專利名稱：可控制蒸發(fā)氣流分布和成分的真空蒸發(fā)系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于制作有機發(fā)光二極管(OLED)、有機薄膜晶體管(TFT)、 有機太陽電池、半導體器件、平板顯示器件，及其他有機及無機器件時把有機及無機的 蒸發(fā)料蒸鍍到基板上的可控制蒸發(fā)氣流分布和成分的真空蒸發(fā)系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
真空蒸鍍工藝已廣泛的用于半導體元器件及平板顯示器件的制作。特別如 有機發(fā)光二極管(OLED)等方面已形成了一個很大的產(chǎn)業(yè)，在OLED的制備過程中主 要的過程是真空蒸發(fā)，就是把有機蒸發(fā)料放在加熱的坩堝中把蒸發(fā)料變成蒸汽后沉積在 基板上。由于隨著平板顯示面積的不斷擴大，對大面積蒸發(fā)的均勻性和低成本的蒸發(fā) 要求越來越高。而一般常用蒸發(fā)源有點蒸發(fā)源和線蒸發(fā)源。對于點蒸發(fā)源如中國專利 01129122、200810210270.x、003110977等，該種蒸發(fā)源由于蒸發(fā)時呈球面狀因此在蒸發(fā) 到平面基板時是不均勻的，中間厚周邊薄。為了要得到均勻的薄膜則需要把蒸發(fā)源放在 基板的邊緣而在基板旋轉(zhuǎn)的情況下才能得到均勻的薄膜。這不僅增加了工藝的復(fù)雜性而 且也造成了蒸發(fā)料的大量浪費。一般用這種方法的蒸發(fā)料的利用率只有百分之幾。特 別是對有機發(fā)光器件其有機發(fā)光的材料很昂貴的情況下它大大的增加了成本。為了提高 蒸發(fā)料的利用率有很多專利如中國專利200710169464.5等提出了線蒸發(fā)源的方案。其方 法是通過線蒸發(fā)源即把蒸發(fā)舟制成一長條形的蒸發(fā)舟形成一均勻的線狀的蒸發(fā)源，通過 該線蒸發(fā)源或基板的等速移動來實現(xiàn)均勻的蒸發(fā)。它的蒸發(fā)料利用率有了很大提高，可 以達到20%左右的利用率。但是它的結(jié)構(gòu)復(fù)雜為實現(xiàn)線上的均勻蒸發(fā)速率其控制的因素 很多，設(shè)備成本就比較高。此外由于一般的有機發(fā)光層多需要有攙雜劑因此需要多源蒸 發(fā)。這不僅帶來了更多的控制，為了調(diào)節(jié)其穩(wěn)定的蒸發(fā)速率需要很長的調(diào)試過程，這也 帶來了很大的蒸發(fā)料的浪費和工藝成本。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于針對已有技術(shù)存在的缺陷，提供一種可控制蒸發(fā)氣流分布 和成分的真空蒸發(fā)系統(tǒng)，蒸發(fā)到基板上的薄膜厚度是均勻的，且大大提高有機蒸發(fā)料的 利用率，系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡單，提高生產(chǎn)率。為達到上述目的，本發(fā)明采用下述技術(shù)方案
一種可控制蒸發(fā)氣流分布和成分的真空蒸發(fā)系統(tǒng)，包括蒸發(fā)槍、高溫蒸發(fā)坩堝和 裝有蒸發(fā)料的儲料罐，其特征在于所述蒸發(fā)槍帶有一個上下錐面的噴口，且在噴口內(nèi)側(cè) 安置一個可移動的氣流導向塞子，對準所述的噴口前方是待蒸鍍的基板，該蒸發(fā)槍通過 一個加熱管道或緩沖瓶與帶有交叉擋板的所述高溫蒸發(fā)坩堝相連，在所述坩堝的另一側(cè) 通過一個裝有送料閥門的管道與所述儲料罐相連；所述蒸發(fā)槍、加熱管道、高溫蒸發(fā)坩 堝和管道外壁上都有加熱線圈，在儲料罐外壁上亦有加熱線圈；通過送料閥門和管道把 儲料罐中的蒸發(fā)料投放到高溫蒸發(fā)坩堝中成為進行蒸發(fā)的蒸發(fā)料瞬間變成蒸發(fā)氣體而輸送至蒸發(fā)槍，通過改變氣流導向塞子與噴口的相對位置可控制蒸發(fā)氣體的大小和方向， 蒸發(fā)到基板上形成設(shè)定面積、均勻的、多組分的蒸發(fā)薄膜。所述蒸發(fā)槍的帶有上下錐面的噴口截面形狀可根據(jù)基板的形狀和蒸發(fā)氣流流量 的分布而做成方形、或長方形、或圓形，而其錐面的形狀是單錐形或雙錐形，是呈方錐 形、或長方錐形、或圓錐形、或曲面錐形形狀，上下錐面的形狀是對稱的或不對稱的。所述噴口內(nèi)側(cè)可移動的氣流導向塞子的形狀是球狀、或橢球狀、或錐狀、或帶 曲面的園錐、或方形的錐體形狀；可移動的氣流導向塞子與一相移動桿相連，該移動 桿伸出蒸發(fā)槍的體外，一個波紋管一端與移動桿固定連接，另一端與蒸發(fā)槍殼體固定連 接，使蒸發(fā)槍腔體形成一個密封整體。通過驅(qū)動移動桿移動氣流導向塞子與圓口的距離 可起到調(diào)節(jié)氣流的分布，大小以及達到關(guān)閉的功能。所述蒸發(fā)料是單一材料，或者是多種材料的混合材料，該混合材料是機械混合 料，或者是通過把攙雜料溶解在適當?shù)娜軇┲性偌尤氲交|(zhì)中微量雜質(zhì)。所述蒸發(fā)料是粉末狀，或者是小球狀、粒狀、片狀的小丸。所述高溫蒸發(fā)坩堝的坩堝底部呈錐狀或球狀。所述蒸發(fā)槍、加熱管道和高溫蒸發(fā)坩堝的材料是不銹鋼，鉬，鉭，鎢以及高溫 陶瓷中任選一種。一種可控制蒸發(fā)氣流分布和成分的真空蒸發(fā)系統(tǒng)，包括蒸發(fā)槍和裝有蒸發(fā)料的 儲料罐，其特征在于所述蒸發(fā)槍帶有上下錐面的噴口，且在噴口內(nèi)側(cè)安置一個移動的氣 流導向塞子，對準所述噴口的前方安置待蒸鍍的基板，該蒸發(fā)槍內(nèi)腔下部設(shè)有交錯擋 板，蒸發(fā)槍通過裝有送料閥門的管道連接所述儲料罐；蒸發(fā)槍外壁上裝有加熱線圈，管 道和儲料罐外壁上裝有加熱線圈。本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比較，具有如下顯而易見的突出實質(zhì)性特點和顯著優(yōu)點 1)由于本發(fā)明中的蒸發(fā)槍的噴口和導向塞具有定向和各方向的氣流的定向分配的功
能，使之到達一定距離的基板時的氣體流量正好是均勻的從而達到在指定的面積里是均 勻的，而且所有的氣流都集中在基板的有效面積內(nèi)。這樣既保證了蒸發(fā)到基板上的薄膜 厚度是均勻的，又大大的提高了有機蒸發(fā)料的利用率降低了成本。由于所有的蒸發(fā)料都 蒸發(fā)到基板上了，因此真空蒸發(fā)腔體內(nèi)其它部分不會被污染保證了真空蒸發(fā)腔體的潔凈 度。2)通過蒸發(fā)槍的噴口錐形與導向塞形狀的設(shè)計不僅可以實現(xiàn)大面積的蒸發(fā)均勻 性而且可以縮短蒸發(fā)的距離，從而可以大大縮小蒸發(fā)腔體的體積。3)通過定向蒸發(fā)能得到均勻的蒸發(fā)薄膜，因此基板以及與之相接觸的金屬掩膜 板都不需要轉(zhuǎn)動，這使得在蒸發(fā)系統(tǒng)的設(shè)計上可以得到簡化。4)由于此系統(tǒng)的蒸發(fā)槍與蒸發(fā)料的氣化是分開的，所以其氣流的方向可以向任 何方向既可以向上也可以向下或平射。這樣在蒸發(fā)系統(tǒng)設(shè)計時基板既可以在蒸發(fā)槍的上 面，以減少污染，也可以在蒸發(fā)槍的下面有利于基板和金屬掩膜板的緊密接觸，或者基 板可以是直立的形式有利于基板的移動。這給蒸鍍系統(tǒng)的設(shè)計帶來很多的靈活性。5)相比一般的點蒸發(fā)源或線蒸發(fā)源此系統(tǒng)的體積可以比較小，相對來說其發(fā) 熱面積可以比較小，蒸發(fā)的速率比較快，這樣可以降低基板的溫度，和縮短系統(tǒng)節(jié)拍時 間，這有助于提高OLED屏的性能和提高系統(tǒng)的生產(chǎn)效率。
6)由于所用的蒸發(fā)料是投料后一次性蒸發(fā)掉的，因此不像一般點蒸發(fā)源或線蒸 發(fā)源的蒸發(fā)料是總在高溫底下，在開始蒸發(fā)到蒸發(fā)完時的狀況會不同而造成成膜質(zhì)量的差異。7)由于可以通過蒸發(fā)料的投料的數(shù)量來控制基板上的成膜厚度，所以大大簡化 了膜厚的控制系統(tǒng)。而且在蒸發(fā)完成后，基板轉(zhuǎn)換和金屬掩膜板對位的時間可以不投料 這與一般的點蒸發(fā)源和線蒸發(fā)源相比可以節(jié)省很多的蒸發(fā)料。因為在一般的點蒸發(fā)源和 線蒸發(fā)源在蒸發(fā)時為了保證均勻的蒸發(fā)速度，在轉(zhuǎn)換基板和金屬掩膜板對位時蒸發(fā)源是 仍然在勻速蒸發(fā)狀態(tài)，只是用擋板把蒸發(fā)流擋住而已，這部分料是浪費的。8)由于所用的蒸發(fā)料是已經(jīng)經(jīng)過攙雜的，因此不需要多源蒸發(fā)，這給蒸發(fā)系 統(tǒng)的結(jié)構(gòu)設(shè)計可以簡化很多。也取消了調(diào)制不同蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率的時間，從而節(jié)約了 蒸發(fā)料和時間。


圖1是本發(fā)明中可控制蒸發(fā)氣流分布和成分的真空蒸發(fā)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖2是本發(fā)明中簡化的可控制蒸發(fā)氣流分布和成分的真空蒸發(fā)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意
圖3是本發(fā)明中在實施向上可控制蒸發(fā)氣流分布和成分的真空蒸發(fā)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示
意圖4是本發(fā)明中實施移向下可控制蒸發(fā)氣流分布和成分的真空蒸發(fā)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式本發(fā)明的優(yōu)選實施例結(jié)合附圖詳述如下
實施例1:參見圖1，本可控制蒸發(fā)氣流分布和成分的真空蒸發(fā)系統(tǒng)是由蒸發(fā)槍 (3)、高溫管道(4)、高溫蒸發(fā)坩堝(5)、送料閥門(8)和儲料罐(9)組成，所 述蒸發(fā)槍(3)帶有上下錐面的噴口(1)，且在噴口(1)內(nèi)側(cè)安置一個可移動的氣流 導向塞子(2)，對準所述的噴口(1)的前方安置待蒸鍍的基板(16)，蒸發(fā)槍(3) 通過所述加熱管道(4)或緩沖瓶與帶有交叉擋板(6)的高溫蒸發(fā)坩堝(5)相連，在 坩堝(5)的另一側(cè)通過裝有送料閥門(8)的管道(7)和儲料罐(9)相連。蒸發(fā)槍
(3)、加熱管道(4)、高溫蒸發(fā)坩堝(5)和管道(7)外壁上有加熱線圈(13)， 儲料罐(9)外壁上有加熱線圈(15)。過程是在儲料罐中的蒸發(fā)料(10)經(jīng)閥門把一 定量的蒸發(fā)料投入到高溫蒸發(fā)舟中，由于該舟的溫度多高于蒸發(fā)料的蒸發(fā)溫度因此該蒸 發(fā)料很快的被蒸發(fā)成氣體，該高溫氣體經(jīng)過高溫管道進入高溫的真空蒸發(fā)槍在噴口(1) 和可移動的氣流導向塞子的作用下形成中間弱周邊強的氣流使之達到基板時能獲得均勻 的蒸發(fā)薄膜。這里的儲料罐是由金屬如鋁、不銹鋼或者玻璃制成的容器其底部有一可打 開的加料和抽氣的孔儲料罐外有一組加熱線圈(15)，用作開始抽空時加熱去氣時用， 其加熱溫度由特定的溫度控制器進行程序控制。這里的送料器可以有多種結(jié)構(gòu)，隨蒸發(fā) 料的狀態(tài)而變，對粉末狀蒸發(fā)料可以是螺旋式送料機，履帶式運送機，對顆粒狀蒸發(fā)料 可用推拉式送料機或旋轉(zhuǎn)式送料機。送料機的材料可以是不銹鋼或者玻璃。這里的高溫蒸發(fā)舟是由不銹鋼、鉬、鉭等耐高溫材料制成，其形狀可以是錐形，平底形圓筒式的 結(jié)構(gòu)，為保證蒸發(fā)氣流中沒有小顆粒，在高溫蒸發(fā)舟中可采用裝有多層擋板的迷宮式結(jié) 構(gòu)。這里的高溫真空蒸發(fā)槍是本系統(tǒng)的核心。它是由耐高溫的材料如鉬、鉭、不銹鋼 等材料制成。噴口的上下都呈圓錐形或方錐形這樣的噴口本身就有發(fā)散的功能，在噴口 的下面還有一個氣體導向塞子(12)其形狀可以是球狀，橢球狀或者是錐形狀。它與噴 口形成空間成為導向通道使噴出的氣流呈余弦的倒數(shù)的分布。其形狀也可以通過流體力 學來進行設(shè)計和計算。該氣體導向塞子與噴口之間的距離可以由外面通過連在塞子上的 移動桿(11)的推拉來調(diào)節(jié)使在不同的氣流強度的情況下都能得到均勻的薄膜。而該移 動桿(11)還通過一波紋管(12)與槍體連接形成一密閉的空間使氣流只能通過噴口噴 出。系統(tǒng)里的蒸發(fā)槍(3)，高溫管道(4)，高溫蒸發(fā)舟(5)都由加熱裝置(13)經(jīng) 溫度控制器進行精確的溫度控制和加熱。加熱裝置的外面有絕熱保護層為了防止加熱裝 置的能量轉(zhuǎn)到基板上，在它的外面還有一個水冷卻套，以防止基板和蒸發(fā)掩膜被加熱。實施例2:參見圖2，本可控制蒸發(fā)氣流分布和成分的真空蒸發(fā)系統(tǒng)是實施例1 的簡化結(jié)構(gòu)，在本實施例中把整個系統(tǒng)簡化為由高溫真空蒸發(fā)槍(3)送料閥門(8)和 儲料罐(9)組成。這里的高溫真空蒸發(fā)槍(3)綜合了實施例1中的高溫真空蒸發(fā)槍
(3)、高溫管道(4)、高溫蒸發(fā)坩堝(5)的功能。在這里的真空蒸發(fā)槍既作為蒸發(fā) 槍又作為蒸發(fā)坩堝。該高溫真空蒸發(fā)槍它是由耐高溫的材料如鉬、鉭、不銹鋼等材料制 成。噴口的上下都呈錐形這樣的噴口本身就有發(fā)散的功能，在噴口的下面還有一個氣體 導向塞子(12)其形狀可以是球狀，橢球狀或者是錐形狀。它與噴口形成空間成為導向 通道使噴出的氣流呈余弦的倒數(shù)的分布。該真空蒸發(fā)槍的底部是錐形或球形可以作坩堝 用，里面還有多層當板(6)呈迷宮式結(jié)構(gòu)以防止顆粒蒸發(fā)到基板上。蒸發(fā)料(10)則 通過送料閥門(8)進入到高溫真空蒸發(fā)槍(3)中并快速的轉(zhuǎn)化為氣體經(jīng)噴口(1)與 氣體導向塞子(12)之間的空間形成定向的氣流由噴口(1)噴出。實施例3:參見圖3，本可控制蒸發(fā)氣流分布和成分的真空蒸發(fā)系統(tǒng)與實施例1 基本相同，本實施例與實施例1的不同是在整個系統(tǒng)中在高溫真空蒸發(fā)槍(3)的上面有 帶有透孔的掩膜板(17)和基板(16)。它展示了由于使用實施例1的高溫真空蒸發(fā)槍
(3)可以得到由高溫真空蒸發(fā)槍向上定向的對基板來說是均勻的真空蒸發(fā)氣流，在基板 是固定不動的情況下由于在高真空的情況下蒸發(fā)氣體的分子基本是直線運動的，因此即 使掩膜板與基板不是緊密接觸的情況下仍能得到較好的向上的掩膜投影效果。實施例4 參見圖4，本可控制蒸發(fā)氣流分布和成分的真空蒸發(fā)系統(tǒng)與實施例1 基本相同，本實施例與實施例3不同的是這里的高溫真空蒸發(fā)槍的方向向下轉(zhuǎn)動180度， 使蒸發(fā)氣流向下蒸發(fā)。這時的基板(16)是面向上的，在基板板的上面有一個帶有透孔 的掩膜板(17)。此結(jié)構(gòu)的優(yōu)點是整個基板和掩膜板可以放在平整的托板上，使基板和 掩膜板都保持高度的平整度。這一點對大面積的薄基板來說具有很大的優(yōu)越性。同時也 可以把高溫真空蒸發(fā)槍的方向轉(zhuǎn)到水平的方向，這時的基板可以呈垂直的方向。實施例5 參見圖1，本實施例與實施例1基本相同，特別之處如下所述蒸發(fā) 槍(3)的帶有上下錐面的噴口(1)截面形狀可根據(jù)基板(16)的形狀和蒸發(fā)氣流流量 的分布而做成方形、或長方形、或圓形，而其錐面的形狀是單錐形或雙錐形，是呈方錐 形、或長方錐形、或圓錐形、或曲面錐形形狀，上下錐面的形狀是對稱的或不對稱的。
所述噴口(1)內(nèi)側(cè)可移動的氣流導向塞子(2)的形狀是球狀、或橢球狀、 或錐狀、或帶曲面的園錐、或方形的錐體形狀；可移動的氣流導向塞子(2)與一相移 動桿(11)相連，該移動桿(11)伸出蒸發(fā)槍(3)的體外，一個波紋管(12) —端與 移動桿(11)固定連接，另一端與蒸發(fā)槍(3)殼體固定連接，使蒸發(fā)槍腔體形成一個 密封整體。通過驅(qū)動移動桿(11)移動氣流導向塞子(2)與圓口的距離可起到調(diào)節(jié)氣 流的分布，大小以及達到關(guān)閉的功能。所述蒸發(fā)料(10)是單一材料，或者是多種材料的混合材料，該混合材料是 機械混合料，或者是通過把攙雜料溶解在適當?shù)娜軇┲性偌尤氲交|(zhì)中微量雜質(zhì)。所述蒸發(fā)料(10)是粉末狀，或者是小球狀、粒狀、片狀的小丸。所述高溫蒸發(fā)坩堝(5)的坩堝底部呈錐狀或球狀。所述蒸發(fā)槍(3)、加熱管道(4)和高溫蒸發(fā)坩堝(5)的材料是不銹鋼， 鉬，鉭，鎢以及高溫陶瓷中任選一種。
權(quán)利要求
1.一種可控制蒸發(fā)氣流分布和成分的真空蒸發(fā)系統(tǒng)，包括蒸發(fā)槍(3)、高溫蒸發(fā)坩 堝(5)和裝有蒸發(fā)料(10)的儲料罐(9)，其特征在于所述蒸發(fā)槍(3)帶有一個上 下錐面的噴口(1)，且在噴口(1)內(nèi)側(cè)安置一個可移動的氣流導向塞子(2)，對準 所述的噴口(1)前方是待蒸鍍的基板(16)，該蒸發(fā)槍(3)通過一個加熱管道(4) 或緩沖瓶與帶有交叉擋板(6)的所述高溫蒸發(fā)坩堝(5)相連，在所述坩堝(5)的另 一側(cè)通過一個裝有送料閥門(8)的管道(7)與所述儲料罐(9)相連；所述蒸發(fā)槍(3)、加熱管道(4)、高溫蒸發(fā)坩堝(5)和管道(7)外壁上都有加熱線圈(13)， 在儲料罐(9)外壁上亦有加熱線圈(15)；通過送料閥門(8)和管道(7)把儲料罐 (9)中的蒸發(fā)料(10)投放到高溫蒸發(fā)坩堝(5)中成為進行蒸發(fā)的蒸發(fā)料(14)瞬 間變成蒸發(fā)氣體而輸送至蒸發(fā)槍(3)，通過改變氣流導向塞子(2)與噴口(1)的相 對位置可控制蒸發(fā)氣體的大小和方向，蒸發(fā)到基板(16)上形成設(shè)定面積、均勻的、多 組分的蒸發(fā)薄膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可控制蒸發(fā)氣流分布和成分的真空蒸發(fā)系統(tǒng)，其特征在于所 述蒸發(fā)槍(3)的帶有上下錐面的噴口(1)截面形狀可根據(jù)基板(16)的形狀和蒸發(fā)氣 流流量的分布而做成方形、或長方形、或圓形，而其錐面的形狀是單錐形或雙錐形，是 呈方錐形、或長方錐形、或圓錐形、或曲面錐形形狀，上下錐面的形狀是對稱的或不對 稱的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可控制蒸發(fā)氣流分布和成分的真空蒸發(fā)系統(tǒng)，其特征在于所 述噴口(1)內(nèi)側(cè)可移動的氣流導向塞子(2)的形狀是球狀、或橢球狀、或錐狀、或帶 曲面的園錐、或方形的錐體形狀；可移動的氣流導向塞子(2)與一相移動桿(11)相 連，該移動桿(11)伸出蒸發(fā)槍(3)的體外，一個波紋管(12) —端與移動桿(11) 固定連接，另一端與蒸發(fā)槍(3)殼體固定連接，使蒸發(fā)槍腔體形成一個密封整體；通 過驅(qū)動移動桿(11)移動氣流導向塞子(2)與圓口的距離可起到調(diào)節(jié)氣流的分布，大 小以及達到關(guān)閉的功能。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可控制蒸發(fā)氣流分布和成分的真空蒸發(fā)系統(tǒng)，其特征在于所 述蒸發(fā)料(10)是單一材料，或者是多種材料的混合材料，該混合材料是機械混合料， 或者是通過把攙雜料溶解在適當?shù)娜軇┲性偌尤氲交|(zhì)中微量雜質(zhì)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可控制蒸發(fā)氣流分布和成分的真空蒸發(fā)系統(tǒng)，其特征在于所 述蒸發(fā)料(10)是粉末狀，或者是小球狀、粒狀、片狀的小丸、或者是把蒸發(fā)料包封在 帶小孔的金屬容器中形成蒸發(fā)小球。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可控制蒸發(fā)氣流分布和成分的真空蒸發(fā)系統(tǒng)，其特征在于所 述高溫蒸發(fā)坩堝(5)的坩堝底部呈錐狀或球狀。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可控制蒸發(fā)氣流分布和成分的真空蒸發(fā)系統(tǒng)，其特征在于所 述蒸發(fā)槍(3)、加熱管道(4)和高溫蒸發(fā)坩堝(5)的材料是不銹鋼，鉬，鉭，鎢以 及高溫陶瓷中任選一種。
8.—種可控制蒸發(fā)氣流分布和成分的真空蒸發(fā)系統(tǒng)，包括蒸發(fā)槍(3)和裝有蒸發(fā) 料(10)的儲料罐(9)，其特征在于所述蒸發(fā)槍(3)帶有上下錐面的噴口(1)，且 在噴口內(nèi)側(cè)安置一個移動的氣流導向塞子(2)，對準所述噴口(1)的前方安置待蒸鍍 的基板(16)，該蒸發(fā)槍(3)內(nèi)腔下部設(shè)有交錯擋板(16)，蒸發(fā)槍(3)通過裝有送料閥門(8)的管道(7)連接所述儲料罐(9)；蒸發(fā)槍(3)外壁上裝有加熱線圈 (13)，管道(7)和儲料罐(9)外壁上裝有加熱線圈(15)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可控制蒸發(fā)氣流分布和成分的真空蒸發(fā)系統(tǒng)，其特征在于所 述加熱線圈(13)外面有絕熱保護層，在它的外面還有一個水冷卻套。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種可控制蒸發(fā)氣流分布和成分的真空蒸發(fā)系統(tǒng)。他包括蒸發(fā)槍、高溫蒸發(fā)坩堝和裝有蒸發(fā)料的儲料罐，所述蒸發(fā)槍帶有一個上下錐面的噴口，且在噴口內(nèi)側(cè)安置一個可移動的氣流導向塞子，對準所述的噴口前方是待蒸鍍的基板，該蒸發(fā)槍通過一個加熱管道或緩沖瓶與帶有交叉擋板的所述高溫蒸發(fā)坩堝相連，在所述坩堝的另一側(cè)通過一個裝有送料閥門的管道與所述儲料罐相連；所述蒸發(fā)槍、加熱管道、高溫蒸發(fā)坩堝和管道外壁上都有加熱線圈，在儲料罐外壁上亦有加熱線圈；通過送料閥門和管道把儲料罐中的蒸發(fā)料投放到高溫蒸發(fā)坩堝中成為進行蒸發(fā)的蒸發(fā)料瞬間變成蒸發(fā)氣體而輸送至蒸發(fā)槍，通過改變氣流導向塞子與噴口的相對位置可控制蒸發(fā)氣體的大小和方向，蒸發(fā)到基板上形成設(shè)定面積、均勻的、多組分的蒸發(fā)薄膜。本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單，可提高有機蒸發(fā)料的利用率，提高生產(chǎn)率。
文檔編號C23C14/12GK102011096SQ20101061108
公開日2011年4月13日 申請日期2010年12月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月29日
發(fā)明者張建華, 張志林, 蔣雪茵 申請人:上海大學