專利名稱：殼體及其制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種殼體及其制作方法，尤其涉及一種具有藍(lán)色外觀的殼體及其制作方法。
背景技術(shù)：
為了使電子裝置的外殼具有豐富色彩，目前主要通過陽極氧化、烤漆、烤瓷等工藝制備裝飾涂層。相比這些傳統(tǒng)工藝，PVD鍍膜技更加綠色環(huán)保，且采用PVD鍍膜技術(shù)可在產(chǎn)品外殼表面形成具有金屬質(zhì)感的裝飾色彩層。然而現(xiàn)有技術(shù)中，利用PVD鍍膜技術(shù)于殼體表面形成的膜層的色彩非常有限，目前能夠廣泛制備和使用的PVD膜層主要為金黃色、黑色、藍(lán)色等色系，能夠穩(wěn)定生產(chǎn)的顏色更是少之又少。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明提供一種能夠穩(wěn)定生產(chǎn)的藍(lán)色的PVD鍍膜的殼體。另外，本發(fā)明還提供一種上述殼體的制作方法。一種殼體，其包括基體及形成于基體表面的色彩層，該色彩層為氧化亞錫層，該色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的I；坐標(biāo)介于40至50之間，a*坐標(biāo)介于-25 至-15之間，b*坐標(biāo)介于-45至-35之間。一種殼體的制作方法，其包括如下步驟提供一基體；在該基體的表面形成一色彩層，該色彩層為氧化亞錫層，形成所述色彩層采用磁控濺射法，以錫靶為靶材，以氧氣為反應(yīng)氣體，控制氧氣的流量為50 150sCCm，濺射的溫度為50 100°C ；所述色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于40至50 之間，a*坐標(biāo)介于-25至-15之間，b*坐標(biāo)介于-45至-35之間。相較于現(xiàn)有技術(shù)，所述殼體的制備方法在形成色彩層時，通過對靶材的選取、反應(yīng)氣體氧氣流量的設(shè)計和對濺射溫度的控制，從而達(dá)到使色彩層呈現(xiàn)藍(lán)色的目的。以該方法所制得的殼體可呈現(xiàn)出具有吸引力的藍(lán)色的外觀，豐富了真空鍍膜層的顏色，極大地提高了產(chǎn)品的外觀競爭力。


圖1是本發(fā)明一較佳實施例殼體的剖視圖。主要元件符號說明殼體10基體 11色彩層 1具體實施例方式請參閱圖1，本發(fā)明一較佳實施例的殼體10包括基體11及形成于基體11表面的色彩層13?；w11可為金屬、玻璃或陶瓷。色彩層13可以磁控濺射的方式形成于基體11的表面。該色彩層13為氧化亞錫 (SnO)層。該色彩層13的厚度可為200 400nm。該色彩層13由肉眼直觀呈現(xiàn)藍(lán)色，而其呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于40至50之間，a*坐標(biāo)介于-25至-15 之間，b*坐標(biāo)介于-45至-35之間。本發(fā)明殼體10的制作方法包括以下步驟提供一基體11。該基體11可為金屬、玻璃或陶瓷。將基體11放入無水乙醇中進(jìn)行超聲波清洗并烘干備用。在基體11的表面形成一色彩層13。該色彩層13為氧化亞錫層。該色彩層13采用磁控濺射的方式形成。形成該色彩層13的具體操作方法可為將基體11固定于一磁控濺射鍍膜機(jī)(圖未示)的轉(zhuǎn)架上，設(shè)置轉(zhuǎn)架的公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速為3rpm(轉(zhuǎn)/分鐘)，抽真空使該鍍膜機(jī)的腔體的真空度為3X10_5Pa，加熱該腔體使溫度為50 100°C ；以錫靶為靶材，開啟錫靶，設(shè)定錫靶的功率為8 12kw，設(shè)定施加于基體11的偏壓為-250 -500V，占空比為 50 100% ；通入反應(yīng)氣體氧氣，氧氣的流量可為50 150sCCm(標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)毫升/分鐘)； 通入工作氣體氬氣，氬氣的流量可為100 300SCCm，沉積所述色彩層13，沉積所述色彩層 13的時間可為20 40min。所述色彩層13的厚度可為200 400nm。該色彩層13于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于40至50之間，a*坐標(biāo)介于-25 至-15之間，b*坐標(biāo)介于-45至-35之間。本發(fā)明殼體10可為筆記型計算機(jī)、個人數(shù)字助理等電子裝置的殼體，或為其他裝飾類產(chǎn)品的殼體。相較于現(xiàn)有技術(shù)，所述殼體10的制備方法在形成色彩層13時，通過對靶材的選取、反應(yīng)氣體氧氣流量的設(shè)計和對濺射溫度的控制，從而達(dá)到使色彩層13呈現(xiàn)藍(lán)色的目的。以該方法所制得的殼體10呈現(xiàn)出具有吸引力的藍(lán)色的外觀，豐富了真空鍍膜層的顏色，極大地提高了產(chǎn)品的外觀競爭力。
權(quán)利要求
1.一種殼體，其包括基體及形成于基體表面的色彩層，其特征在于該色彩層為氧化亞錫層，該色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的I；坐標(biāo)介于40至50之間，a*坐標(biāo)介于-25至-15之間，b*坐標(biāo)介于-45至-35之間。
2.如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于所述色彩層的厚度為200 400nm。
3.如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于所述色彩層呈現(xiàn)藍(lán)色。
4.如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于所述基體為金屬、玻璃或陶瓷。
5.一種殼體的制作方法，其包括如下步驟提供一基體；在該基體的表面形成一色彩層，該色彩層為氧化亞錫層，形成所述色彩層采用磁控濺射法，以錫靶為靶材，以氧氣為反應(yīng)氣體，控制氧氣的流量為50 150sCCm，濺射的溫度為 50 100°C;所述色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于40至50之間， a*坐標(biāo)介于-25至-15之間，b*坐標(biāo)介于-45至_；35之間。
6.如權(quán)利要求5所述的殼體的制作方法，其特征在于形成該色彩層的工藝參數(shù)為 真空度為3X10_5Pa，錫靶的功率為8 12kw，以氬氣為工作氣體，氬氣的流量為100 300sccm，施加于基體的偏壓為-250 -500V，占空比為50 100%，鍍膜時間為20 40mino
7.如權(quán)利要求5所述的殼體的制作方法，其特征在于該基體為金屬、玻璃或陶瓷。
8.如權(quán)利要求5所述的殼體的制作方法，其特征在于該色彩層的厚度為200 400nmo
全文摘要
本發(fā)明提供一種具有藍(lán)色外觀的殼體，其包括基體及形成于基體表面的色彩層，該色彩層為氧化亞錫層，該色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于40至50之間，a*坐標(biāo)介于-25至-15之間，b*坐標(biāo)介于-45至-35之間。本發(fā)明還提供一種上述殼體的制作方法。該色彩層可使殼體呈現(xiàn)出藍(lán)色。
文檔編號C23C14/35GK102477533SQ20101056102
公開日2012年5月30日 申請日期2010年11月26日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月26日
發(fā)明者張新倍, 李光輝, 蔣煥梧, 陳文榮, 陳正士 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司