專(zhuān)利名稱(chēng)：研磨裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于研磨例如晶圓等工件的研磨裝置。
背景技術(shù)：
已知用于研磨例如半導(dǎo)體晶圓等工件的單面研磨裝置。在該單面研磨裝置中，由 研磨頭保持的工件被壓到研磨板的貼設(shè)有研磨布的研磨面上，并且研磨板相對(duì)于研磨頭相 對(duì)移動(dòng)，以便研磨工件的表面。在日本特開(kāi)2000-317819號(hào)公報(bào)中公開(kāi)了傳統(tǒng)的單面研磨裝置。該單面研磨裝置 具有用于保持晶圓的研磨頭，晶圓被壓到貼設(shè)于轉(zhuǎn)動(dòng)研磨板的研磨墊(研磨布)上，以便研 磨晶圓的表面。研磨頭包括主體部，其與研磨板面對(duì)并且能夠轉(zhuǎn)動(dòng)；承載件，其被松裝配 于研磨頭并且能夠在上下方向上移動(dòng)；保持環(huán)，其包圍晶圓并且與晶圓一起與研磨墊接觸。 由0型環(huán)將保持環(huán)安裝到承載件，在承載件的下表面設(shè)置空氣噴出構(gòu)件，保護(hù)片覆蓋空氣 噴出構(gòu)件的外表面，由從空氣噴出構(gòu)件噴出的空氣(空氣層)將晶圓與保護(hù)片一起壓到研 磨墊上。在日本特開(kāi)2000-317819號(hào)公報(bào)所公開(kāi)的研磨裝置中，在空氣噴出構(gòu)件與保護(hù)片 之間形成空氣層，并且由該空氣層將晶圓和保護(hù)片一起壓到研磨墊(研磨布)上。利用該 結(jié)構(gòu)，即使在研磨布的表面存在凹凸，空氣層也將晶圓與保護(hù)片一起按壓。因此，晶圓能夠 跟隨凹凸移動(dòng)，從而能夠以高研磨精度研磨晶圓并且可以由保護(hù)片防止晶圓被損壞。然而，在日本特開(kāi)2000-317819號(hào)公報(bào)所公開(kāi)的研磨裝置中，在保持環(huán)與承載件 之間設(shè)置0型環(huán)，因此，承載件和被固定到該承載件的空氣噴出構(gòu)件幾乎不能在水平方向 上移動(dòng)。即，承載件和空氣噴出構(gòu)件僅可以在保持水平狀態(tài)的情況下在上下方向上移動(dòng)。當(dāng) 晶圓跟隨研磨布的凹凸移動(dòng)時(shí)，晶圓有時(shí)相對(duì)于總是保持水平狀態(tài)的空氣噴出構(gòu)件傾斜。 從空氣噴出構(gòu)件向下噴出空氣。如果晶圓相對(duì)于水平面傾斜，則晶圓與空氣噴出構(gòu)件之間 的距離不均勻，因此，施加到晶圓的壓力必定不均勻，并且不能均勻地研磨晶圓。目前，晶圓的尺寸越來(lái)越大。因此，即使該不均勻很微小，也將極大地影響研磨精 度。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的一個(gè)方面的目的是提供一種能夠極大地提高研磨精度的研磨裝置。為了實(shí)現(xiàn)該目的，本發(fā)明的用于研磨工件的表面的研磨裝置包括研磨板，其具有表面，所述表面貼設(shè)有研磨布；研磨頭，其用于將所述工件壓到所述研磨布上；和驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其用于使所述研磨頭相對(duì)于所述研磨板相對(duì)移動(dòng)，其中，所述研磨頭包括主體部；
盤(pán)狀構(gòu)件，其具有開(kāi)口端向下的凹部，所述盤(pán)狀構(gòu)件被懸掛于所述主體部并且在 上下方向上可動(dòng)；承載件，其位于所述盤(pán)狀構(gòu)件的所述凹部中，在所述承載件的外周面與所述凹部 的側(cè)壁之間形成規(guī)定間隙的狀態(tài)下，所述承載件被所述盤(pán)狀構(gòu)件以所述承載件能相對(duì)于水 平面傾斜的方式支撐，所述承載件具有流體供給構(gòu)件，所述流體供給構(gòu)件具有用于向下噴 出流體的多個(gè)噴出口；流體供給部件，其用于向所述承載件供給流體以從所述流體供給構(gòu)件向下噴出流 體；彈性片，其被設(shè)置于所述盤(pán)狀構(gòu)件并且覆蓋所述流體供給構(gòu)件的下側(cè)，以形成第 一流體室，所述彈性片能夠在其下表面保持所述工件；環(huán)狀構(gòu)件，其被設(shè)置于所述彈性片的下表面的外緣部，所述環(huán)狀構(gòu)件能夠包圍被 保持在所述彈性片的下表面的所述工件；第一加壓部件，其用于向下壓所述盤(pán)狀構(gòu)件，以經(jīng)由所述彈性片將所述環(huán)狀構(gòu)件 壓到所述研磨布；第二加壓部件，其用于向下壓所述承載件；和 流體出口，其用于從所述第一流體室排出流體，所述流體出口被形成在所述盤(pán)狀 構(gòu)件的比所述流體供給構(gòu)件的下表面高的位置，其中，借助于由所述第二加壓部件產(chǎn)生并且被施加到所述承載件的壓力和所述第 一流體室的由供給到所述第一流體室的流體產(chǎn)生的內(nèi)壓，經(jīng)由所述彈性片將所述工件壓到 所述研磨布，以研磨所述工件，已經(jīng)被向下供給到所述第一流體室中的流體在所述第一流體室中水平向外流動(dòng)， 與所述凹部的側(cè)壁碰撞而向上流動(dòng)，然后所述流體從所述流體出口向外排出，由此，所述流 體供給構(gòu)件跟隨所述彈性片的運(yùn)動(dòng)并且保持與所述彈性片平行，所述流體供給構(gòu)件在所述 第一流體室中被定心。通過(guò)采用本發(fā)明的研磨裝置，可以以高研磨精度地均勻地研磨工件。


現(xiàn)在將參照附圖借助于示例來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式，其中圖1是研磨裝置的實(shí)施方式的示意性說(shuō)明圖；圖2是研磨頭的示意性剖視圖；圖3是示出工件的傾斜的說(shuō)明圖；圖4是另一研磨頭的示意性剖視圖。
具體實(shí)施例方式現(xiàn)在將參照附圖詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式。圖1是本實(shí)施方式的研磨裝置的示意性說(shuō)明圖。研磨裝置10包括研磨板12，其具有上表面，所述上表面貼設(shè)有用于研磨工件 W(參見(jiàn)圖2)的研磨布11 ；研磨頭14，其用于在下表面保持工件W并且將工件W壓到研磨 布11上；驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其用于使研磨頭14相對(duì)于研磨板12相對(duì)移動(dòng)。
驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)由第一轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)單元(未示出)和第二轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)單元(未示出)構(gòu)成， 其中，第一轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)單元用于使研磨板12繞轉(zhuǎn)軸15轉(zhuǎn)動(dòng)，第二轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)單元用于使研磨頭 14繞轉(zhuǎn)軸16轉(zhuǎn)動(dòng)。此外，研磨頭14具有上下驅(qū)動(dòng)單元(未示出)和水平驅(qū)動(dòng)單元(未示 出)，研磨頭14在其下表面保持工件W并且將工件W壓到研磨布11。在將工件W壓到研磨 布11的同時(shí)，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使研磨板12和研磨頭14相對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng)，從而研磨工件W的下表面。研 磨劑供給噴嘴18向貼設(shè)于研磨板12的研磨布11供給研磨劑。圖2是研磨頭14的示意性剖視圖。主體部20具有側(cè)壁20a和開(kāi)口端向下的凹部。盤(pán)狀構(gòu)件(board-shaped member) 22具有側(cè)壁22a和開(kāi)口端向下的凹部23。盤(pán)狀 構(gòu)件22被具有足夠彈性的環(huán)狀橡膠隔板24 (diaphragm)懸掛于主體部20，并且在上下方向 上可動(dòng)。側(cè)壁20a用作盤(pán)狀構(gòu)件22上下移動(dòng)用的引導(dǎo)件。通過(guò)隔板24在盤(pán)狀構(gòu)件22與主體部20之間形成第三流體室25。空氣經(jīng)由形成在 研磨頭14的轉(zhuǎn)軸16(圖2中未示出)中的流路26被從例如空氣壓縮機(jī)等壓縮空氣源(未 示出)供給到第三流體室25。由轉(zhuǎn)動(dòng)接頭(未示出)將流路26與壓縮空氣源相連。流路 26、壓縮空氣源等構(gòu)成第三流體供給部件。此外，第三流體室25、第三流體供給部件等構(gòu)成第一加壓部件。承載件28位于盤(pán)狀構(gòu)件22的凹部23中，并且在承載件28的外周面與凹部23的 側(cè)壁22a的內(nèi)側(cè)面之間形成規(guī)定間隙的狀態(tài)下，承載件28被隔板29以承載件28能夠相對(duì) 于水平面傾斜的方式支撐。通過(guò)隔板29在承載件28與盤(pán)狀構(gòu)件22之間形成第二流體室34?？諝饨?jīng)由形成 在研磨頭14的轉(zhuǎn)軸16(圖2中未示出)中的流路35被從壓縮空氣源(未示出)供給到第 二流體室34。由轉(zhuǎn)動(dòng)接頭(未示出)將流路35與壓縮空氣源相連。流路35、壓縮空氣源 等構(gòu)成第二流體供給部件。此外，第二流體室34、第二流體供給部件等構(gòu)成第二加壓部件。在承載件28中形成空氣存儲(chǔ)器30。流體供給構(gòu)件31被固定到承載件28并且覆蓋 空氣存儲(chǔ)器30的下側(cè)。在流體供給構(gòu)件31中形成能夠向下噴出空氣的多個(gè)噴出口?？諝?經(jīng)由形成在研磨頭14的轉(zhuǎn)軸16 (圖2中未示出)中的流路37被從壓縮空氣源(未示出) 供給到空氣存儲(chǔ)器30。由轉(zhuǎn)動(dòng)接頭(未示出)將流路37與壓縮空氣源相連。流路37、壓 縮空氣源等構(gòu)成第一流體供給部件。彈性片36覆蓋流體供給構(gòu)件31的下側(cè)，并且由適當(dāng)部件(未示出)將彈性片36 的外邊緣氣密地固定到盤(pán)狀構(gòu)件22的側(cè)壁22a的下端。利用該結(jié)構(gòu)，在流體供給構(gòu)件31 的下方形成第一流體室38。彈性片36是由片狀構(gòu)件39和保持構(gòu)件40構(gòu)成的兩層片，其中，片狀構(gòu)件39由橡 膠構(gòu)成并且具有足夠的彈性，保持構(gòu)件40被設(shè)置在片狀構(gòu)件39的下方并且具有用于通過(guò) 晶圓的表面張力保持工件W的多個(gè)孔。由塑料構(gòu)成并且包圍被保持于彈性片36的下表面的工件W的環(huán)狀構(gòu)件42被安裝 到彈性片36的下邊緣。在研磨工件W時(shí)，空氣被供給到第三流體室25以向下壓盤(pán)狀構(gòu)件22，并且利用彈 性片36將環(huán)狀構(gòu)件42壓到研磨布11上。通過(guò)將工件W的外邊緣附近的研磨布11向下壓到與工件W的下表面齊平的程度，可以防止工件W的外邊緣的過(guò)度研磨。在盤(pán)狀構(gòu)件22中，在比流體供給構(gòu)件31的下表面高的位置形成用于從第一流體 室38排出流體的多個(gè)流體出口 44。流體出口 44被等角度地配置。在本實(shí)施方式中，排出管45分別被連接到流體出口 44，并且排出管45被連接到收 集管46。安全閥47被設(shè)置到收集管46。安全閥47將第一流體室38的內(nèi)壓保持在規(guī)定壓 力。當(dāng)?shù)谝涣黧w室38的內(nèi)壓高于規(guī)定壓力時(shí)，安全閥47從第一流體室38排出空氣。注意，流體出口 44的數(shù)量可以是一個(gè)。排出管45經(jīng)由形成于側(cè)壁20a的大通孔延伸到主體部20的外部。由安全閥47排出的空氣可以被收集并被導(dǎo)入到壓縮空氣源(未示出)，以被再利 用。利用該結(jié)構(gòu)，可以減少裝置的運(yùn)行成本并且該裝置對(duì)環(huán)境更有利。注意，可以省略排出管45和安全閥47。此外，可以從流體出口 44直接排出流體。本實(shí)施方式的研磨裝置具有上述結(jié)構(gòu)。接著，將說(shuō)明研磨裝置的研磨方法。如上所述，在研磨工件W時(shí)，空氣被供給到第三流體室25以按壓盤(pán)狀構(gòu)件22 (由 第一加壓部件進(jìn)行按壓動(dòng)作)，并且由盤(pán)狀構(gòu)件22的側(cè)壁22a和彈性片36將環(huán)狀構(gòu)件42 壓到研磨布11，從而能夠防止工件W的外邊緣的過(guò)度研磨?？諝獗还┙o到第二流體室34以向下壓承載件28。此外，空氣被供給到第一流體室 38以按壓彈性片36。因此，由第二流體室34 (第二加壓部件)施加的用于按壓承載件28的壓力和被供 給到第一流體室38的空氣的內(nèi)壓被經(jīng)由彈性片36施加到工件W，從而將工件W壓到研磨布 11上并且在研磨布11上研磨工件W。注意，被供給到第一流體室38中的空氣總是從流體出口 44向外排出。規(guī)定空氣 層必須總是形成在第一流體室38中。從而，第一流體室38的內(nèi)壓和第二流體室34的內(nèi)壓 被適當(dāng)?shù)卦O(shè)定成不會(huì)由于第二流體室34的內(nèi)壓而破壞第一流體室38中的空氣層。通過(guò)設(shè) 置安全閥47，可以容易地控制第一流體室38的內(nèi)壓。在研磨工件W時(shí)，已經(jīng)被向下供給到第一流體室38中的空氣在第一流體室38中 水平地向外流動(dòng)，與盤(pán)狀構(gòu)件22的凹部23的側(cè)壁22a的內(nèi)側(cè)面碰撞并且向上流動(dòng)，然后， 空氣從流體出口 44向外排出。流體出口 44位于比流體供給構(gòu)件31的下表面充分高的位 置。由于空氣在第一流體室38中水平地向外流動(dòng)，并且與盤(pán)狀構(gòu)件22的凹部23的側(cè)壁 22a的內(nèi)側(cè)面碰撞且向上流動(dòng)，因此，由通過(guò)空氣與環(huán)狀側(cè)壁22a碰撞而產(chǎn)生的反作用力對(duì) 承載件28 (流體供給構(gòu)件31)進(jìn)行定心。如上所述，承載件28 (流體供給構(gòu)件31)浮動(dòng)，并且承載件28不直接作用在工件W 上。因此，即使在研磨布11的表面上存在漩渦(gurge)狀凹凸，晶圓也能夠跟隨研磨布11 的表面上的凹凸移動(dòng)。在本實(shí)施方式中，在承載件28的外周面與凹部23的側(cè)壁22a的內(nèi)側(cè)面之間形成 規(guī)定間隙的狀態(tài)下，承載件28 (流體供給構(gòu)件31)被盤(pán)狀構(gòu)件22支撐并且能夠相對(duì)于水平 面傾斜。在研磨布11的表面水平的狀態(tài)下，承載件28 (流體供給構(gòu)件31)也是水平的。如 果在研磨布11的表面中存在凹凸，則工件W相對(duì)于水平的承載件28(流體供給構(gòu)件31)傾 斜，如圖3所示。注意，在圖3中夸大了工件W的傾斜。在日本特開(kāi)2000-317819號(hào)公報(bào)所公開(kāi)的傳統(tǒng)研磨裝置中，維持承載件的水平狀態(tài)，因此，承載件(流體供給構(gòu)件)與工件之 間的距離是變化的，因此，不能均勻地壓工件，并且不能均勻地研磨工件。另一方面，在本實(shí)施方式中，承載件28 (流體供給構(gòu)件31)可相對(duì)于盤(pán)狀構(gòu)件22 傾斜。如圖3所示，當(dāng)工件W傾斜并且承載件28(流體供給構(gòu)件31)與工件W之間的距離變 化時(shí)，從工件W的部分X施加到承載件28 (流體供給構(gòu)件31)的壓力(反作用力)較大，在 該部分X處，承載件28與工件W之間的距離較短；另一方面，從工件W的部分Y施加到承載 件28 (流體供給構(gòu)件31)的壓力(反作用力)較小，在該部分Y處，承載件28與工件W之 間的距離較長(zhǎng)。由于工件W接觸研磨布11，因此，承載件28(流體供給構(gòu)件31)的與工件W 的部分X對(duì)應(yīng)且被施加較大壓力(反作用力)的一部分移動(dòng)遠(yuǎn)離工件W;承載件28(流體供 給構(gòu)件31)的與工件W的部分Y對(duì)應(yīng)且被施加較小壓力(反作用力)的另一部分移動(dòng)靠近 工件W。利用該動(dòng)作，使承載件28 (流體供給構(gòu)件31)傾斜并且使其與工件W平行。因此， 使承載件28 (流體供給構(gòu)件31)與工件W之間的距離恒定，從而可以向工件W均勻地施加 壓力，并且可以均勻地研磨工件W。如上所述，空氣壓力被施加到承載件28 (流體供給構(gòu)件31)以對(duì)承載件28 (流體 供給構(gòu)件31)進(jìn)行定心。即使承載件28 (流體供給構(gòu)件31)傾斜并且從盤(pán)狀構(gòu)件22的中 心移位，承載件28 (流體供給構(gòu)件31)也總是被朝向盤(pán)狀構(gòu)件22的中心偏壓。在本實(shí)施方式中，承載件28具有上述浮動(dòng)結(jié)構(gòu)，在研磨操作時(shí)，工件W不施加負(fù) 荷。因此，用于懸掛承載件28的隔板29不必具有較高的剛性，因此，可以容易地傾斜懸掛 承載件28。圖4是另一研磨頭14的示意性剖視圖。注意，圖2所示的結(jié)構(gòu)元件用相同的附圖 標(biāo)記表示，并且將省略其說(shuō)明。在本實(shí)施方式中，承載件28的空氣存儲(chǔ)器被劃分成多個(gè)存儲(chǔ)器，例如中心空氣存 儲(chǔ)器30a和外側(cè)空氣存儲(chǔ)器30b。流體供給部件50a和50b分別將空氣供給到空氣存儲(chǔ)器 30a和30b。流量控制器52被設(shè)置到流體供給部件50a以控制供給到空氣存儲(chǔ)器30a的空 氣的流量。另一流量控制器(未示出)可以被設(shè)置到流體供給部件50b。注意，可以采用一 個(gè)或多個(gè)壓力控制器來(lái)代替一個(gè)或者多個(gè)流量控制器。在本實(shí)施方式中，可以控制施加到工件W的中心區(qū)域和外側(cè)區(qū)域的壓力。即，可以 精確地控制研磨條件。注意，工件W可以劃分成彼此同心的三個(gè)以上的區(qū)域，并且可以分別控制這些區(qū) 域中的壓力。在上述的各實(shí)施方式中，流體是空氣。流體可以是液體。此外，第一加壓部件(第 三流體室25等)和第二加壓部件(第二流體室34等)可以是例如彈簧、螺桿機(jī)構(gòu)等機(jī)械 部件。這里提及的所有示例和條件性文字都是為了教示的目的，以幫助讀者理解發(fā)明者 作出的對(duì)現(xiàn)有技術(shù)進(jìn)行改進(jìn)的發(fā)明和構(gòu)思，并且本發(fā)明應(yīng)該被理解為不限于具體提及的示 例和條件，說(shuō)明書(shū)中的這些示例的組織也不是本發(fā)明的優(yōu)劣性的展示。雖然已經(jīng)詳細(xì)說(shuō)明 了本發(fā)明的實(shí)施方式，但應(yīng)該理解，在不背離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，可以對(duì)本發(fā)明 進(jìn)行各種修改、置換和替換。
權(quán)利要求
1. 一種研磨裝置，其用于研磨工件的表面，所述研磨裝置包括 研磨板，其具有表面，所述表面貼設(shè)有研磨布；研磨頭，其用于將所述工件壓到所述研磨布上；和 驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其用于使所述研磨頭相對(duì)于所述研磨板相對(duì)移動(dòng)， 其中，所述研磨頭包括 主體部；盤(pán)狀構(gòu)件，其具有開(kāi)口端向下的凹部，所述盤(pán)狀構(gòu)件被懸掛于所述主體部并且在上下 方向上可動(dòng)；承載件，其位于所述盤(pán)狀構(gòu)件的所述凹部中，在所述承載件的外周面與所述凹部的側(cè) 壁之間形成規(guī)定間隙的狀態(tài)下，所述承載件被所述盤(pán)狀構(gòu)件以所述承載件能相對(duì)于水平面 傾斜的方式支撐，所述承載件具有流體供給構(gòu)件，所述流體供給構(gòu)件具有用于向下噴出流 體的多個(gè)噴出口 ；流體供給部件，其用于向所述承載件供給流體以從所述流體供給構(gòu)件向下噴出流體； 彈性片，其被設(shè)置于所述盤(pán)狀構(gòu)件并且覆蓋所述流體供給構(gòu)件的下側(cè)，以形成第一流 體室，所述彈性片能夠在其下表面保持所述工件；環(huán)狀構(gòu)件，其被設(shè)置于所述彈性片的下表面的外緣部，所述環(huán)狀構(gòu)件能夠包圍被保持 在所述彈性片的下表面的所述工件；第一加壓部件，其用于向下壓所述盤(pán)狀構(gòu)件，以經(jīng)由所述彈性片將所述環(huán)狀構(gòu)件壓到 所述研磨布；第二加壓部件，其用于向下壓所述承載件；和流體出口，其用于從所述第一流體室排出流體，所述流體出口被形成在所述盤(pán)狀構(gòu)件 的比所述流體供給構(gòu)件的下表面高的位置，其中，借助于由所述第二加壓部件產(chǎn)生并且被施加到所述承載件的壓力和所述第一流 體室的由供給到所述第一流體室的流體產(chǎn)生的內(nèi)壓，經(jīng)由所述彈性片將所述工件壓到所述 研磨布，以研磨所述工件，已經(jīng)被向下供給到所述第一流體室中的流體在所述第一流體室中水平向外流動(dòng)，與所 述凹部的側(cè)壁碰撞而向上流動(dòng)，然后所述流體從所述流體出口向外排出，由此，所述流體供 給構(gòu)件跟隨所述彈性片的運(yùn)動(dòng)并且保持與所述彈性片平行，所述流體供給構(gòu)件在所述第一 流體室中被定心。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨裝置，其特征在于，在所述承載件的外周面與所述凹部的側(cè)壁之間形成規(guī)定間隙的狀態(tài)下，利用第一隔板 由所述盤(pán)狀構(gòu)件以所述承載件能夠傾斜的方式支撐所述承載件， 所述第二加壓部件包括第二流體室，其通過(guò)所述第一隔板形成在所述承載件與所述盤(pán)狀構(gòu)件之間；和 第二流體供給部件，其用于向所述第二流體室供給流體。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨裝置，其特征在于，所述盤(pán)狀構(gòu)件通過(guò)第二隔板被懸掛于所述主體部并且在上下方向上可動(dòng)， 所述第一加壓部件包括第三流體室，其通過(guò)所述第二隔板形成在所述盤(pán)狀構(gòu)件與所述主體部之間；和第三流體供給部件，其用于向所述第三流體室供給流體。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的研磨裝置，其特征在于，所述盤(pán)狀構(gòu)件通過(guò)第二隔板被懸掛于所述主體部并且在上下方向上可動(dòng)， 所述第一加壓部件包括第三流體室，其通過(guò)所述第二隔板形成在所述盤(pán)狀構(gòu)件與所述主體部之間；和 第三流體供給部件，其用于向所述第三流體室供給流體。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨裝置，其特征在于，排出管連接到所述流體出口，安全閥設(shè)置于所述排出管，并且由所述安全閥將所述第 一流體室的內(nèi)壓保持在規(guī)定壓力。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的研磨裝置，其特征在于，排出管連接到所述流體出口，安全閥設(shè)置于所述排出管，并且由所述安全閥將所述第 一流體室的內(nèi)壓保持在規(guī)定壓力。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的研磨裝置，其特征在于，排出管連接到所述流體出口，安全閥設(shè)置于所述排出管，并且由所述安全閥將所述第 一流體室的內(nèi)壓保持在規(guī)定壓力。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的研磨裝置，其特征在于， 從所述排出管排出的流體被收集并且被再利用。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨裝置，其特征在于，經(jīng)由所述彈性片施加到所述工件的壓力在所述工件的彼此同心的多個(gè)區(qū)域中是不同 的，為彼此同心的各區(qū)域設(shè)定流向所述第一流體室的流體流量。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨裝置，其特征在于， 供給到所述第一流體室的流體是空氣。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨裝置，其特征在于，所述彈性片是由片狀構(gòu)件和設(shè)置于所述片狀構(gòu)件的下方的保持構(gòu)件構(gòu)成的兩層片材。
全文摘要
一種研磨裝置，其能夠提高研磨工件的精度。借助于由第二加壓部件產(chǎn)生且被施加到承載件的壓力和第一流體室的由供給到第一流體室的流體產(chǎn)生的內(nèi)壓利用彈性片將工件壓到研磨布上，以研磨工件。已經(jīng)被向下供給到第一流體室中的流體在第一流體室中水平地向外流動(dòng)，與盤(pán)狀構(gòu)件的凹部的側(cè)壁碰撞而向上流動(dòng)，然后流體從流體出口向外排出，由此，流體供給構(gòu)件跟隨彈性片的運(yùn)動(dòng)并且保持與彈性片平行，流體供給構(gòu)件在第一流體室中被定心。
文檔編號(hào)B24B37/04GK102001036SQ20101026850
公開(kāi)日2011年4月6日 申請(qǐng)日期2010年8月30日 優(yōu)先權(quán)日2009年8月31日
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