專利名稱：一種用于連續(xù)帶狀基料的真空沉積薄膜裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種薄膜制備裝置，特別是用真空沉積技術在帶狀工料上制備薄膜的裝置。
背景技術：
對帶狀工料進行真空沉積制備薄膜時，一般都將帶狀原料和制備完的產品整卷在大氣環(huán)境完全裝入一個或數個同壓強的體積較大的真空室內，然后抽真空、沉積薄膜，最后破壞真空回到大氣環(huán)境中換料；或先將帶狀工料先分成段料(薄板材)，然后在大氣環(huán)境放入一個或數個同壓強體積較小的真空室內，然后抽真空、沉積薄膜，最后破壞真空回到大氣環(huán)境中換料。對段料也可采取使用真空閥實現段料從大氣環(huán)境中上行經過多段壓強不同體積較小的真空室內來制備涂層，再下行經過多段壓強不同體積較小的真空室回到大氣環(huán)境。以上所述帶狀基料真空沉積制備薄膜的方法，都無法真正實現不破壞設備真空狀態(tài)下在大氣環(huán)境中連續(xù)換料，生產效率低、涂層質量不穩(wěn)定。

發(fā)明內容
本發(fā)明的目的在于提供一種能夠在大氣環(huán)境中連續(xù)換料、設備始終維持在真空狀態(tài)、生產效率高、涂層質量穩(wěn)定的帶狀基料鍍膜裝置。
本發(fā)明可實現卷帶狀工料在大氣環(huán)境中連續(xù)放料，通過數級上行的具有兩個輥軸對滾夾緊帶狀基料的真空密封裝置進入一段或分段的高真空環(huán)境中進行沉積制備薄膜，然后再經過與前述上行真空密封裝置相同的下行真空密封裝置返回到大氣環(huán)境中進行收料。所述裝置包括有收放料子系統，提供原材料的放料裝置和存放產品的收料裝置；糾偏子系統，用來糾正帶狀基料進出真空密封裝置時產生偏差的糾偏裝置；真空密封子系統，用以實現帶狀基料由大氣進/出真空環(huán)境的動態(tài)密封動裝置；真空室，用于提供真空沉積薄膜的氣氛的一段或分段的腔體；真空獲得子系統，即各種真空泵組以及真空薄膜沉積子裝置。本發(fā)明提供的裝置只需要在更換靶材或清理真空室時才需要破壞真空環(huán)境停機，其余一直處于連續(xù)工作狀態(tài)。


圖1為本發(fā)明用于帶狀基料沉積薄膜的真空裝置示意圖；圖2為真空密封單元的剖視圖。
具體實施例方式
本發(fā)明的實施例將參照附圖1進行描述。
在圖1中，本發(fā)明用于帶狀基料沉積薄膜的真空裝置包括放料裝置1、上行糾偏裝置2、上行真空密封裝置3、真空室4、真空室真空獲得設備6、下行真空密封裝置8、真空密封裝置真空獲得設備10、下行糾偏裝置9、收料裝置11。其中真空密封裝置是由一個或者一個以上的真空密封單元首尾連接組成。在圖2中每個真空密封單元是由兩個對滾的上輥軸22和下輥軸25組成。當帶狀基料24通過真空密封裝置3進入真空室4時，由兩個真空密封單元的輥軸對滾將帶狀基料擠進真空室，同時兩個真空密封單元之間和靠近真空室的密封單元與真空室之間設有真空獲得裝置10，達到動態(tài)密封的目的。進入真空室后進行沉積薄膜，然后進入下行真空密封裝置8，由下行真空密封裝置采用同上行真空密封裝置相同的方法將帶狀基料擠出真空室。在放料裝置1與上行真空密封裝置3之間和下行真空密封裝置8與收料裝置11之間，分別設有上行糾偏裝置2和下行糾偏裝置9，以調節(jié)帶狀工料在運動過程中可能出現的走偏。
權利要求
1.一種用于連續(xù)帶狀基料真空沉積薄膜的裝置，主要包含有一段或分段的真空室、一組與真空室配合的真空獲得系統，其特征在于還包含一組用以動態(tài)密封帶狀基料從大氣進/出真空室的真空密封子系統，提供原材料和存放產品的收放料子系統，用來糾正帶狀基料進出真空密封裝置時產生偏差的糾偏子系統。
2.根據權利要求1所述用于連續(xù)帶狀基料真空沉積薄膜的裝置，其特征在于帶狀基料的收卷和放卷系統不限于在真空室同側。
3.根據權利要求1所述用于連續(xù)帶狀基料真空沉積薄膜的裝置，其特征在于真空密封子系統包含一個或者一個以上的真空密封單元。
4.根據權利要求1所述用于連續(xù)帶狀基料真空沉積薄膜的裝置，其特征在于真空密封子系統的真空密封單元設有真空獲得裝置。
5.根據權利要求3所述真空密封子系統，其特征在于真空密封單元包含一對對滾的輥軸。
全文摘要
一種用于連續(xù)帶狀基料的真空沉積薄膜裝置，可實現卷帶狀工料在大氣中連續(xù)放料，通過數級上行的具有兩個輥軸對滾夾緊帶狀基料的動態(tài)真空密封裝置進入一段或分段的高真空環(huán)境中進行沉積薄膜，然后再經過下行的動態(tài)真空密封裝置返回到大氣中進行收料。所述裝置包括有收放料子系統、糾偏子系統、真空密封子系統、一段或分段的真空室、真空獲得子系統以及真空薄膜沉積子裝置，所述真空密封裝置實現帶狀基料由大氣進/出真空環(huán)境的動態(tài)密封。本發(fā)明能夠實現在帶狀基料上連續(xù)進行真空沉積薄膜涂層，具有高生產效率和薄膜涂層質量穩(wěn)定的特點。
文檔編號C23C14/24GK101086058SQ20061020051
公開日2007年12月12日 申請日期2006年6月5日 優(yōu)先權日2006年6月5日
發(fā)明者李博峰 申請人:李博峰