專利名稱：一種用于受鍍環(huán)熔射時的遮護(hù)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種用于受鍍環(huán)熔射時的遮護(hù)裝置。
背景技術(shù)：
受鍍環(huán)為薄膜制程設(shè)備的關(guān)鍵核心零件之一。生產(chǎn)過程中對于微塵粒子的控制十分嚴(yán)格，因此受鍍環(huán)在使用前，除了需要高質(zhì)量的洗凈外，還要采用熔射的方式，覆蓋一層鋁熔射層，用于加強控制微塵粒子的方式。如圖1所示，受鍍環(huán)包括環(huán)形本體1，該環(huán)形本體1的內(nèi)壁為三級臺階狀，從上至下分別為第一臺階11、第二臺階12和第三臺階13。受鍍環(huán)并不需要進(jìn)行全面性的鋁熔射，為防止在熔射過程中熔射到不應(yīng)該熔射的部分，造成無謂的重復(fù)作業(yè)產(chǎn)生，要對不需要的區(qū)域進(jìn)行遮護(hù)作業(yè)。傳統(tǒng)的遮護(hù)作業(yè)方式是采用熔射膠帶進(jìn)行，將熔射膠帶貼附于受鍍環(huán)不需要熔射的區(qū)域，作為隔絕的方式。熔射膠帶有低黏性、耐沖擊、耐高溫的特點，適合用于熔射這項作業(yè)，但這種方式有以下缺點1.由于膠帶為低黏性，會發(fā)生在熔射過程中膠帶被吹開的狀況，造成遮護(hù)效果喪失不需熔射部分被污染，產(chǎn)生重復(fù)作業(yè)。2.進(jìn)行膠帶遮護(hù)作業(yè)皆采人工進(jìn)行，由于受鍍環(huán)內(nèi)部結(jié)構(gòu)復(fù)雜，人工進(jìn)行遮護(hù)作業(yè)需耗費大量時間，無法于短時間中大量的進(jìn)行作業(yè)，人力使用效率偏低。3.熔射膠帶雖然為低黏性，當(dāng)膠帶去除時還是會有殘膠的產(chǎn)生，若后續(xù)去除作業(yè)未確實，再使用受鍍環(huán)時，容易產(chǎn)生電弧效應(yīng)，會使微塵粒子失去控制。4.受鍍環(huán)材質(zhì)為陶瓷，材質(zhì)強度與金屬相比相對薄弱許多，熔射作業(yè)是利用高溫、 高壓的方式將鋁粉噴涂于受鍍環(huán)上，造成即使遮護(hù)區(qū)域有熔射膠帶保護(hù)，受鍍環(huán)無法承受熔射作業(yè)的高溫、高壓，受鍍環(huán)熔射作業(yè)中產(chǎn)生破損時有發(fā)生。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷而提供一種用于受鍍環(huán)熔射時的遮護(hù)裝置，該遮護(hù)裝置既能在熔射時有效地保護(hù)受鍍環(huán)不需要熔射的區(qū)域，又能完全克服熔射膠帶作業(yè)法的缺陷。本實用新型的目的是這樣實現(xiàn)的本實用新型的一種用于受鍍環(huán)熔射時的遮護(hù)裝置，所述受鍍環(huán)包括環(huán)形本體，該環(huán)形本體的內(nèi)壁為三級臺階狀，從上至下分別為第一臺階、第二臺階和第三臺階，所述遮護(hù)裝置包括一圓盤狀的遮護(hù)盤體，所述遮護(hù)盤體的外側(cè)壁上設(shè)有一與所述受鍍環(huán)第三臺階相匹配的臺階。上述的一種用于受鍍環(huán)熔射時的遮護(hù)裝置，其中，所述遮護(hù)裝置由不銹鋼制成。本實用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下優(yōu)點1.本實用新型不會發(fā)生在熔射過程中膠帶被吹開的狀況。[0016]2.本實用新型使用“放”的一個動作即可以與工件結(jié)合，與熔射膠帶必須逐個區(qū)域的黏貼進(jìn)行遮護(hù)相比較，作業(yè)時間明顯降低，可大幅增加作業(yè)人員作業(yè)效率，生產(chǎn)效率連帶增加。3.采用硬件裝置方式進(jìn)行遮護(hù)，完全排除殘膠未清除確實的疑慮，大幅降低在使用時電弧效應(yīng)產(chǎn)生的可能，對于生產(chǎn)設(shè)備的穩(wěn)定度維持，有明顯的幫助。4.采用硬件裝置遮護(hù)的方式，保護(hù)材質(zhì)為陶瓷較脆弱的受鍍環(huán)，降低熔射過程中的高溫、高壓外部作用力對受鍍環(huán)所造成的損壞。

圖1是受鍍環(huán)的剖視圖；圖2是本實用新型的剖視圖；圖3是本實用新型的遮護(hù)狀態(tài)結(jié)構(gòu)圖。
具體實施方式
下面將結(jié)合附圖對本實用新型作進(jìn)一步說明。請參閱圖1，圖中示出了受鍍環(huán)的剖視圖，受鍍環(huán)包括環(huán)形本體1，該環(huán)形本體1的內(nèi)壁為三級臺階狀，從上至下分別為第一臺階11、第二臺階12和第三臺階13，環(huán)形本體1 的外側(cè)壁設(shè)有一臺階2。請參閱圖2，圖中示出了本實用新型遮護(hù)裝置的剖視圖，該遮護(hù)裝置包括一圓盤狀的遮護(hù)盤體3，遮護(hù)盤體3的外側(cè)壁上設(shè)有一與受鍍環(huán)第三臺階13相匹配的臺階31，本實用新型遮護(hù)裝置由不銹鋼制成。熔射前，將本實用新型遮護(hù)裝置如圖3所示放于受鍍環(huán)的內(nèi)圈中，其臺階31的臺階面與受鍍環(huán)第三臺階13的臺階面相接觸，有效地遮護(hù)了該區(qū)域不受熔射的影響。以上實施例僅供說明本實用新型之用，而非對本實用新型的限制，有關(guān)技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本實用新型的精神和范圍的情況下，還可以作出各種變換或變型，因此所有等同的技術(shù)方案也應(yīng)該屬于本實用新型的范疇，應(yīng)由各權(quán)利要求所限定。
權(quán)利要求1.一種用于受鍍環(huán)熔射時的遮護(hù)裝置，所述受鍍環(huán)包括環(huán)形本體，該環(huán)形本體的內(nèi)壁為三級臺階狀，從上至下分別為第一臺階、第二臺階和第三臺階，其特征在于，所述遮護(hù)裝置包括一圓盤狀的遮護(hù)盤體，所述遮護(hù)盤體的外側(cè)壁上設(shè)有一與所述受鍍環(huán)第三臺階相匹配的臺階。
2.如權(quán)利要求1所述的一種用于受鍍環(huán)熔射時的遮護(hù)裝置，其特征在于，所述遮護(hù)裝置由不銹鋼制成。
專利摘要本實用新型涉及一種用于受鍍環(huán)熔射時的遮護(hù)裝置，所述受鍍環(huán)包括環(huán)形本體，該環(huán)形本體的內(nèi)壁為三級臺階狀，從上至下分別為第一臺階、第二臺階和第三臺階，所述遮護(hù)裝置包括一圓盤狀的遮護(hù)盤體，所述遮護(hù)盤體的外側(cè)壁上設(shè)有一與所述受鍍環(huán)第三臺階相匹配的臺階。本實用新型不會發(fā)生在熔射過程中膠帶被吹開的狀況；作業(yè)時間明顯降低，可大幅增加作業(yè)人員作業(yè)效率，生產(chǎn)效率連帶增加；大幅降低在使用時電弧效應(yīng)產(chǎn)生的可能，對于生產(chǎn)設(shè)備的穩(wěn)定度維持，有明顯的幫助；保護(hù)材質(zhì)為陶瓷較脆弱的受鍍環(huán)，降低熔射過程中的高溫、高壓外部作用力對受鍍環(huán)所造成的損壞。
文檔編號C23C4/02GK202347078SQ201120425810
公開日2012年7月25日 申請日期2011年11月1日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月1日
發(fā)明者張耀仁 申請人:上?？票娮涌萍加邢薰? 科治新技股份有限公司