專利名稱：帶循環(huán)水冷裝置的研磨拋光盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及研磨拋光裝置技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種帶循環(huán)水冷裝置的研磨拋光盤。
背景技術(shù)：
在研磨拋光晶片等薄脆零件過程中，研磨拋光盤和工件的局部接觸區(qū)域往往會出現(xiàn)高溫，有時甚至可達幾百度。局部的高溫不但會燒傷零件的表面，形成加工變質(zhì)層，而且會引起零件的局部變形，進而影響其面形精度?，F(xiàn)有的研磨拋光機冷卻液由冷卻泵從冷卻液箱中吸出，經(jīng)塑料管送到機床前面冷卻液控制旋鈕，被分為兩路，一路由塑料管從床身內(nèi)腔進入擺軸中心孔穿軸而出，接在氣缸壓頭的管接頭上，通過壓頭球頭內(nèi)孔噴出，為上內(nèi)噴；另一路由塑料管穿過上、下床身，主軸下端管接頭，由主軸內(nèi)孔及磨盤上的多個小孔同時噴出為下內(nèi)孔。在游離磨料研磨拋光機上，這種上下內(nèi)噴的冷卻方式是無法應(yīng)用的，因為持續(xù)噴出的冷卻液同時會沖走游離態(tài)的研磨拋光磨料，使研磨拋光加工過程無法進行。因此，市場上精度比較高的游離磨料研磨拋光機一般都要求在配有空調(diào)系統(tǒng)的環(huán)境中使用，但是，空調(diào)系統(tǒng)只能保證外界的溫度恒定，對研磨盤與工件接觸面上的局部高溫區(qū)卻無能為力。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足，提供一種對研磨拋光盤進行冷卻時并不會沖走磨料、從而提高零件加工成品率和效率的帶循環(huán)水冷裝置的研磨拋光盤。按照本實用新型提供的技術(shù)方案，所述帶循環(huán)水冷裝置的研磨拋光盤，在機架面板內(nèi)固定安裝有軸套，在軸套內(nèi)轉(zhuǎn)動架設(shè)有主軸，在主軸內(nèi)開設(shè)有進水管道安裝孔，在主軸的上端部固定有下冷卻盤，在下冷卻盤上固定有上冷卻盤，在上冷卻盤上固定有研磨拋光盤，在下冷卻盤的上端面開設(shè)有呈螺旋狀設(shè)置的進水下槽與回水下槽，進水下槽與回水下槽呈間隔設(shè)置，進水下槽的末端部與回水下槽的首端部相接；在上冷卻盤的下端面開設(shè)有呈螺旋狀設(shè)置的進水上槽與回水上槽，進水上槽與回水上槽呈間隔設(shè)置，進水上槽的末端部與回水上槽的首端部相接，進水下槽與進水上槽配合形成完整的冷卻進水孔，回水下槽與回水上槽配合形成完整的冷卻回水孔。所述進水管道安裝孔沿著主軸的軸向進行開設(shè)，且進水管道安裝孔的上段為圓臺形，進水管道安裝孔的下段為圓柱形。所述進水下槽、回水下槽、進水上槽與回水上槽的截面形狀均為直徑相同的半圓形。本實用新型結(jié)構(gòu)簡單,其研磨拋光盤冷卻回路不經(jīng)過研磨盤表面，冷卻液不會沖走研磨液，故不會影響游離研磨拋光加工過程，流經(jīng)研磨拋光盤底的冷卻液能及時帶走研磨盤各區(qū)域積聚的熱量，起到很好的冷卻效果，從而提高零件加工成品率和效率。
圖I是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本實用新型中上冷卻盤的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
下面結(jié)合具體附圖和實施例對本實用新型作進一步說明。如圖所示該帶循環(huán)水冷裝置的研磨拋光盤，在機架面板I內(nèi)固定安裝有軸套2，在軸套2內(nèi)轉(zhuǎn)動架設(shè)有主軸3，在主軸3內(nèi)開設(shè)有進水管道安裝孔11，在主軸3的上端部固定有下冷卻盤4，在下冷卻盤4上固定有上冷卻盤5，在上冷卻盤5上固定有研磨拋光盤6，在下冷卻盤4的上端面開設(shè)有呈螺旋狀設(shè)置的進水下槽7與回水下槽8，進水下槽7與回水下槽8呈間隔設(shè)置，進水下槽7的末端部與回水下槽8的首端部相接；在上冷卻盤5的下端面開設(shè)有呈螺旋狀設(shè)置的進水上槽9與回水上槽10，進水上槽9與回水上槽10呈間隔設(shè)置，進水上槽9的末端部與回水上槽10的首端部相接，進水下槽7與進水上槽9配合形成完整的冷卻進水孔，回水下槽8與回水上槽10配合形成完整的冷卻回水孔。所述進水管道安裝孔11沿著主軸3的軸向進行開設(shè)，且進水管道安裝孔11的上段為圓臺形，進水管道安裝孔11的下段為圓柱形。所述進水下槽7、回水下槽8、進水上槽9與回水上槽10的截面形狀均為直徑相同的半圓形。使用時，在主軸3的下端部固定有主軸鏈輪13，在進水管道安裝孔11內(nèi)安裝進水管道12，進水管道12的出水端與冷卻進水孔的首端部相接，冷卻回水孔的末端部流出的水進入進水管道安裝孔11內(nèi)并排出。工作時，冷卻水從進水管道12通入冷卻進水孔的首端部，冷卻水經(jīng)冷卻進水孔、冷卻回水孔循環(huán)后將研磨拋光盤6加工時產(chǎn)生的大量熱量吸收，并從冷卻回水孔的末端部流出，經(jīng)主軸3的進水管道安裝孔11流出。
權(quán)利要求1.一種帶循環(huán)水冷裝置的研磨拋光盤，在機架面板(I)內(nèi)固定安裝有軸套(2)，在軸套(2 )內(nèi)轉(zhuǎn)動架設(shè)有主軸(3 )，在主軸(3 )內(nèi)開設(shè)有進水管道安裝孔(11)，在主軸(3 )的上端部固定有下冷卻盤(4)，在下冷卻盤(4)上固定有上冷卻盤(5)，在上冷卻盤(5)上固定有研磨拋光盤(6)，其特征是在下冷卻盤(4)的上端面開設(shè)有呈螺旋狀設(shè)置的進水下槽(7)與回水下槽(8)，進水下槽(7)與回水下槽(8)呈間隔設(shè)置，進水下槽(7)的末端部與回水下槽(8)的首端部相接；在上冷卻盤(5)的下端面開設(shè)有呈螺旋狀設(shè)置的進水上槽(9)與回水上槽(10)，進水上槽(9)與回水上槽(10)呈間隔設(shè)置，進水上槽(9)的末端部與回水上槽(10)的首端部相接，進水下槽(7)與進水上槽(9)配合形成完整的冷卻進水孔，回水下槽(8)與回水上槽(10)配合形成完整的冷卻回水孔。
2.如權(quán)利要求I所述的帶循環(huán)水冷裝置的研磨拋光盤，其特征是所述進水管道安裝孔(11)沿著主軸(3 )的軸向進行開設(shè)，且進水管道安裝孔(11)的上段為圓臺形，進水管道安裝孔(11)的下段為圓柱形。
3.如權(quán)利要求I所述的帶循環(huán)水冷裝置的研磨拋光盤，其特征是所述進水下槽(7)、回水下槽(8)、進水上槽(9)與回水上槽(10)的截面形狀均為直徑相同的半圓形。
專利摘要本實用新型涉及一種帶循環(huán)水冷裝置的研磨拋光盤，在機架面板內(nèi)固定安裝有軸套，在軸套內(nèi)轉(zhuǎn)動架設(shè)有主軸，在主軸內(nèi)開設(shè)有進水管道安裝孔，在主軸的上端部固定有下冷卻盤，在下冷卻盤上固定有上冷卻盤，在上冷卻盤上固定有研磨拋光盤，在下冷卻盤的上端面開設(shè)有呈螺旋狀設(shè)置的進水下槽與回水下槽；在上冷卻盤的下端面開設(shè)有呈螺旋狀設(shè)置的進水上槽與回水上槽，進水上槽與回水上槽呈間隔設(shè)置。本實用新型結(jié)構(gòu)簡單，其研磨拋光盤冷卻回路不經(jīng)過研磨盤表面，冷卻液不會沖走研磨液，可以起到很好的冷卻效果，從而提高零件加工成品率和效率。
文檔編號B24B55/02GK202726714SQ20122032744
公開日2013年2月13日 申請日期2012年7月6日 優(yōu)先權(quán)日2012年7月6日
發(fā)明者方建東, 黃小衛(wèi), 楊寧, 孫曉曉 申請人:元亮科技有限公司