專利名稱：一種支撐加熱坩堝的裝置以及包括它的沉積設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種支撐加熱坩堝的裝置以及包括它的沉積設(shè)備，更具體地說，涉及一種支撐沉積設(shè)備中加熱坩堝的裝置，該設(shè)備可防止沉積材料附著在支撐裝置的孔洞邊緣，以便易于維護、管理和使用該加熱坩堝，也涉及包括它的沉積設(shè)備。
背景技術(shù)：
電致發(fā)光顯示裝置，是一種自發(fā)光型顯示裝置，具有視角廣、對比度優(yōu)異、反應(yīng)速度快的優(yōu)點。因此，該電致發(fā)光顯示裝置顯著地作為下一代顯示裝置之一。根據(jù)發(fā)射層(EML)形成材料，該電致發(fā)光顯示裝置可分為無機電致發(fā)光顯示裝置和有機電致發(fā)光顯示裝置。有機電致發(fā)光顯示裝置具有出眾的發(fā)光性、驅(qū)動電壓、反應(yīng)速度特性及多色性的優(yōu)點。
有機電致發(fā)光顯示裝置包括一般的、具有中間層的有機電致發(fā)光裝置，其包括至少一個在彼此相對的兩個電極之間的發(fā)射層。該中間層包括多層，如空穴注入層，空穴傳輸層，發(fā)射層，電子傳遞層，或電子注入層。對于有機電致發(fā)光裝置，這些中間層是有機材料形成的有機薄膜。
在制造如上構(gòu)造的有機電致發(fā)光裝置的過程中，有機薄膜，如空穴注入層，空穴傳輸層，發(fā)射層，電子傳遞層，或電子注入層可通過利用沉積設(shè)備，以沉積的方法形成。即，基片置于內(nèi)部壓力控制在10-6-10-7的密閉室中。將有機材料注入朝向基片放置的加熱坩堝中，使用加熱坩堝蒸發(fā)或汽化加熱坩鍋中的有機材料，從而在基片上沉積。
圖1是常規(guī)沉積設(shè)備提供的加熱坩堝支撐裝置的透視圖。圖2是沿圖1的線II-II的橫截面圖。
參見圖1和2，為了簡述沉積原理，在待沉積的材料注入加熱坩堝20之后，加熱坩堝20通過安裝在加熱坩堝20外部的電熱絲30加熱，以使加熱坩堝20中的材料蒸發(fā)或汽化，從而實現(xiàn)沉積。這么做存在的問題是，由于待沉積的材料從加熱坩堝20外部發(fā)出，因此沉積的材料塊14附著在支撐裝置10中形成的并且其中分布加熱坩堝20的孔洞12的邊緣。因此，沉積期間，需要定期去除沉積材料塊14的分離步驟。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種支撐沉積設(shè)備的加熱坩堝的裝置以及包括它的沉積設(shè)備，它防止了沉積材料附著在支撐裝置的孔洞邊緣，以便易于維護、管理和使用加熱坩堝。
根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種支撐加熱坩堝的裝置，包括支撐臺和防污盤，支撐臺的上表面形成有許多孔洞，防污盤分布于支撐臺的各個孔洞入口處，并且具有相對于孔洞的開放部分以及沿孔洞內(nèi)壁延伸的遮蔽部分該裝置進一步包括分布于支撐臺各個孔洞處的電熱絲。
支撐臺上的孔洞為環(huán)狀分布。
該裝置進一步包括用來轉(zhuǎn)動支撐臺的致動器。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種沉積設(shè)備，包括支撐基片的支撐構(gòu)件，在所述基片上可形成沉積膜；支撐裝置，它包括支撐臺和防污盤，支撐臺的上表面形成有許多孔洞，防污盤分布于支撐臺的各個孔洞入口處，并且具有相對于孔洞的開放部分以及沿孔洞內(nèi)壁延伸的遮蔽部分；和加熱坩堝，其分布于支撐裝置的支撐臺中形成的各個孔洞處。
該沉積設(shè)備進一步包括分布于支撐臺各個孔洞處的電熱絲。
支撐臺上的孔洞為環(huán)狀分布。
該沉積設(shè)備進一步包括用來轉(zhuǎn)動支撐臺的致動器。


本發(fā)明的以上和其余特征和優(yōu)點，通過參照附圖詳細(xì)描述例證實施例，將變得顯而易見，其中
圖1是常規(guī)的加熱坩堝支撐裝置的透視圖；圖2是沿圖1的線II-II的橫截面圖；圖3是根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式的加熱坩堝支撐裝置的透視圖；圖4是沿圖3的線IV-IV的橫截面圖；圖5和6是顯示圖3的加熱坩鍋支撐裝置的改進實施例的視圖；和圖7是顯示根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式的沉積設(shè)備的示意圖。
具體實施例方式
根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式，參考圖3和4，在支撐裝置提供的支撐臺110的上表面形成多個孔洞112。盡管圖3中孔洞112為環(huán)狀分布，但是本發(fā)明并不限于此，孔洞112可以其它圖形如雙圈分布。
支撐臺110進一步包括安裝在各個孔洞112入口處的防污盤140。防污盤140包括相對于各個孔洞112的開放部分，以及沿各個孔洞112的內(nèi)壁112a的遮蔽部分。
加熱坩堝120置于支撐臺110中形成的各個孔洞112中，進行沉積。即，隨著待沉積的原料從置于孔洞112的加熱坩堝120中發(fā)出，通過蒸發(fā)或汽化完成沉積。在此過程中，發(fā)出的材料可附著在支撐臺110形成的孔洞112的邊緣。因此，在本實施方式的加熱坩鍋支撐裝置中，在放置加熱坩堝120的支撐臺110的各個孔洞112的入口處進一步提供了防污盤140，因此防止了發(fā)出的待沉積材料沉積直接附著在支撐臺110上。傳統(tǒng)上，待沉積的材料發(fā)出直接附著于支撐臺110上，這樣需要附加步驟以去除附著的材料。然而，在本實施方式的加熱坩堝支撐裝置中，由于待沉積的材料附著在防污盤140上，而不是支撐臺110上，僅僅通過替換或分離并清洗防污盤140，就可容易地維護、管理、使用加熱坩堝支撐裝置。
上述加熱坩堝支撐臺的支撐臺110的各個孔洞112處還可以進一步提供電熱絲130。電熱絲130提高了置于各個孔洞112中的加熱坩堝120的溫度。為此，電熱絲130通常由具有高電阻的導(dǎo)電材料形成。當(dāng)電流流過電熱絲130時，高電阻產(chǎn)生熱量來加熱加熱坩堝120。電熱絲130的形狀如2004年1月17日所示，是沿支撐臺110的各個孔洞112的內(nèi)壁112a提供的，可以變?yōu)楦鞣N形狀。
支撐臺110中各個孔洞112的下表面可進一步提供溫度傳感器，如熱電偶，以測定待沉積的材料的溫度。而且，可進一步提供致動器(未顯示)以轉(zhuǎn)動加熱坩堝支撐裝置的支撐臺110。
圖5和6顯示了圖3的加熱坩堝支撐裝置的改進實例。參照圖5和6，根據(jù)改進的實例，每個加熱坩堝支撐裝置都包括了先前圖4的實施方式中加熱坩堝支撐裝置的支撐臺110和防污盤140，先前實施方式的加熱坩堝支撐裝置與改進實例的加熱坩堝支撐裝置之間的區(qū)別在于防污盤140的形狀。
防污盤140排列在各個孔洞112的入口處，并且具有相對于各個孔洞112的開放部分，以及沿各個孔洞112的內(nèi)壁112a延伸的遮蔽部分。根據(jù)圖4的先前實施方式，在加熱坩鍋支撐裝置中提供的防污盤140的遮蔽部分中，僅遮蔽了加熱坩堝支撐裝置的支撐臺110上各個孔洞112的邊緣。然而，遮蔽部分可延伸到孔洞的下表面，如圖5所示。因此，可以基本上防止待沉積的材料附著在加熱坩堝支撐裝置上提供的支撐臺110的各個孔洞112內(nèi)部。
同樣，如圖6所示，防污盤140中進一步提供朝向支撐臺110的中心軸突出的突出部分。因此，防污盤140中形成的開放部分的半徑可以比支撐臺110中形成的各個孔洞112的半徑小。此外，開放部分可用來作為噴嘴并且可以是其它各種改進。
圖7是顯示根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式的沉積設(shè)備的視圖。參照圖7，根據(jù)本實施方式的沉積設(shè)備包括支撐在其上形成沉積膜的基片的基片支撐構(gòu)件212，和分布有加熱坩堝的加熱坩堝支撐裝置210。詳細(xì)說來，根據(jù)本實施方式的支撐設(shè)備包括密封室211，其包括支撐基片200的基片支撐構(gòu)件212，緊密附著于基片200并且具有相對于其中形成的所需沉積圖樣的縫隙的沉積掩體213，以及相對沉積掩體213來說面向基片200分布的加熱坩堝支撐裝置210。
基片支撐構(gòu)件212支撐基片200的邊緣，這樣待沉積的基片200的表面相應(yīng)于加熱坩鍋支撐裝置210得到支撐。然而，本發(fā)明并不限于此。而且，基片支撐構(gòu)件212在沉積期間可以轉(zhuǎn)動并且可以是其它改性?；螛?gòu)件212進一步包括防止基片200因基片200的自重而彎曲的裝置，和使沉積掩體213緊密接觸基片200的裝置。
加熱坩堝支撐裝置210具有上述實施方式和改進實例的加熱坩堝支撐裝置的結(jié)構(gòu)。即，加熱坩堝支撐裝置210包括一在其上表面形成有多個孔洞的支撐臺，以及排列于支撐臺上各個孔洞入口處并且具有相對于孔洞的開放部分和沿孔洞內(nèi)壁延伸的遮蔽部分的防污盤。而且，必要時，加熱坩堝支撐裝置210可以進一步包括一致動器來使加熱坩堝支撐裝置210轉(zhuǎn)動。
在如上構(gòu)成的沉積設(shè)備中，從分布于加熱坩堝支撐裝置210提供的支撐臺的孔洞中的加熱坩堝中發(fā)出的材料在基片200上沉積。在加熱坩堝支撐裝置210的支撐臺的孔洞中可以提供注入不同沉積材料的加熱坩堝。通過選擇性或組合加熱加熱坩堝，可形成不同種類的薄膜。由于待沉積的薄膜的均勻度和再現(xiàn)性非常重要，因此還可以提供一調(diào)整加熱坩堝支撐裝置210位置的裝置，這樣發(fā)出待沉積的材料的加熱坩堝總是保持在恒定位置。
在以上沉積設(shè)備中，通過使用上述實施方式和改進實例的加熱坩堝支撐裝置作為加熱坩堝支撐裝置210，可以輕松維護、管理和使用該沉積設(shè)備。因此，當(dāng)使用該沉積設(shè)備制造有機電致發(fā)光顯示裝置時，制造成本和所需時間就降低了。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明的加熱坩堝支撐裝置，以及包括它的沉積設(shè)備，防止了發(fā)出的沉積材料附著在加熱坩堝支撐裝置的支撐臺孔洞的邊緣，并且防污盤僅需要通過替換或分離得到清理。因此，很容易就可維護、管理、使用加熱坩堝支撐裝置，以及包括它的沉積設(shè)備。而且，當(dāng)使用該沉積設(shè)備制造有機電致發(fā)光顯示裝置時，制造成本和所需時間就降低了。
盡管參照其例證實施方式具體顯示和描述了本發(fā)明，但是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員應(yīng)理解，在不背離下面權(quán)利要求書定義的本發(fā)明精神和范圍下，可以在形式和細(xì)節(jié)上對本發(fā)明做不同變化。
權(quán)利要求
1.一種支撐加熱坩堝的裝置，包括支撐臺，其上表面上形成有許多孔洞，防污盤，它分布于支撐臺各個孔洞的入口處，并且具有相對于孔洞的開放部分以及沿孔洞內(nèi)壁延伸的遮蔽部分。
2.權(quán)利要求1的裝置，進一步包括分布于支撐臺各個孔洞處的電熱絲。
3.權(quán)利要求1的裝置，其中支撐臺上的孔洞為環(huán)狀分布。
4.權(quán)利要求1的裝置，進一步包括用來轉(zhuǎn)動支撐臺的致動器。
5.一種沉積設(shè)備，包括支撐基片的支撐構(gòu)件，在所述基片上可形成沉積膜；支撐裝置，它包括支撐臺和防污盤，支撐臺的上表面形成有許多孔洞，防污盤分布于支撐臺的各個孔洞入口處，并且具有相對于孔洞的開放部分以及沿孔洞內(nèi)壁延伸的遮蔽部分；和加熱坩堝，其分布于支撐裝置的支撐臺中形成的各個孔洞處。
6.權(quán)利要求5的沉積設(shè)備，進一步包括分布于支撐臺各個孔洞處的電熱絲。
7.權(quán)利要求5的沉積設(shè)備，其中支撐臺上的孔洞為環(huán)狀分布。
8.權(quán)利要求5的沉積設(shè)備，進一步包括用來轉(zhuǎn)動支撐臺的致動器。
全文摘要
一種支撐加熱坩堝的裝置，包括支撐臺和防污盤，支撐臺的上表面形成有許多孔洞，防污盤分布于支撐臺的各個孔洞入口處，并且具有相對于孔洞的開放部分以及沿孔洞內(nèi)壁延伸的遮蔽部分。
文檔編號C23C14/26GK1818128SQ20061000896
公開日2006年8月16日 申請日期2006年1月21日 優(yōu)先權(quán)日2005年1月21日
發(fā)明者池昶恂 申請人:三星Sdi株式會社