專利名稱：一種硅片鍍膜用支撐鉤的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種硅片鍍膜工藝中的硅片專用承載用具，具體涉及一種硅片鍍
膜用支撐鉤。
背景技術：
目前，在晶體硅太陽能電池片的制程中，PECVD(等離子增強化學氣相沉積)法沉 積減反射膜已是必不可少的工序。這層減反射膜不僅能減少硅片表面的光反射，增加光吸 收，而且由于膜層成分中含有H，因此又具有良好的表面鈍化和體鈍化的重要作用；同時， 這層減反射膜更為電池片表面提供顏色均勻的外觀。因此，減反射膜質量的均一性不僅是 電池片各電性能參數(shù)的重要保證，也是電池片外觀衡量、檢驗、等級劃分的重要標準。 目前，現(xiàn)有的PECVD鍍膜設備，都需要特定的硅片承載工裝，如德國Roth & Rau PECVD設備所用的硅片承載工裝是石墨框(附圖3)。硅片在鍍膜過程中，需要水平放置在 石墨框的方格孔內，每片硅片放置在石墨框的一個方格孔中。為防止在鍍膜過程中硅片從 方格孔中脫落出去，并且還要保證鍍膜的質量，在方格孔兩邊縱向的格條上設有硅片的限 位件，在方格孔橫向的格條上固定連接有用于支撐硅片的掛鉤，該掛鉤中間有一個橫梁，橫 梁兩端分別對稱連接有兩個"J"形鉤；固定連接時，將掛鉤的兩個"J"形鉤從石墨框方格孔 格條下方的兩端推出，掛鉤的橫梁通過一個墊片與格條底面緊密貼合，而兩個"J"形鉤上端 伸出格條頂面的部分用工具將其捏合在一起，以固定掛鉤，兩個"J"形鉤分別位于相鄰的兩 個方格孔內，與其他掛鉤上的"J"形鉤一起支撐硅片，卡于掛鉤橫梁與格條底面之間的墊片 可以在固定掛鉤的時候避免石墨框格條和掛鉤變形，以保證掛鉤末端的支撐點都在同一高 度平面內。 在鍍膜過程中，等離子體從石墨框的下面向上噴出，由于掛鉤的阻擋，掛鉤投影在 硅片上的區(qū)域會產生直線型未鍍膜印記，該印記會直接影響硅片的鍍膜質量，進而影響到 太陽能電池片表面減反射膜的質量，因此，為了提高鍍膜的質量，在保證硅片穩(wěn)定的懸掛在 石墨框方格孔中的同時，掛鉤末端向內下凹的鉤體部分會制作的比較窄，其下凹深度也會 因鉤體形狀限制而變淺。然而，這也帶來了新的問題，即在石墨框使用一段時間后，掛鉤和 石墨框表面都會沉積較多的氮化硅，掛鉤上沉積的的氮化硅會加寬掛鉤在硅片上投影直線 的寬度，不利于等離子體到達掛鉤在硅片上投影區(qū)域，使未鍍膜印記加寬，進而影響到硅片 的鍍膜質量，導致電池片表面產生色差。此外，石墨框下表面所沉積的厚厚的氮化硅層也會 對接近石墨框邊緣的硅片的鍍膜質量產生不良影響，隨著掛鉤與石墨框使用時間的增加， 這種影響會越來越大。 針對上述問題，目前通常的解決辦法是將石墨框定期外包清洗， 一般1 2個月清 洗一次。然而，這種清洗的成本很高，清洗之后的石墨框也必須要更換新的掛鉤，而且每次 清洗之后，石墨框必須要在反應氣氛下做很長時間的預處理，這會大大影響設備的產量，從 而造成很大的產能損失。
發(fā)明內容本實用新型目的是提供一種使用、維護方便，能大大延長石墨框清洗周期以降低 成本的硅片鍍膜用支撐鉤。 為達到上述目的，本實用新型采用的技術方案是一種硅片鍍膜用支撐鉤，該支撐 鉤與石墨框的格條固定連接；所述支撐鉤包括一個或兩個下凹的鉤體、兩個豎直向上的連
接臂和連接所述兩個連接臂的橫梁，所述鉤體與連接臂底端固定連接，所述鉤體的下凹深 度為3 6mm，所述鉤體的鉤尖到石墨框下邊緣的豎直距離為2 4mm，鉤尖到連接臂外邊 緣的水平距離為2 4mm。 上文中，所述支撐鉤與石墨框格條的固定連接是通過將支撐鉤的兩個連接臂扣接 在石墨框格條上來實現(xiàn)的，即將支撐鉤從石墨框的格條下面上推，支撐鉤的橫梁通過一個 墊片頂在格條的底面，兩個連接臂從格條兩側向上伸出，超出格條頂面的部分被相互捏合 在一起，從而將支撐鉤扣接固定在石墨框格條上。支撐鉤連接臂下端的兩個鉤體分別位于 相鄰的兩個石墨框方格孔內。在每個石墨框方格孔的兩條對邊格條上分別固定有兩個支撐 鉤，兩邊支撐鉤的鉤尖相對，每個方格孔內的四個鉤尖形成四個處在同一高度的支點頂住 硅片。卡設于支撐鉤橫梁與格條底面之間的墊片可以在捏合支撐鉤連接臂的時候避免石墨 框格條和支撐鉤變形，以保證支撐硅片的鉤尖所形成的四個支點都在同一高度平面內。所 述鉤體、連接臂和橫梁一般為一體結構。石墨框格條上所固定的支撐鉤是沿中心線成對稱 結構的雙面支撐鉤，而石墨框外圈四周邊框上所固定的支撐鉤是只有一個鉤體的單面支撐 鉤。 當PECVD鍍膜設備所用的硅片承載工裝是石墨框的情況下，硅片鍍膜時，掛鉤與 石墨框下邊緣的豎直間隙能避免石墨框下表面累積的氮化硅層對接近石墨框邊緣的硅片 的鍍膜產生影響，而硅片與支撐鉤之間的間隙即鉤體下凹部分能使等離子體盡可能少的被 鉤體本身擋到，等離子體能夠最大限度的到達支撐鉤鉤體投影在硅片上的區(qū)域，從而減少
由于鉤體阻擋產生的未鍍膜區(qū)域面積，提高硅片的鍍膜質量及保證外觀顏色均一性。 由于上述技術方案運用，本實用新型與現(xiàn)有技術相比具有的優(yōu)點是 1、由于本實用新型對支撐鉤鉤體結構尺寸、位置所作出的限定，使硅片能穩(wěn)定的
懸掛在石墨框方格孔內的同時，硅片與支撐鉤及石墨框之間留有合適的間隙，石墨框在使
用很長一段時間后，其與支撐鉤表面所沉積的氮化硅層也不會對硅片的鍍膜質量產生影
響，從而大大延長了石墨框的清洗周期，降低了成本，同時也避免了設備因此而導致的產能損失。 2、本實用新型使用維護方便，且易于實現(xiàn)，適合推廣使用。
附圖1為本實用新型實施例一中雙面支撐鉤的結構示意圖； 附圖2為本實用新型實施例一中單面支撐鉤的結構示意圖； 附圖3為本實用新型實施例一中支撐鉤固定在石墨框上的結構示意圖； 附圖4為附圖3的A-A向剖視放大圖。 其中1、連接臂；2、橫梁；3、鉤體；4、墊片；5、格條；6、邊框；7、石墨框；8、雙面支 撐鉤；9、單面支撐鉤；10、鉤尖。
具體實施方式
以下結合附圖及實施例對本實用新型作進一步描述 實施例一 參見附圖1至附圖4所示，一種硅片鍍膜用支撐鉤，包括一個或兩個下凹的鉤體 3 (雙面支撐鉤8為兩個鉤體，單面支撐鉤9為一個鉤體)，兩個豎直向上的連接臂1和連 接所述兩個連接臂1的橫梁2，所述鉤體3與連接臂1底端固定連接，鉤體3的下凹深度為 3mm，所述鉤體3的鉤尖10到連接臂1的外邊緣的水平距離為3mm，且鉤尖10與支撐鉤橫梁 2的下邊緣在同一水平線上，橫梁2的高度為2mm。 參見附圖3、4所示，支撐鉤與石墨框格條5的固定連接是通過將支撐鉤的兩個連 接臂1扣接在石墨框的格條5上來實現(xiàn)的，支撐鉤橫梁2通過一個墊片4緊貼在格條5的 底面上，墊片4厚度為lmm。 由于本實施例中鉤尖10與橫梁2的下邊緣在同一水平線上，故支撐鉤橫梁2下邊 緣到石墨框7下邊緣的豎直距離即為鉤尖10到石墨框7下邊緣的豎直距離。橫梁2的高 度為2mm，在橫梁2與石墨框格條5之間的墊片厚度為lmm，將兩者相加，即可得鉤尖10到 石墨框7下邊緣的豎直距離為3mm。 實施例二 —種硅片鍍膜用支撐鉤，該支撐鉤與石墨框的格條固定連接，所述支撐鉤包括一
個或兩個下凹的鉤體，兩個豎直向上的連接臂和連接所述兩個連接臂的橫梁，所述鉤體與
連接臂底端固定連接，鉤體的下凹深度為3mm，所述鉤體的鉤尖到連接臂外邊緣的水平距離
為2mm，且該鉤尖與支撐鉤橫梁的下邊緣在同一水平線上，橫梁的高度為lmm。 上文中，所述支撐鉤與石墨框格條的固定連接是通過將支撐鉤的兩個連接臂扣接
在石墨框的格條上來實現(xiàn)的，支撐鉤橫梁通過一個墊片緊貼在格條的底面上，墊片厚度為
lmm。 由于本實施例中鉤尖與支撐鉤橫梁的下邊緣在同一水平線上，故支撐鉤橫梁下邊
緣到石墨框下邊緣的豎直距離即為鉤尖到石墨框下邊緣的豎直距離。橫梁的高度為lmm，在
橫梁與石墨框格條之間的墊片厚度為lmm，將兩者相加，即可得鉤尖到石墨框下邊緣的豎直
距離為2mm。 實施例三 —種硅片鍍膜用支撐鉤，該支撐鉤與石墨框的格條固定連接，所述支撐鉤包括一
個或兩個下凹的鉤體，兩個豎直向上的連接臂和連接所述兩個連接臂的橫梁，所述鉤體與
連接臂底端固定連接，鉤體的下凹深度為6mm，所述鉤體的鉤尖到連接臂外邊緣的水平距離
為4mm，且該鉤尖與橫梁下邊緣的豎直距離為lmm，支撐鉤橫梁的高度為2mm。 上文中，所述支撐鉤與石墨框格條的固定連接是通過將支撐鉤的兩個連接臂扣接
在石墨框的格條上來實現(xiàn)的，支撐鉤橫梁通過一個墊片緊貼在格條的底面上，墊片厚度為
lmm。 通過將本實施例中鉤尖與橫梁下邊緣的豎直距離、橫梁的高度及墊片的厚度三者 相加，可輕易得出鉤尖到石墨框下邊緣的豎直距離為4mm。
權利要求一種硅片鍍膜用支撐鉤，該支撐鉤與石墨框(7)的格條(5)固定連接；所述支撐鉤包括一個或兩個下凹的鉤體(3)、兩個豎直向上的連接臂(1)和連接所述兩個連接臂(1)的橫梁(2)，所述鉤體(3)與連接臂(1)底端固定連接，其特征在于所述鉤體(3)的下凹深度為3～6mm，所述鉤體(3)的鉤尖(10)到石墨框下邊緣的豎直距離為2～4mm，鉤尖(10)到連接臂(1)外邊緣的水平距離為2～4mm。
專利摘要本實用新型公開了一種硅片鍍膜用支撐鉤，該支撐鉤與石墨框的格條固定連接；所述支撐鉤包括一個或兩個下凹的鉤體、兩個豎直向上的連接臂和連接所述兩個連接臂的橫梁，所述鉤體與連接臂底端固定連接，所述鉤體的下凹深度為3～6mm，所述鉤體的鉤尖到石墨框下邊緣的豎直距離為2～4mm，鉤尖到連接臂外邊緣的水平距離為2～4mm。本實用新型在保證硅片能穩(wěn)定的懸掛在石墨框方格孔內的同時，使硅片與支撐鉤及石墨框之間留有足夠的間隙，石墨框在使用很長一段時間后，其與支撐鉤表面所沉積的氮化硅層也不會對硅片的鍍膜質量產生影響，從而大大延長了石墨框的清洗周期，降低了成本，同時也避免了設備因此而導致的產能損失。
文檔編號C23C16/44GK201495284SQ20092023352
公開日2010年6月2日 申請日期2009年8月3日 優(yōu)先權日2009年8月3日
發(fā)明者章靈軍, 趙鈺雪, 辛國軍 申請人:蘇州阿特斯陽光電力科技有限公司;常熟阿特斯陽光電力科技有限公司;阿特斯光伏電力(洛陽)有限公司;阿特斯光伏電子(常熟)有限公司;阿特斯太陽能光電(蘇州)有限公司;阿特斯光伏科技(蘇州)有限公司;常熟阿特斯太陽能電力有限公司