專利名稱：一種真空精煉爐插入管的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種真空精煉爐插入管。
背景技術(shù)：
真空精煉爐插入管其襯體為鎂鉻磚砌筑，外面為金屬殼體，鎂鉻磚襯體與金屬殼體之間用澆注料填充。在插入管襯體上安裝6 24支驅(qū)動氣體的金屬噴射管，吹入氬氣。驅(qū)動氣體噴射管的噴嘴分布不同，氬氣氣泡行程也不同，直接影響鋼水的循環(huán)量，進(jìn)而影響鋼液脫碳、脫硫效果?，F(xiàn)有真空精煉爐插入管的驅(qū)動氣體的噴射管的噴嘴分布不當(dāng)，容易造成鋼水環(huán)流量降低，進(jìn)而影響合金成分的均勻性，另外驅(qū)動氣體噴射管噴嘴分布 不當(dāng)，分布部位容易被鋼水、頂渣侵蝕，進(jìn)而造成噴射管吹透現(xiàn)象，造成鎂鉻磚的磚縫增大，滲入鋼水，加速對鎂鉻磚的侵蝕，導(dǎo)致澆注料產(chǎn)生裂縫，脫層，嚴(yán)重影響插入管的壽命。
發(fā)明內(nèi)容為了克服現(xiàn)有真空精煉爐插入管的上述不足，本實用新型提供一種真空精煉爐插入管，本真空精煉爐插入管減輕澆注料裂縫、脫層的程度，使用壽命較長。本實用新型的構(gòu)思是，驅(qū)動氣體的噴射管噴嘴分兩層分布，每層一組呈角度分布，上下兩組交錯。上噴射管噴嘴的位置低于渣線侵蝕部位50-150mm，下噴射管噴嘴高于插入管底端200-400mm，兩組噴射管噴嘴之間距離300-500mm。既可以保證鋼水的環(huán)流量，也可以減少爐渣對上噴射管噴嘴外的澆注料的侵蝕。每個噴射管噴嘴位置固定，其氣源獨立，可由一級質(zhì)量流量計系統(tǒng)控制或者通過球閥控制。若金屬的噴射管噴嘴吹透，則通過球閥或一級質(zhì)量流量計系統(tǒng)關(guān)閉其對應(yīng)的氣源，進(jìn)而減少驅(qū)動氣體對澆注料的侵蝕。本真空精煉爐插入管包括內(nèi)側(cè)的鎂鉻磚內(nèi)襯與鎂鉻磚內(nèi)襯外側(cè)的鉻剛玉耐火材料套，在鉻剛玉耐火材料套設(shè)置著驅(qū)動氣體的噴射管，每一根噴射管有一個噴射管噴嘴，其特征是所述的噴射管噴嘴分為上噴射管噴嘴與下噴射管噴嘴兩組，上噴射管噴嘴與下噴射管噴嘴的數(shù)量相等，上噴射管噴嘴在一個水平面，下噴射管噴嘴在一個水平面，并沿著真空精煉爐插入管的圓周均勻分布，上噴射管噴嘴的位置與下噴射管噴嘴的位置在豎直方向互相交錯，以真空精煉爐插入管的軸線為中心，交錯的角度的數(shù)值為360° +N ；其中N是上噴射管噴嘴與下噴射管噴嘴的總數(shù)量。也是噴射管的總數(shù)。上述的真空精煉爐插入管，其特征是上噴射管噴嘴的位置低于真空精煉爐插入管頂端150 250 mm,下噴射管噴嘴高于真空精煉爐插入管底端200 400mm，上噴射管噴嘴與下噴射管噴嘴之間在豎直方向的距離為300 500mm。上述的真空精煉爐插入管，其特征是上噴射管噴嘴與下噴射管噴嘴的數(shù)量都是4 12個。一般為4、6、8、10或12個。本實用新型采取上述結(jié)構(gòu)，減少爐渣對驅(qū)動氣體的上噴射管噴嘴外澆注料的侵蝕，提高真空精煉爐插入管的壽命；提升氣體的噴射管噴嘴交錯分布，可改善鋼水的環(huán)流量，從而提高鋼水脫碳、脫硫效果，鋼水終點C可降低至12ppm以下，脫硫率可達(dá)80%以上。


[0010]圖1是本實用新型實施例一的主視圖。[0011]圖2是沿圖1中A— A線的剖視圖。[0012]圖3是沿圖1中B— B線的剖視圖。[0013]圖4是本實用新型實施例二的主視圖。[0014]圖5是沿圖4中C一C線的剖視圖。[0015]圖6是沿圖4中D— D線的剖視圖。[0016]圖7是本實用新型實施例二的主視圖。[0017]圖8是沿圖7中E— E線的剖視圖。[0018]圖9是沿圖7中F— F線的剖視圖。[0019]上述圖中[0020]I 一噴射管 2—真空精煉爐插入管3—上噴射管噴嘴[0021]4一鎂鉻磚內(nèi)襯 5—鉻剛玉耐火材料套6—下噴射管噴嘴[0022]7—噴射管 8—真空精煉爐插入管9一上噴射管噴嘴[0023]10一續(xù)絡(luò)磚內(nèi)襯 11一絡(luò)剛玉耐火材料套12—下噴射管噴嘴[0024]13—噴射管 14 一真空精煉爐插入管15—上噴射管噴嘴16一續(xù)絡(luò)磚內(nèi)襯 17—絡(luò)剛玉耐火材料套18—下噴射管噴嘴具體實施方式
[0026]下面結(jié)合實施例及其附圖說明本實用新型的具體實施方式
，但本實用新型的具體實施方式
不局限于下述的實施例。[0027]實施例一圖1、圖2與圖3描述的真空精煉爐插入管2的內(nèi)側(cè)為鎂鉻磚內(nèi)襯4，鎂鉻磚內(nèi)襯4外是鉻剛玉耐火材料套5，在鉻剛玉耐火材料套5有驅(qū)動氣體的噴射管1，每一根噴射管I有一個噴射管噴嘴，真空精煉爐插入管2的長度為700毫米，內(nèi)直徑為350毫米，其特征是它有八個驅(qū)動氣體的噴射管1，所述的噴射管噴嘴，分為上下兩組，有四個上噴射管噴嘴3，四個上噴射管噴嘴3在同一平面，沿真空精煉爐插入管2的圓周均勻分布，有四個下噴射管噴嘴6，四個下噴射管噴嘴6在同一平面，沿真空精煉爐插入管2的圓周均勻分布，上噴射管噴嘴3到真空精煉爐插入管2上沿(頂端)的距離為200毫米(低于渣線部位100毫米)。下噴射管噴嘴6的中心到上噴射管噴嘴3的中心300毫米。上噴射管噴嘴3相對下噴射管噴嘴6交錯分布，以真空精煉爐插入管2的軸線為中心，上噴射管噴嘴3相對下噴射管噴嘴6相錯45°。鉻剛玉耐火材料套5是在鎂鉻磚內(nèi)襯4外，澆注時構(gòu)成一體。實施例二圖4、圖5與圖6描述的真空精煉爐插入管8的內(nèi)側(cè)為鎂鉻磚內(nèi)襯10，鎂鉻磚內(nèi)襯10外是鉻剛玉耐火材料套11，在鉻剛玉耐火材料套11有驅(qū)動氣體的噴射管7，每一根噴射管7有一個噴射管噴嘴，真空精煉爐插入管8的長度為900毫米，內(nèi)直徑為450毫米，其特征是它有十二個驅(qū)動氣體的噴射管7，所述的噴射管噴嘴，分為上下兩組，有六個上噴射管噴嘴9，六個上噴射管噴嘴9在同一平面，沿真空精煉爐插入管8的圓周均勻分布；有六個下噴射管噴嘴12，六個下噴射管噴嘴12在同一平面，沿真空精煉爐插入管8的圓周均勻分布，上噴射管噴嘴9到真空精煉爐插入管8上沿(頂端)的距離為200毫米(低于渣線部位100毫米)。下噴射管噴嘴12的中心到上噴射管噴嘴9的中心300毫米。上噴射管噴嘴9相對下噴射管噴嘴12交錯分布，以真空精煉爐插入管8的軸線為中心，上噴射管噴嘴9相對下噴射管噴嘴12相錯30°。鉻剛玉耐火材料套11是在鎂鉻磚內(nèi)襯10外，澆注時構(gòu)成一體。實施例三圖7、圖8與圖9描述的真空精煉爐插入管14的內(nèi)側(cè)為鎂鉻磚內(nèi)襯16，鎂鉻磚內(nèi)襯16外是鉻剛玉耐火材料套17，在鉻剛玉耐火材料套17有驅(qū)動氣體的噴射管13，每一根 噴射管13有一個噴射管噴嘴，真空精煉爐插入管14的長度為900毫米，內(nèi)直徑為500毫米，其特征是它有十六個驅(qū)動氣體的噴射管13，所述的噴射管噴嘴，分為上下兩組，有八個上噴射管噴嘴15，八個上噴射管噴嘴15在同一平面，沿真空精煉爐插入管14的圓周均勻分布，有八個下噴射管噴嘴18，八個下噴射管噴嘴18在同一平面，沿真空精煉爐插入管14的圓周均勻分布，上噴射管噴嘴15到真空精煉爐插入管14上沿(頂端)的距離為200毫米(低于渣線部位100毫米)。下噴射管噴嘴18的中心到上噴射管噴嘴15的中心300毫米。上噴射管噴嘴15相對下噴射管噴嘴18交錯分布，以真空精煉爐插入管14的軸線為中心，上噴射管噴嘴15相對下噴射管噴嘴18相錯22. 5°。鉻剛玉耐火材料套17是在鎂鉻磚內(nèi)襯16外，澆注時構(gòu)成一體。上述三個實施例的鉻剛玉耐火材料套5、鉻剛玉耐火材料套11與鉻剛玉耐火材料套17屬于澆注料。三個實施例的噴射管的一端都設(shè)置在真空精煉爐插入管的上端。
權(quán)利要求1.一種真空精煉爐插入管，它包括內(nèi)側(cè)的鎂鉻磚內(nèi)襯與鎂鉻磚內(nèi)襯外側(cè)的鉻剛玉耐火材料套，在鉻剛玉耐火材料套設(shè)置著驅(qū)動氣體的噴射管，每一根噴射管有一個噴射管噴嘴， 其特征是所述的噴射管噴嘴分為上噴射管噴嘴與下噴射管噴嘴兩組，上噴射管噴嘴與下噴射管噴嘴的數(shù)量相等，上噴射管噴嘴在一個水平面，下噴射管噴嘴在一個水平面，并沿著真空精煉爐插入管的圓周均勻分布，上噴射管噴嘴的位置與下噴射管噴嘴的位置在豎直方向互相交錯，以真空精煉爐插入管的軸線為中心，交錯的角度的數(shù)值為360° +N;其中N是上噴射管噴嘴與下噴射管噴嘴的總數(shù)量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空精煉爐插入管，其特征是上噴射管噴嘴的位置低于真空精煉爐插入管頂端150 250 mm,下噴射管噴嘴高于真空精煉爐插入管底端200 400mm，上噴射管噴嘴與下噴射管噴嘴之間在豎直方向的距離為300 500mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的真空精煉爐插入管，其特征是上噴射管噴嘴與下噴射管噴嘴的數(shù)量都是4 12個。
專利摘要本實用新型涉及一種真空精煉爐插入管，它包括內(nèi)側(cè)的鎂鉻磚內(nèi)襯與鎂鉻磚內(nèi)襯外側(cè)的鉻剛玉耐火材料套，在鉻剛玉耐火材料套設(shè)置著驅(qū)動氣體的噴射管，每一根噴射管有一個噴射管噴嘴，其特征是所述的噴射管噴嘴分為上噴射管噴嘴與下噴射管噴嘴兩組，上噴射管噴嘴與下噴射管噴嘴的數(shù)量相等，上噴射管噴嘴在一個水平面，下噴射管噴嘴在一個水平面，并沿著真空精煉爐插入管的圓周均勻分布，上噴射管噴嘴的位置與下噴射管噴嘴的位置在豎直方向互相交錯，以真空精煉爐插入管的軸線為中心，交錯的角度的數(shù)值為360°÷N；其中N是上噴射管噴嘴與下噴射管噴嘴的總數(shù)量。
文檔編號C21C7/10GK202849481SQ20122049484
公開日2013年4月3日 申請日期2012年9月26日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月26日
發(fā)明者閆志偉, 陳澤民, 侯東濤, 郝建鋒, 周天成 申請人:山西太鋼不銹鋼股份有限公司