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一種用于異質(zhì)結(jié)物理氣相沉積設(shè)備冷卻模組的制作方法

文檔序號:3271394閱讀:318來源:國知局
專利名稱:一種用于異質(zhì)結(jié)物理氣相沉積設(shè)備冷卻模組的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型屬于鍍膜設(shè)備領(lǐng)域,具體涉及異質(zhì)結(jié)物理氣相沉積設(shè)備冷卻模組。
背景技術(shù)
目前,于異質(zhì)結(jié)物理氣相沉積設(shè)備沉積薄膜時,會將承載盤加熱200 250度,以達(dá)到薄膜沉積時的品質(zhì)要求,同時,隨著加熱的過程薄膜質(zhì)量會更好,因此在鍍膜時加熱室不可避免的過程。隨著沉積薄膜溫度越來越高的要求,傳送出腔體外的承載盤溫度就顯得格外重要,以往設(shè)備上有兩種方式克服:1.增加冷卻腔體的數(shù)量,使承載盤在冷卻真空腔內(nèi)自然散熱,2.在回傳機(jī)制上加裝強制冷卻裝置,例如風(fēng)扇,來在一定的時間內(nèi)冷卻承載盤;但上述第一項設(shè)置會增加設(shè)備設(shè)置成本;第二項設(shè)置會造成傳送時不可避免的環(huán)境污染,且冷卻效率及結(jié)果都不甚滿意,因此需要設(shè)置一機(jī)制來解決上述問題。

實用新型內(nèi)容綜上所述,為了克服現(xiàn)有技術(shù)不足,本實用新型的主要目的在于提供一種用于異質(zhì)結(jié)物理氣相沉積設(shè)備冷卻模組,請參閱圖1所示,所述之冷卻模組是由不銹鋼腔室(11)、氣體分配模組(12)、傳送滾輪(13)、承載盤(14)及下冷卻模組(15 )所組成。所述之下冷卻模組(15),內(nèi)部設(shè)有5mm深度的凹槽,用以放置冷卻銅管,冷卻銅管直徑10mm,上下不銹鋼 板以M6螺絲鎖固。所述之氣體分配模組(12),設(shè)置有51支氣體分支管,氣體由主管路進(jìn)入分配管后,分配管上有面對承載盤分流的氣體流出小孔,使氣體均勻流向承載盤。本實用新型有益效果為。1.本實用新型利用表面拋光不銹鋼板,結(jié)構(gòu)簡單。2.本實用新型利用螺絲鎖固,拆卸方便。3.本實用新型利用凹槽方式將冷卻銅管包覆,達(dá)到最佳的冷卻效果。

圖1系為本實用新型結(jié)構(gòu)示意圖。圖2系為本實用新型冷卻模組示意圖。圖3系為本實用新型冷卻模組結(jié)構(gòu)示意圖。圖4系為本實用新型氣體分配模組結(jié)構(gòu)示意圖。主要組件符號說明。11)...不銹鋼腔室。12)...氣體分配模組。13)...傳送滾輪。14)...承載盤。15)...下冷卻模組。[0020]21...M6 螺絲孔位。22...冷卻水進(jìn)入口。23...冷卻水出口。31...冷卻銅管。41...主管路。42...氣體分配管。以上所述實例是對本實用新型技術(shù)方案的說明而非限制,所屬技術(shù)領(lǐng)域普通技術(shù)人員的等同替換或者根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)而做的修改,只要未超出本實用新型技術(shù)方案的思路和范圍,均應(yīng)包含在本實用新型的權(quán)利要求范圍之內(nèi)。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖對本實用新型做進(jìn)一步說明。請參閱圖2所示,一種用于異質(zhì)結(jié)物理氣相沉積設(shè)備冷卻模組,其包括上冷卻板及下冷卻板組成,上下冷卻板上設(shè)有M6螺絲孔位21,共37個,冷卻媒介由冷卻水進(jìn)入口 22進(jìn)入,由冷卻水出口 23流出。請參閱圖3所示,一種用于異質(zhì)結(jié)物理氣相沉積設(shè)備冷卻模組,下冷卻模組結(jié)構(gòu)示意圖,冷卻板表面設(shè)有5mm深凹槽,用以包覆冷卻銅管31。
請參閱圖4所示,一種用于異質(zhì)結(jié)物理氣相沉積設(shè)備冷卻模組,氣體分配模組12,主管41通入惰性冷卻氣體,通常為氮氣,氣體經(jīng)由主管路41流入氣體分配管42,在經(jīng)由氣體分配管42上的分流小孔流向面對像的承載盤。本實例中當(dāng)承載盤(14)傳入冷卻模組(11)前,冷卻媒介會流入下冷卻模組(15),使冷卻模組維持一定的溫度,同時氣體分配模組(12)會通入氮氣進(jìn)入不銹鋼腔室(11)內(nèi);承載盤進(jìn)入冷卻模組時,會受到上方氣體的直接接觸將熱能往抽氣口風(fēng)向帶出,同時間也會接觸到下方冷卻模組的輻射散熱的作用,將承載盤的熱能帶走,達(dá)到快速冷卻承載盤的目的。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實用新型一種用于異質(zhì)結(jié)物理氣相沉積設(shè)備冷卻模組,其優(yōu)點在于:本實用新型使用氣體分配模組(12),并搭配下冷卻模組(15),提供一強制冷卻的機(jī)制,使承載盤均勻的冷卻,于出腔室實能將溫度下降至低于100度以下,使后續(xù)處理步驟能在低溫下執(zhí)行,有效降低設(shè)備設(shè)置成本,又同時冷卻室在腔室內(nèi)完成,避免受到環(huán)境的污染。以上所述實例是對本實用新型技術(shù)方案的說明而非限制,所屬技術(shù)領(lǐng)域普通技術(shù)人員的等同替換或者根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)而做的修改,只要未超出本實用新型技術(shù)方案的思路和范圍,均應(yīng)包含在本實用新型的權(quán)利要求范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種用于異質(zhì)結(jié)物理氣相沉積設(shè)備冷卻模組,冷卻模組是由不銹鋼腔室(11)、氣體分配模組(12)、傳送滾輪(13)、承載盤(14)及下冷卻模組(15)所組成,所述之下冷卻模組(15),內(nèi)部設(shè)有5mm深度的凹槽,用以放置冷卻銅管,冷卻銅管直徑IOmm,上下不銹鋼板以M6螺絲鎖固,所述之氣體分配模組(12),設(shè)置有51支氣體分支管,氣體由主管路進(jìn)入分配管后,分配管上有面對承載盤分流的氣體流出小孔,使氣體均勻流向承載盤。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述之一種用于異質(zhì)結(jié)物理氣相沉積設(shè)備冷卻模組,其特征在于所述的不銹鋼腔室不銹鋼板厚度25mm及表面拋光處理。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述之一種用于異質(zhì)結(jié)物理氣相沉積設(shè)備冷卻模組,其特征在于所述的下冷卻模組內(nèi)冷卻銅管直徑10_。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述之一種用于異質(zhì)結(jié)物理氣相沉積設(shè)備冷卻模組,其特征在于所述的氣體分配模組共有51支 氣體分配管,氣體分配管管路上分布Imm分流小孔,共80個。
專利摘要本實用新型的主要目的在于提供一種用于異質(zhì)結(jié)物理氣相沉積設(shè)備冷卻模組,請參閱圖1所示,所述之冷卻模組是由不銹鋼腔室11、氣體分配模組12、傳送滾輪13、承載盤14及下冷卻模組15所組成。提供一強制冷卻的機(jī)制,使承載盤均勻的冷卻,于出腔室能將溫度下降至低于100度以下,使后續(xù)處理步驟能在低溫下執(zhí)行,有效降低設(shè)備設(shè)置成本,又同時冷卻室在腔室內(nèi)完成,避免受到環(huán)境的污染。
文檔編號C23C14/54GK203112923SQ20122035577
公開日2013年8月7日 申請日期2012年7月23日 優(yōu)先權(quán)日2012年7月23日
發(fā)明者周文彬, 劉幼海, 劉吉人 申請人:吉富新能源科技(上海)有限公司
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