專利名稱：濕式打磨裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種打磨臺，尤其是一種濕式打磨裝置。
背景技術(shù)：
拋光、切割及打磨工藝是機(jī)械加工常用工序，該工序常伴隨大量煙塵氣體的產(chǎn)生， 對環(huán)境和操作人員產(chǎn)生不良影響?，F(xiàn)有的傳統(tǒng)拋光、打磨除塵設(shè)備，例如，打磨吸氣罩、拋光面罩、干式打磨臺等，如專利200810044531. 5所示打磨臺，由于吸風(fēng)口面積有限，拋光片高速旋轉(zhuǎn)與工件摩擦產(chǎn)生的固體顆粒與煙塵氣體，不能有效吸收過濾，而干式打磨臺雖然可以保證吸風(fēng)面積，但由于工作環(huán)境的干燥性，極細(xì)小的固體顆粒會隨空氣彌散，對人體健康與環(huán)境質(zhì)量的危害不能降至最低。

發(fā)明內(nèi)容
為了彌補(bǔ)了上述背景技術(shù)中提到的傳統(tǒng)缺陷高速運(yùn)動的碎屑和較大的固體顆粒無法收集，附塵氣體不能大面積吸收過濾，本發(fā)明提供了一種濕式打磨裝置，其具體方案如下濕式打磨裝置，包括吸風(fēng)裝置1、濾芯2、工作臺12、箱體14及一水幕除塵裝置，箱體14設(shè)于工作臺12前方，吸風(fēng)裝置1排風(fēng)口同濾芯2連通，所述水幕除塵裝置包括供水裝置5、水幕板4、溢水槽7和盛水槽9，水幕板4設(shè)于工作臺12前方，溢水槽7設(shè)于水幕板上方并同供水裝置5連通，供水溢出時形成設(shè)于工作臺前的水幕，盛水槽9用以容納落下的水幕，吸風(fēng)裝置1入風(fēng)口同水幕板4前空間區(qū)域連通。進(jìn)一步，所述水幕板4、溢水槽7和盛水槽9設(shè)于箱體14內(nèi)部。進(jìn)一步，所述盛水槽9同供水裝置5連通，為供水裝置5的水源。進(jìn)一步，所述盛水槽9安裝有一液位計6。進(jìn)一步，所述工作臺一側(cè)設(shè)有火星反彈裝置11。進(jìn)一步，所述工作臺12臺面設(shè)有多個通孔121，該通孔121同吸風(fēng)裝置1入風(fēng)口連通。進(jìn)一步，所述箱體14內(nèi)部設(shè)有風(fēng)道擋板裝置8，該裝置由交錯的多個擋板組成，該多交錯擋板結(jié)構(gòu)置于吸風(fēng)裝置1入風(fēng)口前。進(jìn)一步，所述打磨臺還包括一集塵裝置3，集塵裝置3設(shè)于吸風(fēng)裝置1排風(fēng)口同濾芯2之間。本發(fā)明通過在工作臺前設(shè)置一包括供水裝置5、水幕板4、溢水槽7和盛水槽9的水幕除塵裝置，通過水幕去除附塵氣體，提高去塵效率。本發(fā)明所述水幕板4、溢水槽7和盛水槽9設(shè)于箱體內(nèi)，使得濕式打磨裝置結(jié)構(gòu)緊湊減少所占工作空間，便于使用。本發(fā)明所述供水裝置5和盛水槽9連同，形成水循環(huán)除塵系統(tǒng)，節(jié)約能源，便于維護(hù)。
本發(fā)明還在盛水槽9設(shè)置一液位計6，以便于觀察水位，易于維護(hù)。本發(fā)明在工作臺12 —側(cè)設(shè)有火星反彈裝置，有效的防止大顆?；鹦堑姆磸?。本發(fā)明工作臺12上設(shè)置有多個通孔121以增加吸塵通道，加強(qiáng)除塵效果。本發(fā)明還設(shè)置一風(fēng)道擋板裝置8，阻擋了強(qiáng)大的吸風(fēng)所帶動的水體和體積較大的粉塵顆粒。本發(fā)明對拋光、切割及打磨煙塵的過濾效率可達(dá)98%，同時并能保證極高的氣流量。該凈化器具有噪音小、性能穩(wěn)定、操作使用方便等諸多優(yōu)點(diǎn)。


圖1為本發(fā)明較佳實(shí)施例的主視圖。圖2為本發(fā)明較佳實(shí)施例的左視圖，其中箱體部分透視。圖3為本發(fā)明較佳實(shí)施例的俯視圖。圖4為本發(fā)明較佳實(shí)施例的使用示意圖。
具體實(shí)施例方式如圖1 3所示本發(fā)明較佳實(shí)施例，由工作臺12及設(shè)置于工作臺12前、同工作臺 12固定連接的箱體14構(gòu)成。工作臺12上設(shè)有多個通孔121。水幕除塵裝置包括供水裝置 5、水幕板4、溢水槽7和盛水槽9，本實(shí)施例中供水裝置5為一不銹鋼自吸式水泵，但不以此為限，水幕板4設(shè)于工作臺12前方，水幕板4相對形成水幕面的反面設(shè)有風(fēng)道擋板裝置8， 該裝置由交錯的多個擋板組成。工作臺一側(cè)設(shè)有火星反彈裝置11，本發(fā)明較佳實(shí)施例中設(shè)置為右側(cè)，但不以此為限。溢水槽7設(shè)于水幕板上方并同供水裝置5連通，水幕板4同風(fēng)道擋板裝置8連接、共同固定于箱體14內(nèi)。盛水槽9兩側(cè)設(shè)有進(jìn)水閥10和排水閥13，盛水槽9設(shè)置于水幕板4下方以容納落下的水幕，且該盛水槽9同供水裝置5連通以提供水幕水源。盛水槽9還安裝有一液位計6，可顯示下部水箱內(nèi)水位，方便水不足時及時注水。本實(shí)施例設(shè)有吸風(fēng)裝置1、濾芯2及集塵裝置3，吸風(fēng)裝置1排風(fēng)口通過集塵裝置3同初效濾芯2連通，本發(fā)明較佳實(shí)施例中吸風(fēng)裝置1為兩臺2. 2KW離心直連通風(fēng)機(jī)，本集塵裝置3為積灰箱，但不以此為限。其中，兩臺2. 2KW離心直連通風(fēng)機(jī)1，為整個裝置的吸風(fēng)提供動力，驅(qū)動落在工作臺上的加工塵屑通過通孔121下落，并使水幕前或工作臺通孔下的帶塵空氣進(jìn)入濾芯2。兩件初效濾芯2進(jìn)一步過濾含塵空氣，排放出潔凈的空氣。打磨臺閑置時，濾芯2長期過濾積累的灰塵經(jīng)外部氣流吹動，落入積灰箱3，可定期打開后部檢修蓋板清理灰塵；打磨臺工作時，積灰箱3為離心直連通風(fēng)機(jī)1同濾芯2間的通風(fēng)通道。不銹鋼自吸式水泵5開啟后，水流向上流入溢水槽7，至水滿，從溢水槽流出，沿水幕板4向下流動形成一道水幕；下部盛水槽9容納落下的水幕，該盛水槽9同不銹鋼自吸式水泵5相連通以提供水幕水源，形成一水循環(huán)除塵系統(tǒng)，且盛水槽9 一側(cè)安裝有液位計6，可顯示下部水箱內(nèi)水位，方便水不足時及時注水；盛水槽9兩側(cè)的進(jìn)水閥10打開，可注入干凈的水體，排水閥13打開，排出污水，以為定期更換機(jī)器正常運(yùn)轉(zhuǎn)所需水源；后部風(fēng)道擋板裝置8阻擋了強(qiáng)大的吸風(fēng)所帶動的水體和體積較大的粉塵顆粒，防止其對濾芯的直接沖擊損壞；右側(cè)門設(shè)計有火星反彈裝置11能有效的防止大顆?；鹦堑姆磸?；沖孔工作臺12為工作區(qū)域。
附圖4為工作示意圖，使用過程如下打磨工件前，按下打磨臺的電源按鈕(圖中未標(biāo)識)，電源指示燈(圖中未標(biāo)識) 發(fā)亮，離心直連通風(fēng)機(jī)1和不銹鋼自吸式水泵5運(yùn)轉(zhuǎn)，離心直連通風(fēng)機(jī)1通過箱體14內(nèi)水幕板4下方通道對工作臺12上下方的連通區(qū)域產(chǎn)生吸力，不銹鋼自吸式水泵5將水從盛水槽9輸送至溢水槽7，水滿后，水流溢出溢水槽7沿打磨臺前端的傾斜水幕板4流下，形成一道水幕，水流速度由水泵5的功率大小決定。打磨工件M時，產(chǎn)生的粉塵主要集中在打磨臺的前部和右部區(qū)域，前部的粉塵一部分濺出隨水幕落入下部盛水槽9，一部分通過工作臺12的通孔121向下直接落入盛水槽; 右部的粉塵經(jīng)火星反彈裝置，滯留在工作臺12上或直接通過工作臺12的通孔121向下直接落入盛水槽；其余含塵氣流通過水幕板4下方的通道通過風(fēng)道擋板裝置8進(jìn)入離心直連通風(fēng)機(jī)1排出至積灰箱3進(jìn)入初效濾芯2濾塵，向外排出過濾后的潔凈空氣。綜上所述僅為發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非用來限定本發(fā)明的實(shí)施范圍。即凡依本發(fā)明申請專利范圍的內(nèi)容所作的等效變化與修飾，都應(yīng)為本發(fā)明的技術(shù)范疇。
權(quán)利要求
1.濕式打磨裝置，包括吸風(fēng)裝置(1)、濾芯O)、工作臺(12)、箱體(14)及一水幕除塵裝置，箱體(14)設(shè)于工作臺(12)前方，吸風(fēng)裝置(1)排風(fēng)口同濾芯(2)連通，其特征在于， 所述水幕除塵裝置包括供水裝置(5)、水幕板G)、溢水槽(7)和盛水槽(9)，水幕板(4)設(shè)于工作臺(12)前方，溢水槽(7)設(shè)于水幕板上方并同供水裝置(5)連通，供水溢出時形成設(shè)于工作臺前的水幕，盛水槽(9)用以容納落下的水幕，吸風(fēng)裝置(1)入風(fēng)口同水幕板(4) 前空間區(qū)域連通。
2.如權(quán)利要求1所述的濕式打磨裝置，其特征在于，所述水幕板G)、溢水槽(7)和盛水槽(9)設(shè)于箱體(14)內(nèi)部。
3.如權(quán)利要求1所述的濕式打磨裝置，其特征在于，所述盛水槽(9)同供水裝置(5)連通，為供水裝置(5)的水源。
4.如權(quán)利要求1所述的濕式打磨裝置，其特征在于，所述盛水槽(9)安裝有一液位計(6)。
5.如權(quán)利要求1所述的濕式打磨裝置，其特征在于，所述工作臺一側(cè)設(shè)有火星反彈裝置(11)。
6.權(quán)利要求1 5中所述的任一濕式打磨裝置，其特征在于，所述工作臺(12)臺面設(shè)有多個通孔(121)，該通孔(121)同吸風(fēng)裝置(1)入風(fēng)口連通。
7.如權(quán)利要求6所述的任一濕式打磨裝置，其特征在于，所述箱體(14)內(nèi)部設(shè)有風(fēng)道擋板裝置(8)，該裝置由交錯的多個擋板組成，該多交錯擋板結(jié)構(gòu)置于吸風(fēng)裝置(1)入風(fēng)口、r -
8.如權(quán)利要求7所述的任一所述濕式打磨裝置，其特征在于，所述打磨臺還包括一集塵裝置(3)，集塵裝置(3)設(shè)于吸風(fēng)裝置(1)排風(fēng)口同濾芯(2)之間。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種打磨臺，尤其是一種濕式打磨裝置。濕式打磨裝置，包括吸風(fēng)裝置1、濾芯2、工作臺12、箱體14及一水幕除塵裝置，箱體14設(shè)于工作臺12前方，吸風(fēng)裝置1排風(fēng)口同濾芯2連通，所述水幕除塵裝置包括供水裝置5、水幕板4、溢水槽7和盛水槽9，水幕板4設(shè)于工作臺12前方，溢水槽7設(shè)于水幕板上方并同供水裝置5連通，供水溢出時形成設(shè)于工作臺前的水幕，盛水槽9用以容納落下的水幕，吸風(fēng)裝置1入風(fēng)口同水幕板4前空間區(qū)域連通。本發(fā)明通過在工作臺前設(shè)置一包括供水裝置5、水幕板4、溢水槽7和盛水槽9的水幕除塵裝置，通過水幕去除附塵氣體，提高去塵效率。
文檔編號B24B27/00GK102259297SQ20111022695
公開日2011年11月30日 申請日期2011年8月9日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月9日
發(fā)明者郭嶺行 申請人:上海凱森環(huán)保科技有限公司