專(zhuān)利名稱(chēng)：噴砂裝置及形成圖案的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及噴砂裝置，以及涉及利用噴砂裝置形成圖案的方法。
背景技術(shù)：
噴砂裝置的噴砂利用物理碰撞切削工件的方法常被用于清整去污，使工件表面具有一定清潔度和粗糙度?，F(xiàn)有技術(shù)的一種噴砂裝置具有一個(gè)噴嘴，砂粒經(jīng)過(guò)該噴嘴即撒向工件表面。該砂粒對(duì)工件具有非等向性的物理蝕刻效果。隨著現(xiàn)在的工件越來(lái)越精密，其待加工的區(qū)域越來(lái)越小。然而，由于砂粒經(jīng)過(guò)噴嘴噴出，其會(huì)撒向一個(gè)更寬的區(qū)域，即噴射區(qū)可能比噴嘴尺寸大2 3倍。因此，難以應(yīng)用噴砂于精密加工領(lǐng)域。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種可應(yīng)用于精密加工領(lǐng)域的噴砂裝置和利用該噴砂裝置形成圖案的方法。一種噴砂裝置，其包括一具有一內(nèi)部空間的主體，一個(gè)與該主體連接且出口對(duì)準(zhǔn)該內(nèi)部空間的噴嘴，以及一個(gè)收容于該主體內(nèi)部空間且與該噴嘴間隔一定距離的過(guò)濾通道。該過(guò)濾通道具有一內(nèi)部通孔用于承接自該噴嘴噴出的砂粒并用于對(duì)準(zhǔn)待噴砂的工件預(yù)定區(qū)域。一種形成圖案的方法，其包括如下步驟提供一基板，其具有一待形成圖案的膜層；覆蓋一干膜光阻層于該膜層；提供一具有待形成的圖案的光罩并利用該光罩對(duì)該干膜光阻層曝光；顯影去除可顯影溶解的光阻而留下不可顯影溶解的光阻成為光阻保護(hù)層；利用上述噴砂裝置噴砂蝕刻去除未受該光阻保護(hù)層遮蓋的該膜層；去除該光阻保護(hù)層，于該基板上形成膜層圖案。相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明提供的噴砂裝置設(shè)有與噴嘴相對(duì)的過(guò)濾通道，從過(guò)濾通道落下的噴砂蝕刻工件待加工預(yù)定區(qū)域而使工件表面形成圖案。


圖1是本發(fā)明第一實(shí)施例提供的噴砂裝置的立體示意圖。圖2是圖1的噴砂裝置沿II-II線(xiàn)的剖示圖，其中砂粒添加于上以顯示砂粒流向。圖3是本發(fā)明第二實(shí)施例提供的噴砂裝置的剖示圖。圖4至圖9是利用噴砂裝置形成圖案的方法的步驟的示意圖。主要元件符號(hào)說(shuō)明噴砂裝置100，200主體110，210支柱112，212擋板140
內(nèi)部空間噴嘴出口過(guò)濾通道收容槽內(nèi)部通孔管狀端部板狀端部圓弧形連接部砂粒基板膜層干膜光阻層滾輪光罩光阻保護(hù)層膜層圖案
具體實(shí)施例方式下面將結(jié)合附圖及多個(gè)實(shí)施例，對(duì)本技術(shù)方案提供的噴砂裝置和利用該噴砂裝置形成圖案的方法作進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明。請(qǐng)參閱一并圖1和圖2，本發(fā)明第一實(shí)施例提供的噴砂裝置100包括一主體110，一個(gè)與該主體Iio連接的噴嘴120，以及一個(gè)過(guò)濾通道130。該主體110包括四個(gè)支柱112和四個(gè)擋板140。該等支柱112和該等擋板140圍成一個(gè)內(nèi)部空間142。該等擋板140與該支柱112—體成型。當(dāng)該等擋板140高度較高，可以支撐該主體110時(shí)，該等支柱112可以省略。該主體110承載砂粒20，并將該砂粒20以一定的速率從該噴嘴120噴出。該砂粒20的種類(lèi)和粒徑依照待噴砂的工件材質(zhì)和待蝕刻的深度而定，以不破壞工件底材為宜。例如當(dāng)工件底材為一金屬，可選用硬度比該金屬低的砂粒，當(dāng)工件底材為一玻璃，可選用硬度比玻璃珠低的砂粒，當(dāng)工件底材為聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(Polyethylene ter印hthalate，PET)基板，由于PET具有高分子的韌性，砂粒的材質(zhì)比較不受限制。該噴嘴120的尺寸依待噴射的面積和需要的噴射速率而定。該噴嘴120的出口122對(duì)準(zhǔn)該內(nèi)部空間142。該過(guò)濾通道130收容于該內(nèi)部空間142，并與該噴嘴120間隔一定距離。該過(guò)濾通道130與該噴嘴120同軸設(shè)置。該過(guò)濾通道130具有靠近噴嘴120的管狀端部134和相對(duì)的靠近待噴砂的工件區(qū)域的板狀端部136。該過(guò)濾通道130具有一內(nèi)部通孔132貫穿該管狀端部134和該板狀端部136，用于對(duì)準(zhǔn)待噴砂的工件區(qū)域。該內(nèi)部通孔132的尺寸依待噴砂的工件預(yù)定區(qū)域尺寸而定。例如，該待噴砂的工件預(yù)定區(qū)域尺寸較小，則該內(nèi)部通孔132的尺寸亦較小，以使自該內(nèi)部通孔132噴出的砂粒20僅對(duì)準(zhǔn)及蝕刻該待噴砂的工件預(yù)定區(qū)
142120,220122,222130,2302381321341361382030405052546070域。該板狀端部136用于阻擋未落入該過(guò)濾通道130的內(nèi)部通孔132的砂粒20。該過(guò)濾通道130進(jìn)一步一個(gè)包括連接管狀端部134和板狀端部136的圓弧形連接部138，該圓弧形連接部138有減慢未落入該過(guò)濾通道130的內(nèi)部通孔132的砂粒20的速率的作用。該主體110的內(nèi)部空間142可進(jìn)一步阻擋和收容未落入該過(guò)濾通道130的內(nèi)部通孔132的砂粒20。該等砂粒20可以回收。請(qǐng)?jiān)俅螀㈤唸D2，當(dāng)砂粒20從該噴嘴120噴出后，部分砂粒20噴進(jìn)該過(guò)濾通道130，經(jīng)由該過(guò)濾通道130的內(nèi)部通孔132到達(dá)待噴砂的工件預(yù)定區(qū)域，從而蝕刻該工件預(yù)定區(qū)域。其余部分砂粒20噴出至該圓弧形連接部138和該板狀端部136上，最終被擋板140阻擋，不會(huì)落至該待噴砂的工件。請(qǐng)參閱圖3，本發(fā)明第二實(shí)施例提供的噴砂裝置200包括一主體210，一個(gè)與該主體210連接的噴嘴220，以及一個(gè)過(guò)濾通道230。該噴砂裝置200與上述噴砂裝置100的區(qū)別在于該主體210沒(méi)有設(shè)靠近過(guò)濾通道230的擋板；該主體210的多個(gè)支柱212限定一個(gè)內(nèi)部空間M2，該噴嘴220的出口 222對(duì)準(zhǔn)該內(nèi)部空間M2，該過(guò)濾通道230收容在該內(nèi)部空間M2，且該過(guò)濾通道230的周緣與該等支柱212配合；該過(guò)濾通道230的板裝端部236開(kāi)設(shè)有一朝向該內(nèi)部空間242的環(huán)形收容槽238，該環(huán)形收容槽238可以收容未落入該過(guò)濾通道130的內(nèi)部通孔232的砂粒，使其不會(huì)落至待噴砂的工件上。請(qǐng)參閱圖4至圖9，利用上述噴砂裝置100形成一圖案的方法如圖所示。首先，如圖4，提供一基板30作為底材。該基板30依需要可選擇金屬，玻璃或PET作為材質(zhì)。然后，鍍制一膜層40于該基板30的一表面。本實(shí)施例中，該膜層40為銦錫氧化物(Indium Tin Oxide, I TO)導(dǎo)電單層膜。接下來(lái)，如圖5，覆蓋一干膜光阻層50于該膜層40上，并用滾輪52使干膜光阻層50與具有膜層40的基板30貼合。該干膜光阻層50可以為正光阻或負(fù)光阻，本實(shí)施例中，其為正光阻，即該干膜光阻層50曝光的區(qū)域會(huì)溶解于一顯影劑中會(huì)被去除。該干膜光阻層50有利于回收個(gè)別噴至其上的砂粒。其次，如圖6，提供一光罩M并利用該光罩M對(duì)部分的該干膜光阻層50曝光。光線(xiàn)以圖中的箭頭形式表示。該光罩M具有所需的圖案。該所需的圖案以通孔形式或?qū)嶓w形式(非通孔形式)存在僅取決于干膜光阻層50的正負(fù)性。本實(shí)施例中，因?yàn)楦赡す庾鑼?0為正光阻，該所需的圖案以實(shí)體形式存在于該光罩M。即受該光罩M遮住的干膜光阻層50的部分不會(huì)溶解于顯影劑中而被去除。接下來(lái)，如圖7，經(jīng)過(guò)顯影劑(圖未示)溶解去除后，僅留下受該光罩M遮住的部分干膜光阻層50。該部分干膜光阻層50帶有圖案，并成為一光阻保護(hù)層60。再接下來(lái)，如圖8，利用上述噴砂裝置100對(duì)未受光阻保護(hù)層60遮住的膜層40的部分進(jìn)行噴砂蝕刻，從而去除該未受光阻保護(hù)層60遮住的膜層40的部分。最后，如圖9，去除該光阻保護(hù)層60，獲得膜層圖案70。該光阻保護(hù)層60亦可通過(guò)曝光顯影方法去除。利用上述噴砂裝置100可以精確地在工件預(yù)定區(qū)域形成圖案。帶有膜層圖案42的基板30可以應(yīng)用于電路板等電類(lèi)產(chǎn)品中。可以理解的是，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思做出其它各種相應(yīng)的改變與變形，而所有這些改變與變形都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種噴砂裝置，其包括一主體，其具有一內(nèi)部空間；一個(gè)與該主體連接的噴嘴，該噴嘴的出口對(duì)準(zhǔn)該主體內(nèi)部空間；以及一個(gè)收容于該主體內(nèi)部空間且與該噴嘴間隔一定距離的過(guò)濾通道，該過(guò)濾通道具有一內(nèi)部通孔用于承接自該噴嘴噴出的砂粒并用于對(duì)準(zhǔn)待噴砂的工件預(yù)定區(qū)域。
2.如權(quán)利要求1所述的噴砂裝置，其中該主體包括多個(gè)支柱以及多個(gè)擋板，該多個(gè)支柱以及該多個(gè)擋板圍成該內(nèi)部空間。
3.如權(quán)利要求1所述的噴砂裝置，其中該過(guò)濾通道與該噴嘴同軸設(shè)置。
4.如權(quán)利要求1所述的噴砂裝置，其中該過(guò)濾通道包括一靠近該噴嘴的管狀端部以及一靠近待噴砂的工件預(yù)定區(qū)域的板狀端部，該內(nèi)部通孔貫穿該管狀端部和該板狀端部。
5.如權(quán)利要求4所述的噴砂裝置，其中該過(guò)濾通道進(jìn)一步包括一連接該管狀端部和該板狀端部的圓弧形連接部。
6.如權(quán)利要求4所述的噴砂裝置，其中該過(guò)濾通道進(jìn)一步包括一開(kāi)設(shè)在該板狀端部朝向該內(nèi)部空間的表面的砂粒收容槽。
7.如權(quán)利要求1所述的噴砂裝置，其中該主體包括多個(gè)支柱，該等支柱限定該內(nèi)部空間，該過(guò)濾通道周緣與該支柱配合。
8.一種形成圖案的方法，其包括提供一基板，其具有一待形成圖案的膜層；覆蓋一干膜光阻層于該膜層；提供一具有待形成的圖案的光罩并利用該光罩對(duì)該干膜光阻層曝光；顯影去除可顯影溶解的光阻而留下不可顯影溶解的光阻成為光阻保護(hù)層；提供一噴砂裝置，該噴砂裝置包括一具有一內(nèi)部空間的主體，一個(gè)與該主體連接且出口對(duì)準(zhǔn)該內(nèi)部空間的噴嘴，以及一個(gè)收容于該主體內(nèi)部空間且與該噴嘴間隔一定距離的過(guò)濾通道，該過(guò)濾通道具有一內(nèi)部通孔用于承接自該噴嘴噴出的砂粒并用于對(duì)準(zhǔn)待噴砂的工件預(yù)定區(qū)域；利用該噴砂裝置噴砂蝕刻去除未受該光阻保護(hù)層遮蓋的該膜層；以及去除該光阻保護(hù)層，于該基板上形成膜層圖案。
9.如權(quán)利要求8所述的形成圖案的方法，其中該干膜光阻層為正光阻，受曝光和顯影去除的光阻非對(duì)應(yīng)圖案區(qū)域。
10.如權(quán)利要求8所述的形成圖案的方法，其中該過(guò)濾通道與該噴嘴同軸設(shè)置。
全文摘要
本發(fā)明提供一種噴砂裝置，其包括一主體具有一內(nèi)部空間，一與該主體連接且出口對(duì)準(zhǔn)該主體內(nèi)部空間的噴嘴，以及一收容于該主體內(nèi)部空間且與該噴嘴間隔一定距離的過(guò)濾通道。該過(guò)濾通道具有一內(nèi)部通孔用于對(duì)準(zhǔn)待噴砂的工件預(yù)定區(qū)域。本發(fā)明還提供一種形成圖案的方法，其包括步驟提供一基板，其具有一待形成圖案的膜層；覆蓋一干膜光阻層于該膜層；提供一具有待形成的圖案的光罩并利用該光罩對(duì)該干膜光阻層曝光；顯影去除可顯影溶解的光阻而留下不可顯影溶解的光阻成為光阻保護(hù)層；利用上述噴砂裝置噴砂蝕刻去除未受該光阻保護(hù)層遮蓋的該膜層；以及去除該光阻保護(hù)層，于該基板上形成膜層圖案。
文檔編號(hào)B24C3/02GK102380829SQ201010268019
公開(kāi)日2012年3月21日 申請(qǐng)日期2010年8月31日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月31日
發(fā)明者許嘉麟 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司