室18、投射室20和運出室22中的任何一者的室。這里，運入室18為設(shè)置在噴丸裝置10的運入?yún)^(qū)域40A中并且用于工件W的運入的室，投射室20為設(shè)置在噴丸裝置10的投射區(qū)域40B中并通過將投射材料投射到工件W上而用于進行工件W的表面處理的室，以及運出室22為設(shè)置在噴丸裝置10的運出區(qū)域40C中并用于工件W的運出的室。換句話說，處理室Rl起初為例如運入室18，通過旋轉(zhuǎn)體14的繞其軸線僅預定角度的旋轉(zhuǎn)移置而變成投射室20、并且此外，通過旋轉(zhuǎn)體14的繞其軸線僅預定角度的旋轉(zhuǎn)移置而變成運出室22。
[0047]運入?yún)^(qū)域40A為工件W由作為隨后將描述的懸吊支撐部的自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46懸吊及支撐的區(qū)域。此外，運出區(qū)域40C為工件W被從自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46降下的區(qū)域。
[0048]第一投射機30A設(shè)置在旋轉(zhuǎn)體14的上部的一側(cè)上，并且該第一投射機30A安裝在柜體12的側(cè)壁的上部側(cè)上。另一方面，第二投射機30B設(shè)置在旋轉(zhuǎn)體14的下部的一側(cè)上，并且該第二投射機30B安裝在柜體12的側(cè)壁的下部側(cè)上。即，第一投射機30A和第二投射機30B分別安裝在柜體12的作為安裝表面的側(cè)壁上。此外，在本實施方式中，其上安裝有第一投射機30A的安裝表面和其上安裝有第二投射機30B的安裝表面被設(shè)為相鄰的不同的表面。圖1中示出的其上安裝有第一投射機30A的安裝部12D以及其上安裝有第二投射機30B的安裝部12E也用作在檢查中能夠打開和關(guān)閉的檢查門。
[0049]第一投射機30A和第二投射機30B為能夠通過葉輪的旋轉(zhuǎn)將離心力傳送至投射材料(丸狀物或在本實施方式中例如為鋼球)的離心投射機。此外，如圖6中示出的，第一投射機30A和第二投射機30B構(gòu)造為將由離心力加速過的投射材料通過處理室Rl中的開口部14A投射到處理室Rl內(nèi)。
[0050]第一投射機30A設(shè)定為使得投射材料的投射方向的中心線LI朝著處理室Rl的內(nèi)部側(cè)向處理裝置下側(cè)傾斜。另一方面，第二投射機30B設(shè)定為使得投射材料的投射方向的中心線L2朝著處理室Rl的內(nèi)部側(cè)向處理裝置上側(cè)傾斜。此外，在第一投射機30A中的投射材料的投射方向的中心線LI以及在第二投射機30B中的投射材料的投射方向的中心線L2設(shè)置為具有彼此在位于自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46的自轉(zhuǎn)軸的下側(cè)的延長線的各投射位置側(cè)的空間中不交叉的關(guān)系。在圖中，從第一投射機30A和第二投射機30B的投射軌跡的范圍由夾在中心線LI與L2中間的兩點劃線指示。
[0051]此外,第二投射機30B設(shè)定為使得投射材料的每單位時間的投射量大于第一投射機30A的投射材料的每單位時間的投射量。在本實施方式中，例如，上側(cè)的第一投射機30A中的投射材料的每單位時間的投射量被設(shè)定為300Kg/min，并且下側(cè)上的第二投射機30B中的投射材料的每單位時間的投射量被設(shè)定為400Kg/min。隨后將描述投射材料的每單位時間的投射量的調(diào)整。
[0052]為使投射到處理室Rl中的投射材料下落至處理裝置的下側(cè)，處理室Rl的底板部14Z中形成有多個孔部14Z1。盡管圖6中省略了圖示，通過圖3中示出的外周壁14W的外側(cè)上的安裝板安裝有密封構(gòu)件42。該密封件42由橡膠制成，并設(shè)置在外周壁14W的豎向方向的整個長度上，并且同時沿在處理裝置的平面圖上的周向方向設(shè)置為多個以密封外周壁14W與柜體12的內(nèi)周表面之間的空間。此外，在柜體12的與旋轉(zhuǎn)體14的外周側(cè)相對的內(nèi)周側(cè)上安裝有柱狀圓棒(未示出)，該柱狀圓棒以處理裝置的豎向方向作為其軸向方向安裝。圓棒沿柜體12的內(nèi)周的周向方向設(shè)置為多個并且構(gòu)造為阻止沿柜體12的內(nèi)周流動的投射材料的進入并防止其落下。
[0053]如圖1中示出的，第一投射機30A通過導入筒28A與構(gòu)造為供給投射材料的導入管26A的下端連接，并且導入管26A的上端部上設(shè)置有構(gòu)造為調(diào)整投射材料的流量的流量調(diào)節(jié)器24A。同樣，第二投射機30B通過導入筒28B與構(gòu)造為供給投射材料的導入管26B的下端連接，并且導入管26B的上端部上設(shè)置有構(gòu)造為調(diào)節(jié)投射材料的流量的流量調(diào)節(jié)器24B。[0054]流量調(diào)節(jié)器24A與24B各自設(shè)置有開啟/關(guān)閉門，并且該開啟/關(guān)閉門的開度制作為可調(diào)節(jié)。在本實施方式中，當流量調(diào)節(jié)器24A和24B的開啟/關(guān)閉門需被開啟時，流量調(diào)節(jié)器24B的開啟/關(guān)閉門的門開度設(shè)定為大于流量調(diào)節(jié)器24A的開啟/關(guān)閉門的開度。因此，第二投射機30B的投射材料的每單位時間的投射量設(shè)定為比第一投射機30A的投射材料的每單位時間的投射量更大的量。如在圖5中示出的，流量調(diào)節(jié)器24A和24B連接至控制部38，開啟/關(guān)閉門(開啟/關(guān)閉以及開啟/關(guān)閉量的調(diào)節(jié))的操作由控制部38來控制。
[0055]此外，如圖1中示出的，第一投射機30A通過導入筒28A、導入管26A和流量調(diào)節(jié)器24A連接至循環(huán)裝置34，同時第二投射機30B通過導入筒28B、導入管26B和流量調(diào)節(jié)器24B連接至循環(huán)裝置34。循環(huán)裝置34為構(gòu)造成輸送由第一投射機30A和第二投射機30B投射的投射材料并將其循環(huán)至第一投射機30A和第二投射機30B的裝置。
[0056]循環(huán)裝置34設(shè)置有位于柜體12的下部上的螺旋輸送器34A。螺旋輸送器34A水平地設(shè)置，并將處理裝置的左右方向作為其縱向方向，并且構(gòu)造為回收從投射室20(參見圖6)落下的投射材料并將所述投射材料沿螺旋輸送器34A的縱向方向的預定方向(在本實施方式中為處理裝置的右側(cè))輸送。在螺旋輸送器34A的輸送方向的下游側(cè)(圖1中的處理裝置的右側(cè))設(shè)置有沿處理裝置的豎向方向延伸的斗式提升機34B的下端部側(cè)。
[0057]如圖2中示出的，由于斗式提升機34B具有已知結(jié)構(gòu)，因而將省略對其的詳細描述，并且圍繞設(shè)置在噴丸裝置10的上部和下部上的滑輪34B1纏繞有環(huán)形帶34B2，并且環(huán)形帶34B2上安裝有眾多數(shù)目的斗34B3。此外，滑輪34B1連接至驅(qū)動馬達34C(參見圖1)，并且使得能夠被旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動。因此，斗式提升機34B構(gòu)造為將由螺旋輸送器34A回收的投射材料鏟起至斗34B3上，并通過由驅(qū)動馬達34C (參見圖1)使滑輪34B1旋轉(zhuǎn)而將斗34B3中的投射材料朝向柜體12的上側(cè)輸送。
[0058]斗式提升機34B的上部通過滑槽34D連接至螺旋輸送器34E。圖1中示出的處理裝置的右側(cè)上的架臺36為用于當斗式提升機34B的上部及螺旋輸送器34E被檢查時用作作業(yè)者的腳手架的架臺。如圖1中示出的，螺旋輸送器34E水平地設(shè)置，將處理裝置的左右方向作為其縱向方向，并且構(gòu)造為以便將從斗式提升機34B的上部通過滑槽34D輸入的投射材料以螺旋輸送器34E的縱向方向(在本實施方式中為處理裝置的左側(cè))為預定方向輸送。
[0059]在螺旋輸送器34E的縱向方向的中間部的下側(cè)上，在投射材料可從螺旋輸送器34E流出的位置處設(shè)置有投射材料箱34F和34G。投射材料箱34F和34G為構(gòu)造成將由螺旋輸送器34E輸送的投射材料供給至流量調(diào)節(jié)器24A和24B的箱，并且投射材料箱34F設(shè)置在流量調(diào)節(jié)器24A的上側(cè)上，而投射材料箱34G設(shè)置在流量調(diào)節(jié)器24B的上側(cè)上。
[0060]另一方面，在螺旋輸送器34E的輸送方向的下游側(cè)的端部上，設(shè)置有溢流管34H的上端部。此外，在溢流管34H的下端部上，安裝有風選式分離器341。分離器341將包含流入的投射材料的顆粒狀物質(zhì)通過施加氣流而分類為可乘著氣流的輕質(zhì)量的物件和落下的重質(zhì)量的物件，并將異物從投射材料中分出。
[0061]在分離器341的側(cè)表面部上，安裝有與分離器341連通的沉淀室34J。該沉淀室34J通過導管34K連接至未示出的集塵器，并設(shè)置有從沉淀室34J (在分離器341側(cè)與導管34K側(cè)之間)內(nèi)部的通道中的室上壁側(cè)懸吊的導引板34J1。因此，沉淀室34J在因集塵器的吸入工具(鼓風機)的吸入力而吸入的空氣中通過導引板34J1產(chǎn)生旁通流并將抽吸空氣中的顆粒(異物)通過該旁通流分離出。
[0062]導管34K允許包含細粉的空氣流動，并且連接至導管34K的集塵器將包含細粉的空氣過濾并將僅空氣排放入大氣中，且同時將細粉積聚在集塵器的下方側(cè)上的細粉收集盒(未示出)中。
[0063]沉淀室34J的下部連通傾斜篩34L，并且從沉淀室34J中的異物中分離出的粗粉通過傾斜篩34L篩分(分級)。此外，傾斜篩34L與柜體12的內(nèi)部(在螺旋輸送器34A的上游側(cè)的附近)通過投射材料返回滑槽34M連通。由傾斜篩34L分篩出的可使用投射材料通過投射材料返回滑槽34M返回入柜體12中，并被循環(huán)和使用。
[0064]此外，沉淀室34J的下部與細粉排出滑槽34N連通，并且在細粉排出滑槽34N的下方側(cè)上設(shè)置有細粉接收盒34P。因此，在沉淀室34J中分離出的細粉通過細粉排出滑槽34N排出至細粉接收盒34P中。
[0065]隨后，將描述圖2中示出的構(gòu)造為使工件W公轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)的機構(gòu)。如在圖2中示出的，自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46設(shè)置在旋轉(zhuǎn)體14的頂棚部14U上。自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46將其下部設(shè)置在處理室Rl中，并在處理室Rl中通過籠狀件44懸吊和支撐工件W。工件W在籠狀件44中的設(shè)置防止了工件W的掉落及損壞。用于籠狀件44的自轉(zhuǎn)的自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46的自轉(zhuǎn)軸線與在平面圖上的籠狀件44的旋轉(zhuǎn)中心被設(shè)定為在處理裝置(未示出)的平面圖上為同中心。圖2中的左側(cè)上的籠狀件44示出從自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46移除的狀態(tài)。
[0066]此外，柜體12上設(shè)置有旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)60。旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)60包括公轉(zhuǎn)軸部62、公轉(zhuǎn)輪64、公轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達66并通過使旋轉(zhuǎn)體14的繞處理裝置的豎向方向的軸線旋轉(zhuǎn)而使自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46公轉(zhuǎn)。
[0067]公轉(zhuǎn)軸部62安裝在旋轉(zhuǎn)體14的頂棚部14U的中央部處，并且以處理裝置的豎向方向作為其軸向方向而設(shè)置在旋轉(zhuǎn)體14的上側(cè)上，并且該豎向方向的中間部通過軸承部68貫通框架部70。公轉(zhuǎn)輪64同軸地連接至公轉(zhuǎn)軸部62的上端部并構(gòu)造為通過公轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達66旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動。換言之，公轉(zhuǎn)軸部62構(gòu)造為通過公轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達66的操作繞處理裝置的豎向方向的軸旋轉(zhuǎn)。如圖5中示出的，公轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達66 (在圖5中以框圖示出)連接至控制部38，并且由控制部38控制其操作。
[0068]此外，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)60設(shè)置有形成在旋轉(zhuǎn)體14的外周表面上的預定位置處的凹部14X和與旋轉(zhuǎn)體14的外周表面相對地設(shè)置的用于鎖定公轉(zhuǎn)的鎖定缸72A(在圖中示意性地示出)。在本實施方式中，三個凹部14X沿旋轉(zhuǎn)體14的周向方向連續(xù)地設(shè)置在接近的位置處以形成凹部組，并且該凹部組在沿旋轉(zhuǎn)體14的周向方向的等間距的三點處形成。此外，鎖定缸72A為已知的氣缸并構(gòu)造為能夠在桿72A1配裝入凹部14X中的位置與遠離旋轉(zhuǎn)體14的外周表面的隔開的位置之間伸展及收縮。
[0069]鎖定缸72A通過空氣方向控制裝置(電磁閥等)72B連接至空氣供給源72C，所有這些以框圖示出，并且空氣方向控制裝置72B連接至控制部38?？刂撇?8通過根據(jù)隨后將描述的預定條件控制空氣方向控制裝置72B來在方向上控制鎖定缸72A的桿72A1的伸展
/收縮。
[0070]此外，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)60具有以120°間距安裝在旋轉(zhuǎn)體14的外周表面上的金屬件74Z,并設(shè)置有接近開關(guān)74A、74B和74C，即，三個開關(guān)設(shè)置為略微離開旋轉(zhuǎn)體14的外周表面且彼此相鄰。接近開關(guān)74A、74B、74C構(gòu)造為使得包括所述接近開關(guān)74A、74B和74C的電路(控制電路部)當金屬件74Z靠近至預定范圍時進入導通狀態(tài)。即，在旋轉(zhuǎn)體14抵達預定的旋轉(zhuǎn)角度位置時的狀態(tài)下，當金屬件74Z靠近至接近開關(guān)74A、74B和74C的預定范圍內(nèi)時，接近開關(guān)74A、74B和74C能夠檢出金屬件74Z的接近，換言之，能夠檢出旋轉(zhuǎn)體14處于預定的旋轉(zhuǎn)角度位置處。
[0071]接近開關(guān)74A、74B和74C連接至控制部38。當接近開關(guān)74A、74B和74C檢出金屬件74Z的接近時，控制部38通過基于檢出結(jié)果對空氣方向控制裝置72B進行控制從而執(zhí)行使鎖定缸72A的桿72A1延伸至配合在旋轉(zhuǎn)體14的外周表面上的凹部14X中的位置的方向上的控制。此外，當接近開關(guān)74A、74B和74C未檢出金屬件74Z的接近時，控制部38通過控制空氣方向控制裝置72B而執(zhí)行使鎖定缸72A的桿72A1收縮至遠離旋轉(zhuǎn)體14的外周表面的位置的方向上的控制。
[0072]因此，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)60在投射區(qū)域40B中的作為工件W的公轉(zhuǎn)停止位置的多個位置處進行旋轉(zhuǎn)體14的一次停止，以防止或有效地抑制不均勻的清理過程(不均勻的研磨)。這里，如在圖4中示出的，工件W的在投射區(qū)域40B中的公轉(zhuǎn)停止位置被設(shè)定為第二位置(見圖4 (B))、第一位置(參見圖4 (A))和第三位置(參見圖4 (C))，該第二位置為自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46的自轉(zhuǎn)軸心設(shè)置在處理裝置的平面圖上的第一投射機30A和第二投射機30B中的投射材料的投射方向的中心線LI和L2上的位置，該第一位置為相對于示出在圖4 (B)中的第二位置在轉(zhuǎn)子14的旋轉(zhuǎn)方向(所謂的偏心位置)的上游側(cè)的位置，以及該第三位置為相對于示出在圖4 (B)中的第二位置在旋轉(zhuǎn)體14的旋轉(zhuǎn)方向(所謂的偏心位置)的下游側(cè)的位置。
[0073]當旋轉(zhuǎn)體14受到如圖6中示出的在工件W的公轉(zhuǎn)停止位置處的一次停止時，旋轉(zhuǎn)體14被設(shè)置為使得處理室Rl中的一個設(shè)置在運入?yún)^(qū)域40A (換言之，該室變成運入室18)中，并且處理室Rl中的另一個設(shè)置在運出區(qū)域40C (換言之，該室變成運出室22)中。
[0074]如圖2中所示，自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46的上部在旋轉(zhuǎn)體14的上方側(cè)上與自轉(zhuǎn)輪48同軸地連接。自轉(zhuǎn)輪48由橡膠滾輪組成，并且當安裝在自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46上的籠狀件44抵達在投射區(qū)域40B中的預定位置(參見圖6，在其中工件W受到第一投射機30A與第二投射機30B的投射的區(qū)域)或更具體地，工件W的公轉(zhuǎn)停止位置時，籠狀件構(gòu)造為使得與自轉(zhuǎn)驅(qū)動輪50接觸。此外，自轉(zhuǎn)驅(qū)動輪50由橡膠滾輪組成，并連接至能夠被驅(qū)動的自轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達52，并且當自轉(zhuǎn)驅(qū)動輪50以由自轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達52驅(qū)動的狀態(tài)與自轉(zhuǎn)輪48接觸時，自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46構(gòu)造為繞其軸自轉(zhuǎn)。
[0075]如圖5中示出，自轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達52 (在圖5中以框圖示出)連接至控制部38?？刂撇?8執(zhí)行使得自轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達52當投射材料被投射至工件W時被操作的控制。
[0076]自轉(zhuǎn)驅(qū)動輪50通過軸承安裝在搖臂54A上。搖臂54A在能夠繞處理裝置的豎向方向的軸54X搖動(旋轉(zhuǎn)運動)的同時連接至驅(qū)動部54B (在圖5中以框圖示出)以通過驅(qū)動部54B的操作搖動。驅(qū)動部54B包括氣缸。驅(qū)動部54B連接至控制部38。當工件W抵達公轉(zhuǎn)停止位置時，控制部38通過控制驅(qū)動部54B而執(zhí)行控制，使得搖臂54A搖動，并且使得自轉(zhuǎn)驅(qū)動輪50與自轉(zhuǎn)輪48接觸。
[0077]此外，在與自轉(zhuǎn)輪48同軸地固定的鎖定環(huán)49的外周表面上形成有用于自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46的自轉(zhuǎn)鎖定的凹部49A，并且，鎖定環(huán)49的外周側(cè)上設(shè)置有鎖定滾輪56A。鎖定滾輪56A連接至驅(qū)動部56B (在圖中以框圖示出)，并被構(gòu)造為通過驅(qū)動部56B的操作能夠在設(shè)置在凹部49A中的位置與遠離凹部49A的位置之間移置。驅(qū)動部56B連接至控制部38。
[0078]當自轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達52被操作時，控制部38通過控制驅(qū)動部56B而將鎖定滾輪56A設(shè)置在與凹部49A隔開的位置處，并且當自轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達52被停止時，控制部38通過控制驅(qū)動部56B而將鎖定滾輪56A設(shè)置在凹部49A中。此外，在將鎖定滾輪56A設(shè)置在凹部49A中后，控制部38通過控制驅(qū)動部54B，執(zhí)行控制以使得搖臂54A搖動，并且自轉(zhuǎn)驅(qū)動輪50與自轉(zhuǎn)輪48隔開。
[0079]在圖5中，僅示出了用于三個自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46中的一個的自轉(zhuǎn)及自轉(zhuǎn)鎖定的機構(gòu)。但也設(shè)置有用于其它兩個自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46的同樣的機構(gòu)(圖5中未示出)。
[0080](作用/效果)
[0081 ] 隨后，將描述上述實施方式的作用及效果。
[0082]在根據(jù)本實施方式的噴丸裝置10中，在圖6中示出的自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46設(shè)置在旋轉(zhuǎn)體14的頂棚部14U上，以將工件W懸吊和支撐在處理室Rl中，并構(gòu)造為能夠在其中工件W受到由第一投射機30A和第二投射機30B的投射的投射區(qū)域40B中自轉(zhuǎn)。如此，工件W的整個周向部受到投射。
[0083]此外，在根據(jù)本實施方式的噴丸裝置10中，運入?yún)^(qū)域40A為其中工件W通過自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46被懸吊及支撐的區(qū)域，并且運出區(qū)域40C為其中工件W被從自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46降下的區(qū)域。三個處理室Rl繞旋轉(zhuǎn)體14的周向方向并置，并且當旋轉(zhuǎn)體14受到在工件W的公轉(zhuǎn)停止位置處的一次停止時，處理室Rl中的一個設(shè)置在運入?yún)^(qū)域40A,而處理室Rl中的另一個設(shè)置在運出區(qū)域40C中。
[0084]因此，當工件W在投射區(qū)域40B中受到投射期間，通過將一個或更多個工件W插入至運入?yún)^(qū)域40A中的籠狀件44中，將工件W由自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46懸吊和支撐，同時，能夠?qū)⒁呀?jīng)進行過拋丸處理的工件W從運出區(qū)域40C中的自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46降下。如上所述，由于運出和運入能夠在投射期間在分開區(qū)域中同時進行，因而與例如在一個區(qū)域中進行運出和運入的構(gòu)型相比可減少用于運入/運出所需的時間。
[0085]當進行運入?yún)^(qū)域40A中的運入與在運出區(qū)域40C中的運出時，旋轉(zhuǎn)體14和間隔部16通過公轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達66 (參見圖2)的驅(qū)動力以略小于120°的角度繞作為中心軸的公轉(zhuǎn)軸部62旋轉(zhuǎn)，并且處于插入到籠狀件44中的狀態(tài)下的工件W從運入?yún)^(qū)域40A移動至投射區(qū)域40B。
[0086]隨后，如在圖5中所示，在投射區(qū)域40B中，自轉(zhuǎn)驅(qū)動輪50通過自轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達52的操作旋轉(zhuǎn)，并且自轉(zhuǎn)驅(qū)動輪50與自轉(zhuǎn)輪48接觸由此自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46被旋轉(zhuǎn)。因此，投射區(qū)域40B的籠狀件44以自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46為中心自轉(zhuǎn)。于是，流量調(diào)節(jié)器24A和24B的開啟/關(guān)閉門被打開，并且投射材料被通過第一投射機30A和第二投射機30B (參見圖6)的操作投射到圍繞自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46的籠狀件44中的工件W上。
[0087]這里，圖6中示出的第一投射機30A設(shè)置在旋轉(zhuǎn)體14的上部側(cè)上并且被設(shè)定為使得投射材料的投射方向的中心線LI朝著處理室Rl的內(nèi)部側(cè)向處理裝置下方側(cè)傾斜。另一方面，第二投射機30B設(shè)置在旋轉(zhuǎn)體14的下部側(cè)上，并且設(shè)置為使得投射材料的投射方向的中心線L2朝著處理室Rl的內(nèi)部側(cè)向處理裝置上方側(cè)傾斜。如上所述，由于投射材料從斜上方側(cè)和斜下方側(cè)兩個方向投射到工件W，因而使得工件W的整個表面上的投射更有效率。
[0088]此外,對于第二投射機30B,投射材料的每單位時間的投射量被設(shè)定為比第一投射機30A的投射材料的每單位時間的投射量較大。因此,即使投射材料因斜向地向上投射而減速，但仍進行了與第一投射機30A的斜向地向下投射的拋丸處理相同程度的拋丸處理。此外，在本實施方式中，工件W在投射期間在籠狀件44中略微地浮動，并且投射在籠狀件44的放置部分的上表面與工件W的下表面之間產(chǎn)生空隙的狀態(tài)下進行。因此，能夠消除工件W的底表面上(與籠狀件44接觸的表面)未處理部分(非地上部分)難以進行噴丸處理(研磨)的問題，并且整個工件W能夠受到確實的噴丸處理。
[0089]此外，由于被設(shè)定為使得第一投射機30A中投射材料的投射方向的中心線LI與第二投射機30B中投射材料的投射方向的中心線L2至少在自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46的自轉(zhuǎn)軸的下方側(cè)延長線上的各投射位置側(cè)的空間中不彼此交叉的關(guān)系，因而能夠抑制來自第一投射機30A的材料與來自第二投射機30B的材料在抵達工件W之前的相互干涉。如此，提高了投射效率。
[0090]在根據(jù)本實施方式的噴丸裝置10中，圖5中示出的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)60通過使旋轉(zhuǎn)體14繞處理裝置的豎向方向的軸線旋轉(zhuǎn)而使自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46公轉(zhuǎn)，并同時，進行旋轉(zhuǎn)體14在投射區(qū)域40B中作為工件W的公轉(zhuǎn)停止位置的多個位置處的一次停止。如此，由于投射材料如何擊中工 件W能夠通過多個公轉(zhuǎn)停止位置而相對地改變，因而可以使投射更均勻和準確。
[0091]更具體地，如在圖4中示出的，已進入投射區(qū)域40B的工件W使公轉(zhuǎn)依次在第一位置(參見圖4 (A))、第二位置(參見圖4 (B))與第三位置(參見圖4 (C))停止，并在各個位置處自轉(zhuǎn)的同時受到投射。這里，圖4 (B)中示出的第二位置為在處理裝置的平面圖中自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46的自轉(zhuǎn)軸心設(shè)置在第一投射機30A和第二投射機30B中的投射材料的投射方向的中心線LI和L2上的位置，圖4 (A)中示出的第一位置為相對于圖4 (B)中示出的第二位置在旋轉(zhuǎn)體14的旋轉(zhuǎn)方向上游側(cè)的位置，并且圖4 (C)中示出的第三位置為相對于圖4 (B)中示出的第二位置在旋轉(zhuǎn)體14的旋轉(zhuǎn)方向下游側(cè)的位置。如此，工件W通過在投射區(qū)域40B中三個點處停止而受到投射，并且在投射材料有效地撞擊的第二位置處(參見圖4(B))及其之前與之后的第一位置和第三位置(參見圖4 (A)與圖4 (C))處受到高效的均勻地投射。
[0092]如上所述，根據(jù)本實施方式的噴丸裝置10，可減小總的處理時間。
[0093]【第二實施方式】
[0094]隨后，將通過使用圖7至圖10描述根據(jù)本實用新型的第二實施方式的作為拋丸處理裝置的噴丸裝置80。圖7以前視圖示出根據(jù)本實施方式的噴丸裝置80的整體構(gòu)型，圖8以右側(cè)視圖示出噴丸裝置80的整體構(gòu)型，并且圖9以平面圖示出噴丸裝置80的整體構(gòu)型。此外，圖10以基于平面圖的截面圖示出本實施方式中處理室R2的構(gòu)型。相同的附圖標記用于指代與第一實施方式中的構(gòu)型大致相同的構(gòu)型，并將省略對其的說明。
[0095]如在圖7至圖9中示出的，噴丸裝置80設(shè)置有中空的柱狀柜體82。如在圖9中示出的，在柜體82的中央部處設(shè)置有大致圓筒狀的旋轉(zhuǎn)體84。如隨后將詳細描述的，旋轉(zhuǎn)體84以繞處理裝置的豎向方向的軸線旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動的方式連接至旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)94。
[0096]在旋轉(zhuǎn)體84中，通過將圍繞作為旋轉(zhuǎn)中心的處理裝置的豎向方向的軸線的空間由間隔部86 (間隔構(gòu)件)間隔開，多個(在本實施方式中總共六個室)處理室R2沿周向方向并置。間隔部86設(shè)置在旋轉(zhuǎn)體84中頂棚部84U的下方側(cè)，但出于圖紙的易于理解，大多數(shù)的間隔部86不是由虛線而是由實線指示。處理室R2為構(gòu)造為進行工件W的運入/運出以及投射材料的投射的室。在這些處理室R2中，形成有朝向外周側(cè)開口的開口部84A。開口部84A用于工件W的運入，用于工件W的運出，以及用于使投射材料通過。
[0097]處理室R2為設(shè)置在柜體82的內(nèi)部空間中的室，并且通過旋轉(zhuǎn)體84的旋轉(zhuǎn)移置可以是運入室18、投射室20以及運出室22中的任何一者。在本實施方式中，設(shè)置有兩個室的投射室20。
[0098]此外，在本實施方式中，投射室20與運出室22之間的空間為吹落室21。旋轉(zhuǎn)體84的外周側(cè)上吹落室21的相反部上設(shè)置有未示出的噴吹裝置(鼓風部)。噴吹裝置用于吹落留在工件W上的投射材料，并且能夠?qū)怏w(在本實施方式中為壓縮空氣)通過開口部84A吹至旋轉(zhuǎn)體84的內(nèi)部。
[0099]在本實施方式中，運入?yún)^(qū)域40A為其中工件W由作為隨后將描述的懸吊支撐部的吊架鉤92懸吊和支撐的區(qū)域，并且運出區(qū)域40C為工件W從吊架鉤92降下的區(qū)域。
[0100]如圖10中所示，在間隔部86中，在朝向處理室R2的室內(nèi)側(cè)的間隔表面上安裝有襯套87A和87B。襯套87A在平面圖上沿旋轉(zhuǎn)體84的徑向方向延伸，并且設(shè)置在旋轉(zhuǎn)體84的外周表面?zhèn)鹊亩瞬?7A1向內(nèi)彎曲。襯套87A的端部87A1的內(nèi)側(cè)表面由橡膠來襯套。在這種構(gòu)型中，即使投射的投射材料沿襯套87A流動，其在襯套87A的端部87A1處失去了速度，并落至旋轉(zhuǎn)體84的底板部84Z，通過底板部84Z的孔部84Z1，且由隨后將描述的料斗90A(見圖8)來回收。在旋轉(zhuǎn)體84上，底板部84Z和未示出的頂棚部上同樣安裝有襯套87C。
[0101]如圖7和圖8中所示，在旋轉(zhuǎn)體84的上部側(cè)上設(shè)置有第一投射機88A，并且該第一投射機88A安裝在柜體82的側(cè)壁的上部側(cè)上。另一方面，第二投射機88B設(shè)置在旋轉(zhuǎn)體84的下部側(cè)上，并且該第二投射機88B安裝在柜體82的側(cè)壁的下部側(cè)上。第一投射機88A和第二投射機88B設(shè)置有與第一實施方式(參見圖1和圖2)中的第一投射機30A和第二投射機30B的基本構(gòu)型相同的基本構(gòu)型，并構(gòu)造為使得投射材料通過圖9中示出的處理室R2中的開口部84A投射到處理室R2中。
[0102]此外，圖7中示出的第一投射機88A和第二投射機88B的投射方向等被設(shè)定為與第一實施方式中的相同。即，第一投射機88A設(shè)定為使得投射材料的投射方向的中心線(未示出)朝著處理室R2 (參見圖9)的內(nèi)部側(cè)向處理裝置下方側(cè)傾斜，并且第二投射機88B設(shè)定為使得投射材料的投射方向的中心線(未示出)朝著處理室R2 (參見圖9)的內(nèi)部側(cè)向處理裝置上方側(cè)傾斜。此外，第一投射機88A中的投射材料的投射方向的中心線和第二投射機88B中投射材料的投射方向的中心線被設(shè)定為具有在吊架鉤92的自轉(zhuǎn)軸的下方側(cè)延長線上的各投射位置側(cè)的空間中不彼此交叉的關(guān)系。此外，與第一實施方式相同，第二投射機88B被設(shè)定為具有比第一投射機88A的投射材料的每單位時間的投射量大的投射材料的每單位時間的投射量。
[0103]如圖7和圖8所示，第一投射機88A和第二投射機88B通過導入筒28A和28B和導入管26A和26B連接至流量調(diào)節(jié)器24A和24B。設(shè)置有兩個流量調(diào)節(jié)器24A和兩個流量調(diào)節(jié)器24B，并且相應(yīng)地，兩個導入管26A與流量調(diào)節(jié)器24A以一對一的關(guān)系連接，并且兩個導入管26B與流量調(diào)節(jié)器24B以一對一的關(guān)系連接。流量調(diào)節(jié)器24A和24B連接至與第一實施方式的相同的控制部(未示出)，并且開啟/關(guān)閉門(開啟/關(guān)閉和開啟/關(guān)閉量的調(diào)節(jié))的操作由與第一實施方式的相同的控制部控制。
[0104]第一投射機88A和第二投射機88B通過導入筒28A和28B、導入管26A和26B和流量調(diào)節(jié)器24A和24B連接至循環(huán)裝置90。循環(huán)裝置90為構(gòu)造為輸送由第一投射機88A與第二投射機88B投射的投射材料,并將其循環(huán)至第一投射機88A和第二投射機88B,并具有與第一實施方式中的循環(huán)裝置34 (參見圖1)的構(gòu)型大致局部地相同的構(gòu)型。因此，對于與第一實施方式中的循環(huán)裝置34 (參見圖1)的構(gòu)型部分大致相同的構(gòu)型部分，將省略對其的說明。
[0105]循環(huán)裝置90設(shè)置有旋轉(zhuǎn)體84的下方側(cè)上的料斗90A。料斗90A允許從形成在旋轉(zhuǎn)體84的底板部84Z中形成的孔部84Z1 (參見圖10)落下的投射材料流動至螺旋輸送器34A。另一方面，在處理裝置的上部上，上側(cè)的螺旋輸送器34E的輸送方向的下游側(cè)上安裝有風選式分離器90B。
[0106]分離器90B將含有流入的投射材料的顆粒物質(zhì)通過使用氣流分類成可乘著氣流流動的輕質(zhì)量物件和落下的重質(zhì)量物件，并將異物從投射材料中分類出，并且僅允許可使用的投射材料流入投射材料箱90C中。投射材料箱90C為構(gòu)造成將投射材料供給至流量調(diào)節(jié)器24A和24B、并設(shè)置在流量調(diào)節(jié)器24A和24B的上方側(cè)的罐。
[0107]隨后將描述圖9中示出的構(gòu)造為使工件W公轉(zhuǎn)及自轉(zhuǎn)的機構(gòu)。如圖9中所示，吊架鉤92設(shè)置在旋轉(zhuǎn)體84的頂棚部84U上。在吊架鉤92的軸上部同軸地連接有輪部92A，并且吊架鉤92的軸下部設(shè)置在處理室R2中，并且吊架鉤92將工件W懸吊和支撐在處理室R2中。
[0108]此外,在柜體82中，設(shè)置有旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)94。旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)94包括公轉(zhuǎn)軸部96、公轉(zhuǎn)輪胎98和公轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達100，并且通過使旋轉(zhuǎn)體84繞處理裝置的豎向方向的軸線旋轉(zhuǎn)而使吊架鉤92公轉(zhuǎn)。
[0109]如圖7中所示，旋轉(zhuǎn)軸部96設(shè)置為將處理裝置的豎向方向作為軸心方向，使上端部和下端部通過軸承部由框架部支撐,并且固定至旋轉(zhuǎn)體84的頂棚部84U的中央部處。如圖9中所示，旋轉(zhuǎn)體84的外周側(cè)表面與設(shè)置為將處理裝置的豎向方向作為軸心方向的公轉(zhuǎn)輪胎98接觸。
[0110]可旋轉(zhuǎn)地支撐公轉(zhuǎn)輪胎98的軸承部安裝在能夠繞處理裝置的豎向方向的軸99X搖動(旋轉(zhuǎn)運動)的搖臂99上。搖臂99的遠端部(圖中的右端部)通過未示出的彈簧偏壓至旋轉(zhuǎn)體84側(cè)。因此，公轉(zhuǎn)輪胎98被壓在旋轉(zhuǎn)體84側(cè)上。
[0111]此外，公轉(zhuǎn)輪胎98同軸地連接至公轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達100的馬達軸，并構(gòu)造為由公轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達100可旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動。換言之，旋轉(zhuǎn)體84構(gòu)造為通過公轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達100的操作繞公轉(zhuǎn)軸部96旋轉(zhuǎn)。公轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達100連接至與第一實施方式相似的控制部(未示出)，并且由該控制部控制公轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達100的操作。此外，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)94設(shè)置有與第一實施方式的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)60 (參見圖5)相似的用于鎖定公轉(zhuǎn)的功能。
[0112]因此，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)94在作為工件W的公轉(zhuǎn)停止位置的投射區(qū)域40B中的多個位置處進行旋轉(zhuǎn)體84的一次停止以防止或有效地抑制不均勻的噴丸處理(不均勻的研磨)。這里，在投射區(qū)域40B中的工件W的公轉(zhuǎn)停止位置與第一實施方式的相同(參見圖4)，設(shè)定為第二位置，第一位置和第三位置，該第二位置為在處理裝置的平面圖上吊架鉤92的自轉(zhuǎn)軸心設(shè)置在第一投射機88A與第二投射機88B中投射材料的投射方向的中心線上的位置,第一位置為相對于第二位置在旋轉(zhuǎn)體84的旋轉(zhuǎn)方向上游側(cè)的位置，并且第三位置為相對于第二位置在旋轉(zhuǎn)體84的旋轉(zhuǎn)方向下游側(cè)的位置。
[0113]其通過與第一實施方式相同的控制部(未示出)來控制。此外，在本實施方式中，吊架鉤92被控制為以便當進入投射區(qū)域40B時以低速公轉(zhuǎn)和移動，并且以便在作為第一位置處的前停止、在第二位置處的中央停止、以及在第三位置處的后停止的三點處停止公轉(zhuǎn)，并當從投射區(qū)域40B移動至隨后的投射區(qū)域40B時進一步以高速公轉(zhuǎn)和移動。
[0114]當旋轉(zhuǎn)體84受到工件W的公轉(zhuǎn)停止位置處的一次停止時，設(shè)定為使得處理室R2中的一個設(shè)置在運入?yún)^(qū)域40A中(換言之，該室變成運入室18)，并且處理室R2中的另一個設(shè)置在運出區(qū)域40C中(換言之，該室變成運出室22)。
[0115]在柜體82的頂棚82U上，對應(yīng)于投射室20設(shè)置有兩個帶鏈輪的驅(qū)動馬達102。帶鏈輪的驅(qū)動馬達102的鏈輪102A可通過缸體104被壓在吊架鉤92的輪部92A側(cè)上。具體地，當工件W抵達投射區(qū)域40B (工件W受到第一投射機88A和第二投射機88B的投射的區(qū)域)中的公轉(zhuǎn)停止位置時，鏈輪102A構(gòu)造為壓在吊架鉤92的輪部92A上。此外，在帶鏈輪的驅(qū)動馬達102操作的狀態(tài)下，當使得鏈輪102A與吊架鉤92的輪部92A接觸時，吊架鉤92構(gòu)造為繞其軸自轉(zhuǎn)。
[0116]缸體104為設(shè)置有能夠擴展和收縮的桿的已知的氣缸，并通過未示出的空氣方向控制裝置(電磁閥等)連接至未示出的空氣供應(yīng)源，并且該空氣方向控制裝置連接至未示出的控制部?？刂撇客ㄟ^方向上控制缸體104的桿的擴展和收縮而使帶鏈輪的驅(qū)動馬達102的鏈輪102A靠近吊架鉤92的輪部92A或使帶鏈輪的驅(qū)動馬達102的鏈輪102A遠離吊架鉤92的輪部92A，使得吊架鉤92以與第一實施方式相似的定時以預定時間自轉(zhuǎn)。 [0117]圖9中示出的工件W的公轉(zhuǎn)、公轉(zhuǎn)停止、自轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)停止的條件與第一實施方式的相似，并且操作等由未示出的控制部控制。
[0118]通過上述的本實施方式的構(gòu)型也可獲得與上述第一實施方式的相同的作用和效
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[0119]【第二實施方式的變型】
[0120]作為第二實施方式的變型，旋轉(zhuǎn)體84的內(nèi)部的間隔構(gòu)型可被構(gòu)造為如圖11中所示。與上述實施方式大致相似的構(gòu)型部被賦予相同的附圖標記，并省略對其的說明。此外，盡管省略了詳細說明，在間隔部86上，在朝向處理室R2的室內(nèi)側(cè)導向的間隔表面上安裝有(相似于第二實施方式中襯套87A和87B襯套(參見圖10)的襯套)，并且在旋轉(zhuǎn)體84的底板部與頂棚部上安裝有適宜的襯套。
[0121]圖11 (A)示出了其中設(shè)置有兩個處理室R2、各一個的運入/運出室19和投射室20的構(gòu)型。圖11 (B)為其中設(shè)置有三個處理室R2、各一個的運入室18、投射室20和運出室22的構(gòu)型。圖11 (C)為其中設(shè)置有五個處理室R2、各一個的運入室18、投射室20和運出室22的構(gòu)型。圖11 (D)為其中設(shè)置有六個處理室R2、兩個投射室20和各一個的運入室18和運出室22的構(gòu)型。圖11 (E)為其中設(shè)置有四個處理室R2、各一個的運入室18、投射室20和運出室22的構(gòu)型。圖11 (F)為其中設(shè)置有六個處理室R2、兩個投射室20和各一個的運入室18和運出室22的構(gòu)型。
[0122]【第三實施方式】[0123]隨后，將利用圖12至圖14描述作為根據(jù)本實用新型的第三實施方式的拋丸處理裝置的噴丸裝置110。圖12以前視圖示出了根據(jù)本實用新型的第三實施方式的噴丸裝置110的整體構(gòu)型，圖13以右側(cè)視圖示出了噴丸裝置110的整體構(gòu)型，以及圖14以平面圖示出了噴丸裝置110的整體構(gòu)型。與第一實施方式和第二實施方式大致相同的構(gòu)型部分被賦予相同的附圖標記，并且將省略對其的說明。此外，對于根據(jù)本實施方式的噴丸裝置110的工件W，應(yīng)用作為示例的，例如，鍛造結(jié)構(gòu)、壓制結(jié)構(gòu)、焊接結(jié)構(gòu)等，或例如更具體地汽車相關(guān)的部件。
[0124]如圖12至圖14所示，噴丸裝置110設(shè)置有箱狀柜體112。如圖14中所示，柜體112內(nèi)設(shè)置有大致圓筒形旋轉(zhuǎn)體114 (也稱作“公轉(zhuǎn)鼓”)。旋轉(zhuǎn)體114連接至旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)126以便如隨后將詳細描述的繞沿處理裝置的豎向方向的軸線旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動。
[0125]在旋轉(zhuǎn)體114中，通過將繞作為旋轉(zhuǎn)中心的處理裝置的豎向方向的軸線的空間由間隔部116間隔開，多個處理室(在本實施方式中總計兩個室)沿周向方向并置。間隔部116由間隔構(gòu)件構(gòu)造。在處理室R3中，形成有朝向外周側(cè)開口的開口部114A。開口部114A用于工件W的運入，用于工件W的運出，以及用于使投射材料通過。
[0126]處理室R3為設(shè)置在柜體12的內(nèi)部空間中的室，并且通過旋轉(zhuǎn)體114的旋轉(zhuǎn)移置可以是運入/運出室19和運出室22中的任何一者。這里,運入/運出室19為設(shè)置在噴丸裝置110的運入/運出區(qū)域40D中的室，并用于工件W的運入和運出二者。換言之，例如，原為運入/運出室19的處理室R3通過旋轉(zhuǎn)體114繞其軸線僅預定角度的旋轉(zhuǎn)移置起初變成投射室20，進一步地通過旋轉(zhuǎn)體114繞其軸線僅預定角度的旋轉(zhuǎn)移置變成運入/運出室19。
[0127]運入/運出區(qū)域40D為用于將工件W從用作隨后將描述的懸吊支撐部的自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件122降下的區(qū)域，并且也為用于將工件W通過自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件122懸吊和支撐的區(qū)域。
[0128]如圖13所示，旋轉(zhuǎn)體114的上部側(cè)上設(shè)置有第一投射機118A，并且該第一投射機118A安裝在柜體112的側(cè)壁的上部側(cè)上。另一方面，在旋轉(zhuǎn)體114的下部側(cè)上設(shè)置有第二投射機118B,并且該第二投射機118B安裝在柜體112的側(cè)壁的下部側(cè)上。第一投射機118A和第二投射機118B設(shè)置有與第一實施方式中的第一投射機30A和第二投射機30B(參見圖1和圖2)的同樣的基本構(gòu)型，并被構(gòu)造成使得投射材料通過圖14中示出的處理室R3中的開口部114A被投射到處理室R3內(nèi)部。
[0129]此外，圖13中示出的第一投射機118A和第二投射機118B的投射方向被設(shè)定為與第一實施方式中的相似。即，第一投射機118A被設(shè)定為使得投射材料的投射方向的中心線L3朝著處理室R3的內(nèi)部側(cè)向處理裝置的下方側(cè)傾斜，并且第二投射機118B被設(shè)定為使得投射材料的投射方向的中心線L4朝著處理室R3的內(nèi)部側(cè)向處理裝置的上方側(cè)傾斜。此外，如圖12中所示，第一投射機118A和第二投射機118B被設(shè)置為使得各個葉輪的旋轉(zhuǎn)軸線CL3和CL4彼此平行，并且沿葉輪的旋轉(zhuǎn)軸線方向相對于彼此偏移。通過這種偏移，第一投射機118A中的投射材料的投射方向的中心線L3 (參見圖13)和第二投射機118B中的投射材料的投射方向的中心線L4 (參見圖13)被設(shè)定為具有彼此不交叉的關(guān)系(包括自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件122的自轉(zhuǎn)軸的下方側(cè)延長線上的各投射位置側(cè)的空間)。在圖13中，第一投射機118A中的投射材料的投射方向的中心線L3與第二投射機118B中的投射材料的投射方向的中心線L4當以兩維的方式觀察時似乎是彼此交叉的，但中心線L3和中心線L4沿垂直于圖紙的方向位移并且當以三維的方式觀察時彼此并不交叉。
[0130]此外，與第一實施方式相同，第二投射機118B被設(shè)定為使得投射材料的每單位時間的投射量大于第一投射機118A的投射量。在本實施方式中，例如，上側(cè)的第一投射機118A中投射材料的每單位時間的投射量被設(shè)定為300kg/min，并且下側(cè)的第二投射機118B中投射材料的每單位時間的投射量被設(shè)定為400kg/min。
[0131]第一投射機118A和第二投射機118B通過導入管26A和26B連接至流量調(diào)節(jié)器24A和24B。流量調(diào)節(jié)器24A和24B連接至與第一實施方式相似的控制部(未示出)，并且開啟/關(guān)閉門的操作(開啟/關(guān)閉和開啟/關(guān)閉量的調(diào)整)由與第一實施方式相似的控制部來控制。
[0132]第一投射機118A和第二投射機118B通過導入管26A和26B以及流量調(diào)節(jié)器24A和24B連接至循環(huán)裝置120。循環(huán)裝置120為構(gòu)造為輸送由第一投射機118A和第二投射機118B投射的投射材料、并將其循環(huán)至第一投射機118A和第二投射機118B、并具有與第一實施方式中的循環(huán)裝置34 (參見圖1)的構(gòu)型大致地局部地相似的構(gòu)型。因此，對于與第一實施方式中循環(huán)裝置34 (參見圖1)中的構(gòu)型部大致相似的構(gòu)型部，將省略對其的說明。
[0133]如圖12中所示，處理裝置的上部上安裝有箱體120A。在箱體120A的內(nèi)部的上部側(cè)上，配置有旋轉(zhuǎn)式篩網(wǎng)(旋轉(zhuǎn)篩)120B，并且，該旋轉(zhuǎn)式篩網(wǎng)120B中插入有螺旋輸送器34E。旋轉(zhuǎn)式篩網(wǎng)120B設(shè)置有未示出的篩本體，并且篩本體圓筒狀地形成有網(wǎng)狀本體，并且形成有多個均具有比投射材料的直徑大的直徑的孔部(網(wǎng)眼)，并構(gòu)造為繞其自身軸線旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動。旋轉(zhuǎn)式篩網(wǎng)120B構(gòu)造為使得包含回收的投射材料和顆粒狀異物的混合物從螺旋輸送器34E流入篩本體中，并且同時，篩本體將混合物在繞軸線旋轉(zhuǎn)的同時旋轉(zhuǎn)地移動，并且將具有比孔部的直徑大的直徑的異物除去。
[0134]此外，在箱體120A的內(nèi)部的下部側(cè)上，設(shè)置有風選式分離器120C。分離器120C將包含已通過旋轉(zhuǎn)式篩網(wǎng)120B的孔部流入的投射材料的顆粒物件通過應(yīng)用氣流分級為能夠乘著氣流的輕質(zhì)量物件以及下落的重質(zhì)量物件，并將異物(例如諸如細粉、沙等雜質(zhì))從投射材料中分級出。分離器120C通過斗120F與集塵器120G(參見圖13)連接。集塵器120G通過吸入工具(鼓風機)吸入分離器120C中的空氣，并且通過這種吸入力在分離器120C中產(chǎn)生氣流。
[0135]在箱體120A的下部上，投射材料箱120D和異物排出滑槽120E能夠連通地連接。投射材料箱120D構(gòu)造為使得其中已通過分離器120C將雜質(zhì)分離出后的投射材料被允許流入并循環(huán)使用。投射材料箱120D為構(gòu)造為將投射材料供給至圖13中示出的流量調(diào)節(jié)器24A和24B并設(shè)置在流量調(diào)節(jié)器24A和24B的上方側(cè)上的罐。在另一方面，異物排出滑槽120E用于將從旋轉(zhuǎn)式篩網(wǎng)120B的遠端部側(cè)中排出的較大的異物(例如，鑄件毛刺)排出至處理裝置的外部。
[0136]隨后將描述圖13和圖14中示出的構(gòu)造為使工件W公轉(zhuǎn)和旋轉(zhuǎn)的機構(gòu)。如圖13中所示，在旋轉(zhuǎn)體114的頂棚部114U上設(shè)置有自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件122。自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件122使其下部設(shè)置在處理室R3中，并且通過籠狀件124將工件W懸吊和支撐在處理室R3中。
[0137]在本實施方式中，示出在圖13中的籠狀件124通過將上端部自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件122鎖定而設(shè)置有將處理裝置的豎向方向作為其縱向方向的支柱部124A，并設(shè)置有從支撐柱部124A沿水平方向延伸的用于將工件W插入和布置的臂部124B。將工件W插入到籠狀件124中防止了工件W的掉落和損壞。此外，在處理裝置的平面圖上，臂部124B中工件W的配置中心設(shè)定為與自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件122的自轉(zhuǎn)軸線(自轉(zhuǎn)中心)同中心。在圖紙中，設(shè)置有一個臂部124B，但多個(例如，3個)臂部124B可沿處理裝置的豎向方向以間距設(shè)置。此外，代替籠狀件124，可使用籃狀的籠狀件125。
[0138]此外，在柜體112中，設(shè)置有旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)126。旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)126包括公轉(zhuǎn)軸部128，公轉(zhuǎn)輪130 (參見圖14)和公轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達132并且通過使圖14中示出的旋轉(zhuǎn)體114繞處理裝置的豎向方向的軸線旋轉(zhuǎn)而使自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件122公轉(zhuǎn)。在圖14中，將附圖標記128賦予公轉(zhuǎn)軸部128的軸心。
[0139]如圖13中示出的，公轉(zhuǎn)軸部128設(shè)置為將處理裝置的豎向方向作為其軸心方向并且通過軸承部由框架部支撐并固定在旋轉(zhuǎn)體114的頂棚部114U的中央部處。如圖14中所示，旋轉(zhuǎn)體114的外周側(cè)表面與設(shè)置為將處理裝置的豎向方向作為軸中心方向的公轉(zhuǎn)輪130接觸。
[0140]此外，公轉(zhuǎn)輪130與公轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達132的馬達軸同軸地連接并構(gòu)造為由公轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達132旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動。換言之，旋轉(zhuǎn)體114構(gòu)造為通過公轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達132的操作繞公轉(zhuǎn)軸部128旋轉(zhuǎn)。公轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達132連接至與第一實施方式相似的控制部(未示出)，并且由該控制部控制其操作。此外，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)126設(shè)置有與第一實施方式的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)60 (參見圖5)相似的用于將公轉(zhuǎn)鎖定的功能。
[0141]因此，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)126構(gòu)造為在投射區(qū)域40B中的作為工件W的公轉(zhuǎn)停止位置的多個位置處進行旋轉(zhuǎn)體114的一次停止，以防止或有效地抑制不均勻的噴丸處理(不均勻研磨)。這里，工件W在投射區(qū)域40B中的公轉(zhuǎn)停止位置被設(shè)定為第二位置、第一位置和第三位置，該第二位置為在處理裝置的平面圖上自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件122的自轉(zhuǎn)軸心設(shè)置在第一投射機118A (參見圖13)中投射材料的投射方向的中心線L3 (參見圖13)上的位置，該第一位置為相對于第二位置在旋轉(zhuǎn)體114的旋轉(zhuǎn)方向上游側(cè)的位置，該第三位置為相對于第二位置在旋轉(zhuǎn)體114的旋轉(zhuǎn)方向下游側(cè)的位置。如根據(jù)變型所設(shè)定的，工件W的在投射區(qū)域40B中的公轉(zhuǎn)停止位置可被設(shè)定為第二位置、第一位置和第三位置，該第二位置為在處理裝置的平面圖上自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件122的自轉(zhuǎn)軸心設(shè)置在第二投射機118B (參見圖13)中投射材料的投射方向的中心線L4(參見圖13)上的位置，該第一位置為相對于第二位置在旋轉(zhuǎn)體114的旋轉(zhuǎn)方向上游側(cè)的位置，該第三位置為相對于第二位置在旋轉(zhuǎn)體114的旋轉(zhuǎn)方向下游側(cè)的位置。這些位置通過與第一實施方式相似的控制部(未示出)控制。
[0142]當旋轉(zhuǎn)體114受到工件W的在公轉(zhuǎn)停止位置處的一次停止時，其被設(shè)定為使得處理室R3中的一個設(shè)置在投射區(qū)域40B中(換言之，處理室R3變成投射室20)，并且處理室R3中的另一個設(shè)置在運入/運出區(qū)域40D (換言之，處理室R3變成運入/運出室19)中。
[0143]如圖13中所示，在柜體112中處理裝置的上方側(cè)上，自轉(zhuǎn)輪134同軸地固定至自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件122的上端部。另一方面，在投射室20的上方側(cè)上，設(shè)置有自轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達136，并且同樣設(shè)置有通過自轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達136的操作而驅(qū)動的驅(qū)動滾輪138。如圖14中所示，驅(qū)動滾輪138安裝在與第一實施方式的搖臂54A (參見圖5)相似的搖臂140上，并且與第一實施方式相似，當工件W抵達投射區(qū)域40B 件W受到第一投射機118A和第二投射機118B投射的區(qū)域(參見圖13))中的公轉(zhuǎn)停止位置時，驅(qū)動滾輪138構(gòu)造為按壓在自轉(zhuǎn)輪134上。此外，當使驅(qū)動滾輪138在自轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達136 (參見圖13)操作的狀態(tài)下與自轉(zhuǎn)輪134接觸時，自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件122構(gòu)造為繞其軸線自轉(zhuǎn)。
[0144]圖14中示出的工件W的公轉(zhuǎn)、公轉(zhuǎn)停止、自轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)停止的條件與第一實施方式中的條件相似，并且操作等由未示出的控制部控制。
[0145]根據(jù)上述實施方式的構(gòu)型，盡管工件W的運入和運出不能在當工件W在投射區(qū)域40B中被執(zhí)行投射時同時執(zhí)行，但在投射期間將工件W運出和運入是可能的，并且關(guān)于其他點，能夠獲得與上述的第一實施方式I的作用和效果大致相似的作用和效果。當操作公轉(zhuǎn)驅(qū)動馬達132 (參見圖13)時，通過旋轉(zhuǎn)體114和間隔部116繞公轉(zhuǎn)軸部128旋轉(zhuǎn)略小于180°，插入到籠狀件124中的狀態(tài)下的工件W在投射區(qū)域40B與運入/運出區(qū)域40D之間移動。
[0146]【第四實施方式】
[0147]隨后，將利用圖15至圖17描述根據(jù)本實用新型的第四實施方式的作為拋丸處理裝置的噴丸裝置150。圖15以前視圖示出噴丸裝置150的整體構(gòu)型，圖16以右側(cè)視圖示出噴丸裝置150的整體構(gòu)型，圖17以平面圖示出噴丸裝置150的整體構(gòu)型。
[0148]在這些圖中示出的噴丸裝置150基本為通過將根據(jù)第三實施方式的噴丸裝置110(參見圖12至圖14)的尺寸減小而獲得的裝置。相同的附圖標記賦予與根據(jù)第一實施方式至第三實施方式的噴丸裝置110的構(gòu)型部大致相似的構(gòu)型部，并且省略對其的說明。
[0149]如圖16中所示，構(gòu)造為輸送由第一投射機118A與第二投射機118B投射的投射材料并將投射材料循環(huán)至第一投射機118A和第二投射機118B的循環(huán)裝置152將斗式提升機34B的上部通過滑槽34D連接至分離器120C。即，循環(huán)裝置152未設(shè)置有與圖12中所示的第三實施方式中循環(huán)裝置120中的螺旋輸送器34E和旋轉(zhuǎn)式篩網(wǎng)120B等相對應(yīng)的構(gòu)型。
[0150]通過本實施方式的構(gòu)型，也能夠獲得與上述第三實施方式大致相同的作用和效果O
[0151]【各實施方式的補充說明】
[0152]在上述的實施方式中，拋丸處理裝置指的是噴丸裝置10、80和110，但該拋丸處理
裝置可被應(yīng)用于例如拋丸硬化裝置。
[0153]此外，在上述的實施方式中，投射材料由離心力加速并投射出的離心式投射機(第一投射機30A、88A和118A和第二投射機30B、88B和118B)用作彈丸噴丸裝置10、80和110的投射機，但投射機可以是諸如將投射材料與壓縮空氣一起壓縮地進給并通過噴嘴將其噴出的空氣噴嘴型投射機之類的其它投射機。
[0154]此外，關(guān)于旋轉(zhuǎn)軸部62、96和128的驅(qū)動，取代上述實施方式的構(gòu)型，其也可構(gòu)造為例如將驅(qū)動馬達的軸部直接地連接至公轉(zhuǎn)軸部(旋轉(zhuǎn)軸)而被驅(qū)動或者公轉(zhuǎn)軸部(旋轉(zhuǎn)軸)通過直接地連接至驅(qū)動馬達的張力橡膠滾輪來驅(qū)動。
[0155]此外，在上述的實施方式中，工件W的公轉(zhuǎn)停止位置設(shè)定在第一位置、第二位置和第三位置處，并且這種設(shè)定優(yōu)選地從更有效和更均勻的投射的觀點出發(fā)，但工件W的公轉(zhuǎn)停止位置可例如被設(shè)定在第一位置、第二位置和第三位置中的任意兩個位置處。
[0156]此外，在上述的實施方式中，第一投射機30A、88A和118A設(shè)置在旋轉(zhuǎn)體14、84和114的上部側(cè)上，并且設(shè)置成使得投射的投射材料的投射方向的中心線LI和L3向處理室R1、R2和R3的內(nèi)部側(cè)、處理裝置的下方側(cè)傾斜，并且第二投射機30B、88B和118B設(shè)置在旋轉(zhuǎn)體14、84和114的下部側(cè)上，并且設(shè)置成使得投射的投射材料的投射方向的中心線L2和L4向處理室Rl、R2和R3的內(nèi)部側(cè)、處理裝置的上方側(cè)傾斜，但基于工件的形狀，也可應(yīng)用例如其中投射機僅設(shè)置在旋轉(zhuǎn)體的豎向方向的中央部的一側(cè)的構(gòu)型。
[0157]此外，在上述的實施方式中，第一投射機30A、88A和118A中的投射材料的投射方向的中心線LI和L3以及第二投射機30B、88B和118B中的投射材料的投射方向的中心線L2和L4設(shè)定為具有至少在懸吊支撐部(自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46、吊架鉤92和自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件122)的自轉(zhuǎn)軸的下方側(cè)延長線上的各投射位置側(cè)的空間中彼此不交叉的關(guān)系，并且這種構(gòu)型優(yōu)選地從對工件W進行更有效和更均勻的投射的觀點出發(fā)，但也可以應(yīng)用以上設(shè)定之外的模式。
[0158]此外，在上述實施方式中，懸吊支撐部(自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件46、吊架鉤92和自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件122)使其旋轉(zhuǎn)在預定時間處停止，但也可以使用其中懸吊支撐部在公轉(zhuǎn)期間始終旋轉(zhuǎn)的構(gòu)型。
[0159]此外，作為上述實施方式的變型，拋丸處理裝置可設(shè)定為使得六個處理室沿旋轉(zhuǎn)體的周向方向并置，并且當旋轉(zhuǎn)體受到工件的公轉(zhuǎn)停止位置處的一次停止時，例如，處理室中的兩個室設(shè)置在投射區(qū)域，處理室中的兩個室設(shè)置在運入?yún)^(qū)域，并且處理室中的兩個室設(shè)置在運出區(qū)域。
[0160]上述實施方式及多種變型可適當?shù)亟M合并實施。
[0161]作為非本實用新型的參照性示例，可以應(yīng)用與以上實施方式相似的其中旋轉(zhuǎn)體受到位于投射區(qū)域中作為工件的公轉(zhuǎn)停止位置的單一位置處的一次停止(一種其中設(shè)置有例如由CKD制造的INDEXMAN (注冊商標)的凸輪型指示裝置的構(gòu)型的模型)的模型，并且也可以使用用于驅(qū)動公轉(zhuǎn)軸部(旋轉(zhuǎn)軸)的扭矩限制器。
[0162]附圖標記列表:
[0163]10噴丸裝置(拋丸處理裝置)，14旋轉(zhuǎn)體，14A開口部，14U頂棚部，16間隔部，30A第一投射機，30B第二投射機，40A運入?yún)^(qū)域，40B投射區(qū)域，40C運出區(qū)域，46自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件(懸吊支撐部)，60旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)，80噴丸裝置(拋丸處理裝置)，84旋轉(zhuǎn)體，84A開口部，84U頂棚部，88A第一投射機，88B第二投射機，86間隔部，92吊架鉤(懸吊支撐部)，94旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)，110噴丸裝置(拋丸處理裝置)，114旋轉(zhuǎn)體，114A開口部，114U頂棚部，116間隔部，118A第一投射機，118B第二投射機，122自轉(zhuǎn)軸構(gòu)件(懸吊支撐部)，126旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)，LI第一投射機中投射材料的投射方向的中心線，L2第二投射機中投射材料的投射方向的中心線，L3第一投射機中投射材料的投射方向的中心線，L4第二投射機中投射材料的投射方向的中心線，Rl處理室，R2處理室，R3處理室，W工件。
【權(quán)利要求】
1.一種拋丸處理裝置，包括: 旋轉(zhuǎn)體，所述旋轉(zhuǎn)體繞沿所述處理裝置的豎向方向的軸線可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置，在所述處理裝置中，通過將繞所述軸線的空間由間隔部間隔開，多個處理室沿周向方向并置，并且在所述處理室中，形成有朝向外周側(cè)敞開的開口部，所述開口部用于工件的運入、所述工件的運出以及用于使投射材料通過； 投射機，所述投射機構(gòu)造為將投射材料通過所述處理室中的所述開口部投射到所述處理室中； 懸吊支撐部，所述懸吊支撐部設(shè)置在所述旋轉(zhuǎn)體的頂棚部上，并構(gòu)造為將所述工件懸吊和支撐在所述處理室中，并能夠在所述工件受到所述投射機投射的投射區(qū)域中自轉(zhuǎn)；以及 旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)，所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)構(gòu)造為通過使所述旋轉(zhuǎn)體繞所述軸線旋轉(zhuǎn)而使所述懸吊支撐部公轉(zhuǎn)并且使用所述投射區(qū)域中作為所述工件的公轉(zhuǎn)停止位置的多個位置執(zhí)行所述旋轉(zhuǎn)體的一次停止， 其中在所述投射區(qū)域中的所述工件的所述公轉(zhuǎn)停止位置設(shè)定為: 第二位置，所述第二位置為在所述處理裝置的平面圖上所述懸吊支撐部的自轉(zhuǎn)軸心設(shè)置在所述投射機中的投射材料的投射方向的中心線上的位置； 第一位置，所述第一位置為相對于所述第二位置在所述旋轉(zhuǎn)體的旋轉(zhuǎn)方向上游側(cè)的位置；以及 第三位置，所述第三位置為相對于所述第二位置在所述旋轉(zhuǎn)體的旋轉(zhuǎn)方向下游側(cè)的位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋丸處理裝置，包括: 運入?yún)^(qū)域，所述運入?yún)^(qū)域用于使所述工件由所述懸吊支撐部懸吊和支撐，以及運出區(qū)域，所述運出區(qū)域用于使所述工件從所述懸吊支撐部降下；其中所述處理室中的三個或更多個處理室沿所述旋轉(zhuǎn)體的周向方向并置，并且設(shè)定為使得當所述旋轉(zhuǎn)體在所述工件的所述公轉(zhuǎn)停止位置處進行一次停止時，所述處理室中的至少一個處理室設(shè)置在所述運入?yún)^(qū)域中，同時所述處理室中的至少另一個處理室設(shè)置在所述運出區(qū)域中。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的拋丸處理裝置，其中， 所述投射機設(shè)置有: 第一投射機，所述第一投射機設(shè)置在所述旋轉(zhuǎn)體的上部側(cè)上，并且設(shè)置成使得投射材料的投射方向的中心線朝著所述處理室的內(nèi)部側(cè)向所述處理裝置的下方側(cè)傾斜；以及第二投射機，所述第二投射機設(shè)置在所述旋轉(zhuǎn)體的下部側(cè)上，并且設(shè)置成使得:投射材料的投射方向的中心線朝著所述處理室的內(nèi)部側(cè)向所述處理裝置的上方側(cè)傾斜，并且所述投射材料的每單位時間的投射量設(shè)置為大于所述第一投射機的投射材料的每單位時間的投射量。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的拋丸處理裝置，其中， 所述第一投射機中的投射材料的投射方向的所述中心線和所述第二投射機中的投射材料的投射方向的所述中心線設(shè)定為具有至少在所述懸吊支撐部的自轉(zhuǎn)軸的下方側(cè)延長線的各投射位置側(cè)的空間中彼此不交叉的關(guān)系。
【文檔編號】B24C9/00GK203792183SQ201290000437
【公開日】2014年8月27日 申請日期:2012年5月18日 優(yōu)先權(quán)日:2011年7月19日
【發(fā)明者】山本萬俊 申請人:新東工業(yè)株式會社