專利名稱：一種生產(chǎn)表面改性活性炭的設(shè)備及方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及活性炭生產(chǎn)領(lǐng)域，特別涉及一種生產(chǎn)表面改性活性炭的設(shè)備及方法。
背景技術(shù)：
表面改性是改善活性炭性能的主要手段，目前多用水溶液沉積法，改性成分與活性炭表面結(jié)合力差，還要額外漂洗與干燥工序。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種利用物理氣相沉積技術(shù)，直接在活性炭表面沉積改性成分，實(shí)現(xiàn)活性炭表面改性。本發(fā)明所述的設(shè)備是真空爐體臥式水平安裝在基座上；在真空爐體上方爐壁上安裝有磁控濺射源總成，在真空爐體下方內(nèi)部安裝有導(dǎo)槽；在真空爐體左側(cè)上方設(shè)有一個(gè)Y型進(jìn)活性炭管；在真空爐體右側(cè)下方設(shè)有一個(gè)Y型出活性炭管。利用上述設(shè)備制取的方法是在活性炭表面通過(guò)物理氣相沉積改性成分，實(shí)現(xiàn)活性炭表面改性的。本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，工藝簡(jiǎn)捷，生產(chǎn)成本低，改性成分與活性炭表面結(jié)合力強(qiáng)，使用壽命長(zhǎng)的優(yōu)勢(shì)。


圖1是本發(fā)明一種生產(chǎn)表面改性活性炭的設(shè)備結(jié)構(gòu)示意圖。實(shí)施方式下面結(jié)合附圖，對(duì)本發(fā)明的設(shè)備和工藝作具體說(shuō)明(但不是對(duì)本發(fā)明的范圍的限制)。如圖1所示，是本發(fā)明的設(shè)備，其特征是真空爐體(I)臥式水平安裝在基座(2)上；在真空爐體(I)上方爐壁上安裝有磁控濺射源總成(5);在真空爐體(I)下方內(nèi)部安裝有導(dǎo)槽(6);在真空爐體(I)左側(cè)上方設(shè)有一個(gè)Y型進(jìn)活性炭管(11);在真空爐體(I)右側(cè)下方設(shè)有一個(gè)Y型出活性炭管(19);所述的導(dǎo)槽(6)與導(dǎo)軌(7)為活動(dòng)連接，即導(dǎo)槽(6)可方便活動(dòng)地插入導(dǎo)軌(7)，導(dǎo)軌(7)上與磁控濺射源總成(5)安裝位置上相對(duì)應(yīng)的中軸對(duì)齊的位置上固定有電振動(dòng)源(8)，在各電振動(dòng)源(8)上安裝有托盤(pán)支架(9)與托盤(pán)(10)，各托盤(pán)形成一個(gè)斜面，這樣活性炭在電振動(dòng)源(8)驅(qū)動(dòng)下會(huì)沿斜面不斷跳動(dòng)翻轉(zhuǎn)并向斜面下方流動(dòng)；所述的左側(cè)Y型進(jìn)活性炭管(11)的分支兩管上，從下而上分別安裝有可密封真空的插板閥(12-1)、(12-2)，漏斗(13-1)、(13-2)，可調(diào)節(jié)至切斷供活性炭量的閥門(mén)(14_1)、(14-2)，裝活性炭桶(15-1)、(15-2)和桶蓋(16_1)、(16-2);所述的右側(cè)Y型出活性炭管(19)的分支兩管上，從上而下分別安裝有可調(diào)節(jié)至切斷供活性炭量的閥門(mén)(20-1)、(20-2)，漏斗(21-1)、(21-2)，可密封真空的插板閥(22_1)、(22_2)，通向抽氣系統(tǒng)的管道(23-1)、(23-2)和回大氣閥(30-1)、(30-2)，裝活性炭桶(24-1)、(24-2);所述的裝活性炭桶(15-1)、(15-2)上部裝有通向抽氣系統(tǒng)的管道(17-1)、(17-2)與回大氣閥(18_1)、(18-2);所述的裝活性炭桶(24-1)、(24-2)下部裝有出活性炭管(25_1)、(25-2);所述的出活性炭管(25-1)、(25-2)上從上而下安裝有可調(diào)節(jié)至切斷供活性炭量的閥門(mén)(26-1)、(26-2);漏斗(27-1)、(27-2)和可密封真空的插板閥(28_1)、(28_2)。利用上述設(shè)備制取表面改性活性炭的方法，其特征是在活性炭表面通過(guò)物理氣相沉積改性成分，利用磁控濺射優(yōu)勢(shì)是磁控濺射靶源可以是單金屬，也可以是不同配比成分的合金，而通過(guò)磁控濺射沉積到活性炭表面的改性成分與磁控濺射靶源的成分相同。本發(fā)明制取表面改性活性炭的方法流程按如下步驟進(jìn)行a、在裝活性炭桶(15-1)中裝入活性炭；b、控制各閥門(mén)對(duì)裝活性炭桶(15-1)、裝活性炭桶(24-1)以及真空爐體(I)抽真空到工藝要求；C、打開(kāi)磁控濺射各總成(5)電源，磁控濺射靶源(5)上裝有改性成分可以是單金屬，也可以是不同配比成分的合金；d、打開(kāi)電振動(dòng)源⑶的電源；e、打開(kāi)相應(yīng)的閥門(mén)，活性炭流入真空爐體⑴中，活性炭依序在托盤(pán)(10)上跳動(dòng)著沿斜面流入裝活性炭桶(24-1)，在這流動(dòng)過(guò)程中活性炭沉積上改性成分可以是單金屬，也可以是不同配比成分的合金；

f、操作相應(yīng)閥門(mén)就可輪流的在桶(15-1)、(15-2)裝入活性炭，桶(24_1) (24-2)流出活性炭，實(shí)現(xiàn)活性炭連續(xù)自動(dòng)的沉積改性成分的方法。實(shí)施例1在磁控濺射靶源(5)上裝有銅金屬，就可生產(chǎn)出具有除臭功能的表面改性活性炭。實(shí)施例2在磁控濺射靶源(5)上裝含有50 %銅50 %銀合金，就可在活性炭表面沉積含有50 %銅50 %銀合金表面活性炭，具有良好殺菌功能。實(shí)施例2在磁控濺射靶源(5)上裝有鈦金屬，在活性炭表面沉積鈦金屬后加熱500-600°C氧化生成二氧化鈦，這樣活性炭兼具光催化功能，在水凈化，空氣凈化上有廣泛應(yīng)用。
權(quán)利要求
1.一種生產(chǎn)表面改性活性炭的設(shè)備，其特征是其特征是真空爐體(I)臥式水平安裝在基座(2)上；在真空爐體(I)上方爐壁上安裝有磁控濺射源總成(5);在真空爐體(I)下方內(nèi)部安裝有導(dǎo)槽(6);在真空爐體(I)左側(cè)上方設(shè)有一個(gè)Y型進(jìn)活性炭管(11);在真空爐體(I)右側(cè)下方設(shè)有一個(gè)Y型出活性炭管(19);所述的導(dǎo)槽￠)與導(dǎo)軌(7)為活動(dòng)連接，即導(dǎo)槽(6)可方便活動(dòng)地插入導(dǎo)軌(7)，導(dǎo)軌(7)上與磁控濺射源總成(5)安裝位置上相對(duì)應(yīng)的中軸對(duì)齊的位置上固定有電振動(dòng)源(8)，在各電振動(dòng)源(8)上安裝有托盤(pán)支架(9)與托盤(pán)(10)，各托盤(pán)形成一個(gè)斜面，這樣活性炭在電振動(dòng)源(8)驅(qū)動(dòng)下會(huì)沿斜面不斷跳動(dòng)翻轉(zhuǎn)并向斜面下方流動(dòng)；所述的左側(cè)Y型進(jìn)活性炭管(11)的分支兩管上，從下而上分別安裝有可密封真空的插板閥(12-1)、(12-2)，漏斗(13-1)、(13-2)，可調(diào)節(jié)至切斷供活性炭量的閥門(mén)(14-1)、(14-2)，裝活性炭桶(15-1)、(15-2)和桶蓋(16-1)、(16-2);所述的右側(cè)Y型出活性炭管(19)的分支兩管上，從上而下分別安裝有可調(diào)節(jié)至切斷供活性炭量的閥門(mén)(20-1)、(20-2)，漏斗(21-1)、(21-2)，可密封真空的插板閥(22_1)、(22_2)，通向抽氣系統(tǒng)的管道(23-1)、(23-2)和回大氣閥(30-1)、(30-2)，裝活性炭桶(24_1)、(24-2)；所述的裝活性炭桶(15-1)、(15-2)上部裝有通向抽氣系統(tǒng)的管道(17-1)、(17-2)與回大氣閥(18-1)、(18-2);所述的裝活性炭桶(24-1)、(24-2)下部裝有出活性炭管(25_1)、(25-2);所述的出活性炭管(25-1)、(25-2)上從上而下安裝有可調(diào)節(jié)至切斷供活性炭量的閥門(mén)(26-1)、(26-2);漏斗(27-1)、(27-2)和可密封真空的插板閥(28_1)、(28_2)。
2.根據(jù)權(quán)利1，利用上述設(shè)備制取表面改性活性炭的方法，其特征是按如下步驟進(jìn)行 a、在裝活性炭桶(15-1)中裝入活性炭； b、控制各閥門(mén)對(duì)裝活性炭桶(15-1)、裝活性炭桶(24-1)以及真空爐體⑴抽真空到工藝要求； C、打開(kāi)磁控濺射各總成(5)電源，磁控濺射靶源(5)上裝有改性成分可以是單金屬，也可以是不同配比成分的合金； d、打開(kāi)電振動(dòng)源(8)的電源； e、打開(kāi)相應(yīng)的閥門(mén)，活性炭流入真空爐體(I)中，活性炭依序在托盤(pán)(10)上跳動(dòng)著沿斜面流入裝活性炭桶(24-1)，在這流動(dòng)過(guò)程中活性炭沉積上改性成分可以是單金屬，也可以是不同配比成分的合金； f、操作相應(yīng)閥門(mén)就可輪流的在桶(15-1)、(15-2)裝入活性炭，桶(24-1)(24-2)流出活性炭，實(shí)現(xiàn)活性炭連續(xù)自動(dòng)的沉積改性成分的方法。
全文摘要
一種生產(chǎn)表面改性活性炭的設(shè)備，其特征是真空爐體臥式水平安裝在基座上；在真空爐體上方爐壁上安裝有磁控濺射源總成，在真空爐體下方內(nèi)部安裝有導(dǎo)槽；在真空爐體左側(cè)上方設(shè)有一個(gè)Y型進(jìn)活性炭管；在真空爐體右側(cè)下方設(shè)有一個(gè)Y型出活性炭管。利用上述設(shè)備制取的方法是在活性炭表面通過(guò)物理氣相沉積改性成分，實(shí)現(xiàn)活性炭表面改性的。
文檔編號(hào)C23C14/35GK103046010SQ201110317560
公開(kāi)日2013年4月17日 申請(qǐng)日期2011年10月17日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月17日
發(fā)明者王鉅 申請(qǐng)人:王鉅