專利名稱：承載裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及真空濺鍍領(lǐng)域，尤其涉及一種用于連續(xù)式濺鍍的承載裝置。
背景技術(shù)：
濺鍍是一種薄膜物理氣相沉積技術(shù)，其中連續(xù)式濺鍍(In-line Sputtering)鍍 膜工藝具有速度快、產(chǎn)量高、鍍膜質(zhì)量好、膜層附著力強等優(yōu)點，已被廣泛應(yīng)用于工業(yè)中各 種金屬和非金屬膜層的大量制作，可參見E. Schulthei β等人在文獻IEEE Transactions OnMagnetics, Vol.24, No. 6,2772-2774 (1988)中的 Effects of Target Structure Onthe Properties of MO Recording Media Produced in a Large—Scale Vertical In-LineSputtering system一文。在鏡頭模組進行組裝之前，需要對鏡座的外表面鍍上一層防電磁干擾膜層，以降 低電磁干擾對組裝后鏡頭模組的影響。鍍膜后的產(chǎn)品需要進行多項的測試，如高溫高壓測 試、熱沖擊測試或者腐蝕測試等。如果鏡座的外表面形成的膜層厚度不均，則容易脫落，且 不能保證鏡頭模組抗電磁干擾的效果，因此，鍍膜均勻性非常重要。在現(xiàn)有技術(shù)中，采用連續(xù)式濺鍍鍍膜工藝進行鏡座鍍膜。鏡座的承載裝置在傳送 裝置的帶動下，以一定的速度運動，從而鏡座也以一定的速度運動。這樣，朝向鏡座運動方 向的鏡座的表面則有較多的靶材粒子沉積，朝向鏡座運動方向的鏡座的表面上形成的膜層 較厚，而背向鏡座運動方向的鏡座的表面則有較少的靶材粒子沉積，背向鏡座運動方向的 鏡座的表面上形成的膜層較薄。因此，在上述的鍍膜過程中形成的膜層的均勻性不能得到 保證。

發(fā)明內(nèi)容
因此，有必要提供一種承載裝置，能夠在工件鍍膜過程中形成的膜層均勻。一種承載裝置，其用于工件進行連續(xù)式濺鍍，所述承載裝置包括多個旋轉(zhuǎn)承載 臺、一個底座及一個傳送裝置，所述多個旋轉(zhuǎn)承載臺安裝于底座，每個旋轉(zhuǎn)承載臺均具有用 于承載工件的承載面，并用于驅(qū)動放置于承載面的工件繞垂直于承載面的軸線相對于底座 旋轉(zhuǎn)，所述底座設(shè)置于所述傳送裝置，所述傳送裝置用于帶動所述底座及所述多個旋轉(zhuǎn)承 載臺移動。本技術(shù)方案提供的用于濺鍍的承載裝置，在工件進行線性運動的同時進行轉(zhuǎn)動， 從而使得工件表面形成均勻的膜層。避免了在進行濺鍍過程中朝向線性運動方向的表面膜 層較厚，而與線性運動方向的相背的表面膜層較薄，提升了工件鍍膜的良率。


圖1是本技術(shù)方案第一實施例提供的承載裝置的立體示意圖。圖2是圖1沿II-II線的剖面示意圖。圖3是本技術(shù)方案第一實施例提供的承載裝置用于濺鍍時的示意圖。
圖4是本技術(shù)方案第二實施例提供的承載裝置的剖面示意圖。
具體實施例方式下面將結(jié)合多個實施例和多個附圖，對本技術(shù)方案提供的承載裝置作進一步的詳 細說明。請一并參閱圖1及圖2，本技術(shù)方案第一實施例提供的一種承載裝置100，其包括 一個底座110、多個旋轉(zhuǎn)承載臺120及傳送裝置130。底座110有一板狀結(jié)構(gòu)，其形狀可以為長方形、圓形或其他形狀。本實施例中，底 座110為長方形板狀，其包括一頂面111及一與頂面111相對的底面112。頂面111及底面 112相互平行且均為平面。自頂面111向底面112，開設(shè)有多個收容孔113。本實施例中，底 座110開設(shè)有八個收容孔113，八個收容孔113陣列排布。每一收容孔113包括依次連通并 同軸設(shè)置的第一孔段1131、第二孔段1132及第三孔段1133。本實施例中，第一孔段1131及 第二孔段1132的橫截面形狀均為圓形，第一孔段1131的直徑大于第二孔段1132的直徑。 為了使得底座在濺鍍過程中能夠耐高溫，底座110采用金屬制作，其材質(zhì)可以為銅等。本實施例中，每個旋轉(zhuǎn)承載臺120對應(yīng)收容于一個收容孔113內(nèi)。每個旋轉(zhuǎn)承載 臺120包括承載板121、轉(zhuǎn)軸122及驅(qū)動裝置123。承載板121為圓片狀，其直徑等于或略小 于第一孔段1131的直徑。承載板121具有相對的承載面1211和安裝面1212。承載板121 收容于收容孔113的第一孔段1131內(nèi)。承載面1211從第一孔段1131露出，承載面1131 平行于頂面111。本實施例中，承載面1211與頂面111齊平。轉(zhuǎn)軸122用于帶動承載板121繞轉(zhuǎn)軸122的中心軸線轉(zhuǎn)動。轉(zhuǎn)軸122收容于第二 孔段1132內(nèi)并垂直于安裝面1212。當然，轉(zhuǎn)軸122也可以與承載板121—體成型。轉(zhuǎn)軸 122呈圓柱狀，其具有相對的第一連接端1221和第二連接端1222，第一連接端1221固定連 接于安裝面1212的中心，承載板121與轉(zhuǎn)軸122同軸設(shè)置。驅(qū)動裝置123用于驅(qū)動轉(zhuǎn)軸122繞轉(zhuǎn)軸122的中心軸線轉(zhuǎn)動。驅(qū)動裝置123可以 為本技術(shù)領(lǐng)域常見的步進馬達等。本實施例中，驅(qū)動裝置123固定收容于第三孔段1133。 當開啟驅(qū)動裝置123時，驅(qū)動裝置123驅(qū)動轉(zhuǎn)軸122繞轉(zhuǎn)軸122的中心軸線轉(zhuǎn)動，轉(zhuǎn)軸122 帶動承載板121也繞轉(zhuǎn)軸122的中心軸線轉(zhuǎn)動。傳送裝置130用于在連續(xù)式濺鍍過程中帶動底座110及多個旋轉(zhuǎn)承載臺120—起 產(chǎn)生移動。本實施例中，傳送裝置130包括傳送帶131、兩個滾輪132及于滾輪132相連接 的轉(zhuǎn)動驅(qū)動裝置(圖為示)。兩個滾輪132與傳送帶131機械耦合，兩個滾輪130在所述 轉(zhuǎn)動驅(qū)動裝置的驅(qū)動下帶動傳送帶131運動。底座110放置于傳送帶131上，并隨著傳送 帶131作同步運動。滾輪的數(shù)量不限于本實施例中的兩個，滾輪的數(shù)量也可以為三個或三 個以上。請一并參閱圖3和圖2，本技術(shù)方案提供的濺鍍用承載裝置100用于工件20濺鍍 過程時，首先，將多個工件20放置于承載裝置100的旋轉(zhuǎn)臺121的承載面1211上。濺鍍用 的靶材30與承載面1211相對設(shè)置，靶材30原子的轟擊方向垂直于承載面1211。本實施 例中，每個承載板121上放置一個工件20，并將工件20的中心軸線與承載板121的中心軸 線重合。然后，啟動每個驅(qū)動裝置123，使得每個驅(qū)動裝置123驅(qū)動轉(zhuǎn)軸122、承載板121及 放置于該承載板121的工件20 —起繞轉(zhuǎn)軸122的中心軸線轉(zhuǎn)動。最后，將承載裝置100放置于傳送裝置130的傳送帶131上，使得底座110的底面111與傳送帶131接觸，傳送裝置 130用于帶動底座110及多個旋轉(zhuǎn)承載臺120沿著平行于承載面1211的傳送方向進行運 動。每個旋轉(zhuǎn)承載臺120沿傳送方向運動的同時，每個承載板121及放置于承載板121的 鏡座繞轉(zhuǎn)軸122的中心軸線運動，在工件20轉(zhuǎn)動的過程中，使得工件20的圓環(huán)形表面21 的每個角度朝向傳送方向的幾率相等，從而在進行鍍膜的過程中，圓環(huán)形表面21形成均勻 的膜層。請參見圖4，本技術(shù)方案第二實施例提供的一種承載裝置200，其結(jié)構(gòu)與第一實施 例提供的承載裝置100相近，不同之處在于，旋轉(zhuǎn)承載臺220設(shè)置于底座210的頂面211上。 旋轉(zhuǎn)承載臺220的驅(qū)動裝置223固定且陣列安裝于頂面211上，轉(zhuǎn)軸222垂直于頂面211， 承載板220平行于頂面211。通過開啟驅(qū)動裝置223，驅(qū)動裝置223驅(qū)動轉(zhuǎn)軸222及承載板 221繞轉(zhuǎn)軸222的中心軸線轉(zhuǎn)動。本實施例的承載裝置200中，因為旋轉(zhuǎn)承載臺220設(shè)置于 底座210的外部，從而則不需在底座210內(nèi)開設(shè)收容孔，本實施例提供的承載裝置200具有 安裝簡單的特點。本技術(shù)方案提供的用于濺鍍的承載裝置，在工件進行傳動運動的同時繞垂直于傳 送方向的直線進行轉(zhuǎn)動，從而使得工件表面形成均勻的膜層。避免了在進行濺鍍過程中朝 向線性運動方向的表面膜層較厚，而與線性運動方向的相背的表面膜層較薄，提升了工件 鍍膜的良率?？梢岳斫獾氖?，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思做 出其它各種相應(yīng)的改變與變形，而所有這些改變與變形都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護范圍。
權(quán)利要求
一種承載裝置，其用于工件進行連續(xù)式濺鍍，所述承載裝置包括多個旋轉(zhuǎn)承載臺、一個底座及一個傳送裝置，所述多個旋轉(zhuǎn)承載臺安裝于底座，每個旋轉(zhuǎn)承載臺均具有用于承載工件的承載面，并用于驅(qū)動放置于承載面的工件繞垂直于承載面的軸線相對于底座旋轉(zhuǎn)，所述底座設(shè)置于所述傳送裝置，所述傳送裝置用于帶動所述底座及所述多個旋轉(zhuǎn)承載臺移動。
2.如權(quán)利要求1所述的承載裝置，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)承載臺包括承載盤、轉(zhuǎn)軸及驅(qū) 動裝置，所述轉(zhuǎn)軸的一端與承載板相連接，所述轉(zhuǎn)軸的另一端與驅(qū)動裝置連接，所述驅(qū)動裝 置用于驅(qū)動轉(zhuǎn)軸帶動承載板轉(zhuǎn)動，所述承載面位于所述承載板上。
3.如權(quán)利要求2所述的承載裝置，其特征在于，所述承載板與轉(zhuǎn)軸同軸設(shè)置，所述轉(zhuǎn)軸 的中心軸線垂直于承載面。
4.如權(quán)利要求2所述的承載裝置，其特征在于，所述底座具有相對的頂面和底面，所述 底面與傳送裝置相接觸，自所述頂面向底面開設(shè)有多個收容孔，每一個旋轉(zhuǎn)承載臺對應(yīng)收 容于一個收容孔內(nèi)。
5.如權(quán)利要求4所述的承載裝置，其特征在于，所述每一個收容孔自頂面向底面方向 包括相互連通的第一孔段、第二孔段及第三孔段，所述承載板配合收容于第一孔段內(nèi)，轉(zhuǎn)軸 配合收容于第二孔段內(nèi)，驅(qū)動裝置配合固定于第三孔段內(nèi)。
6.如權(quán)利要求2所述的承載裝置，其特征在于，所述底座具有相對的頂面和底面，所述 底面與傳送裝置相接觸，所述驅(qū)動裝置固定安裝于底座的頂面，所述承載面與頂面平行。
7.如權(quán)利要求1所述的承載裝置，其特征在于，多個旋轉(zhuǎn)承載臺陣列排布。
8.如權(quán)利要求1所述的承載裝置，其特征在于，所述傳送裝置包括一個傳送帶、轉(zhuǎn)動驅(qū) 動裝置及多個與所述傳送帶機械耦合的滾輪，所述轉(zhuǎn)動驅(qū)動裝置用于驅(qū)動所述多個滾輪轉(zhuǎn) 動，所述滾輪用于帶動傳送帶運動，從而使得放置于傳送帶上的所述底座及多個旋轉(zhuǎn)承載 臺移動。
9.如權(quán)利要求8所述的承載裝置，其特征在于，所述傳送帶的移動方向與旋轉(zhuǎn)承載臺 相對于底座旋轉(zhuǎn)的軸線相互垂直。
全文摘要
本發(fā)明提供一種承載裝置，其用于工件進行連續(xù)式濺鍍，所述承載裝置包括多個旋轉(zhuǎn)承載臺、一個底座及一個傳送裝置，所述多個旋轉(zhuǎn)承載臺安裝于底座，每個旋轉(zhuǎn)承載臺均具有用于承載工件的承載面，并用于驅(qū)動放置于承載面的工件繞垂直于承載面的軸線相對于底座旋轉(zhuǎn)，所述底座設(shè)置于所述傳送裝置，所述傳送裝置用于帶動所述底座及所述多個旋轉(zhuǎn)承載臺移動。
文檔編號C23C14/34GK101921992SQ20091030331
公開日2010年12月22日 申請日期2009年6月16日 優(yōu)先權(quán)日2009年6月16日
發(fā)明者蔡泰生 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司