專利名稱：清洗方法、清洗裝置及電光學(xué)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及清洗方法、清洗裝置及電光學(xué)裝置。
背景技術(shù)：
低分子有機EL裝置中，在玻璃基板上形成有由低分子有機材料構(gòu)成的發(fā)光層。該由低分子有機材料構(gòu)成的發(fā)光層利用蒸鍍法形成。蒸鍍法是在高真空中加熱蒸發(fā)材料的小片，使之在基板上作為薄膜凝結(jié)的方法。利用蒸鍍法形成的發(fā)光層由于要防止有機材料附著在發(fā)光層的形成區(qū)域以外的區(qū)域上，因此需要配置蒸鍍掩模而進行。另外，由于要防止有機材料在蒸鍍小室的內(nèi)壁等上的附著，因此需要配置防附著板而進行。
但是，在進行了多次的蒸鍍處理后，在作為有機EL裝置的制造裝置的防附著板或蒸鍍掩模等的表面上，就會形成有機物堆積的狀態(tài)。當將堆積了有機物的防附著板繼續(xù)放置時，就會導(dǎo)致蒸鍍小室內(nèi)的污染。另外，由金屬薄板等制成的蒸鍍掩模因有機物的重量而較大地彎曲，從而對圖案化的精度造成影響。所以，將堆積在防附著板或蒸鍍掩模等上的有機物定期除去的操作是不可缺少的。
所以，要進行將堆積在防附著板或蒸鍍掩模等上的有機物利用人手擦掉的作業(yè)。另外，在專利文獻1中，提出在蝕刻處理后的處理室內(nèi)產(chǎn)生混合氣等離子體，將處理室內(nèi)的殘留反應(yīng)生成物除去的方法。另外，在專利文獻2中，提出將因有機膜真空蒸鍍而附著在掩模上的有機膜利用加熱處理不破壞真空地除去的方法。
特開平8-319586號公報[專利文獻2]特開2000-282219號公報但是，利用人手擦掉的方法中，會有非?；ㄙM人力的問題。所以，希望確立不使用人手而操作性良好的清洗程序。
而且，專利文獻1及2中提出的方法都是在處理室(小室)內(nèi)除去有機膜等的方法，伴隨著蒸鍍裝置的改造。所以，就會有需要較多的成本的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為了解決所述問題而完成的，其目的在于，提供可以將附著在電光學(xué)裝置的制造裝置上的有機物容易地除去的清洗方法及清洗裝置。另外，其目的在于，提供高質(zhì)量的電光學(xué)裝置。
為了達成所述目的，本發(fā)明的清洗方法的特征是，使用吡咯烷酮的衍生物來清洗附著在電光學(xué)裝置的制造裝置上的有機物。
在抗蝕劑剝離等中使用的吡咯烷酮的衍生物在有機物的分解作用方面十分優(yōu)良。
所以，不需要擦拭等物理的處理或制造裝置的改造，就可以除去有機物。因此，就可以將附著在電光學(xué)裝置的制造裝置上的有機物容易地除去。
另外，是一種附著在電光學(xué)裝置的制造裝置上的有機物的清洗方法，其特征是，具有將所述制造裝置用吡咯烷酮的衍生物處理的工序、將所述制造裝置用水處理的工序、將所述制造裝置用乙醇處理的工序。
附著在制造裝置上的有機物可以通過用吡咯烷酮的衍生物處理來除去。另外，附著在制造裝置上的吡咯烷酮的衍生物可以通過用水處理來除去。另外，附著在制造裝置上的水可以通過用乙醇處理來置換。
此外，附著在制造裝置上的低沸點的乙醇可以迅速地干燥。所以，就可以將附著在電光學(xué)裝置的制造裝置上的有機物容易地除去。
另外，所述吡咯烷酮的衍生物優(yōu)選N-甲基-2-吡咯烷酮。
N-甲基-2-吡咯烷酮在有機物的剝離作用方面特別優(yōu)良。所以，就可以將附著在電光學(xué)裝置的制造裝置上的有機物容易地除去。
而且，所述電光學(xué)裝置的制造裝置也可以是有機EL裝置的功能層的蒸鍍處理中使用的防附著板。
根據(jù)該構(gòu)成，由于可以將附著在防附著板上的有機物容易地除去，因此就可以防止蒸鍍小室內(nèi)的污染。
而且，所述電光學(xué)裝置的制造裝置也可以是有機EL裝置的功能層的蒸鍍處理中使用的掩模。根據(jù)該構(gòu)成，由于可以將附著在掩模上的有機物容易地除去，因此就可以防止由有機物的重量造成的掩模的彎曲。所以就可以確保蒸鍍處理的精度。
另外，所述制造裝置的清洗最好在常溫下進行。
根據(jù)該構(gòu)成，由于可以防止因加熱造成的制造裝置的變形，因此就可以精度優(yōu)良地制造電光學(xué)裝置。
另外，所述制造裝置的清洗最好是在同時使用超聲波的狀態(tài)下進行。
根據(jù)該構(gòu)成，就可以將附著在電光學(xué)裝置的制造裝置上的有機物有效地除去。
另一方面，本發(fā)明的清洗裝置是電光學(xué)裝置的制造裝置上所附著的有機物的清洗裝置，其特征是，具有將所述制造裝置用吡咯烷酮的衍生物處理的載物臺、將所述制造裝置用水處理的載物臺、將所述制造裝置用乙醇處理的載物臺、使所述制造裝置干燥的載物臺、向所述各載物臺依次搬送所述制造裝置的搬送機構(gòu)。
根據(jù)該構(gòu)成，就可以將附著在電光學(xué)裝置的制造裝置上的有機物容易地除去。
另一方面，本發(fā)明的電光學(xué)裝置的特征是，使用所述的清洗方法清洗所述電光學(xué)裝置的制造裝置，使用被清洗了的所述電光學(xué)裝置的制造裝置來制造。
根據(jù)該裝置，由于可以將附著在電光學(xué)裝置的制造裝置上的有機物除去，確保蒸鍍處理的精度，因此就可以提供高質(zhì)量的電光學(xué)裝置。


圖1是表示實施方式的清洗裝置的概略構(gòu)成的說明圖。
圖2是低分子有機EL裝置的側(cè)視剖面圖。
圖3是蒸鍍裝置的說明圖。
圖4是對基板的蒸鍍處理的說明圖。
圖5是本實施方式的清洗方法的各工序的處理內(nèi)容及處理條件圖6是實施例的各清洗液的清洗結(jié)果及各清洗液的安全性。
其中，5 搬送機構(gòu)，10 第1載物臺，20 第2載物臺，30 第3載物臺，40 第4載物臺，50 第5載物臺，140 蒸鍍掩模
具體實施例方式
下面將參照附圖對本發(fā)明的實施方式進行說明。而且，以下的說明中使用的各附圖為了將各構(gòu)件設(shè)為可以識認的大小，對各構(gòu)件的比例尺寸進行了適當變更。
本實施方式的清洗方法是清洗在形成低分子有機EL裝置的發(fā)光層時附著在蒸鍍掩模上的有機物的方法。所以，首先，使用圖2對低分子有機EL裝置的概略構(gòu)成進行說明。
圖2是低分子有機EL裝置的側(cè)視剖面圖。有機EL裝置200具有被配置成矩陣狀的多個象素區(qū)域R、G、B。在由玻璃材料等制成的基板210的表面上，形成有驅(qū)動各象素區(qū)域的電路部220。而且，圖2中，將電路部220的詳細構(gòu)成的圖示省略。在該電路部220的表面，與各象素區(qū)域R、G、B對應(yīng)地以矩陣狀形成有由ITO等制成的多個象素電極240。另外，按照覆蓋作為陽極發(fā)揮作用的象素電極240的方式，形成有由銅酞菁等制成的空穴注入層250。而且，也有在空穴注入層250的表面，設(shè)置由NPB(N，N-二(萘基)-N，N-二苯基-對二氨基聯(lián)苯)等形成的空穴傳輸層的情況。
此外，在空穴注入層250的表面，以矩陣狀形成有與各象素區(qū)域R、G、B對應(yīng)的發(fā)光層260。該發(fā)光層260由分子量大約在1000以下的低分子有機材料構(gòu)成。具體來說，將Alq3(鋁絡(luò)合物)等作為主體材料，將紅熒烯等作為摻雜劑，構(gòu)成發(fā)光層260。另外，按照覆蓋各發(fā)光層260的方式，形成由氟化鋰等構(gòu)成的電子注入層270，另外，在電子注入層270的表面，形成有由Al等構(gòu)成的陰極280。而且，在基板210的端部貼合有封閉基板(未圖示)，將整體密封封閉。
當在所述的象素電極240和陰極280之間施加電壓時，即從空穴注入層250向發(fā)光層260注入空穴，通過電子注入層270向發(fā)光層260注入電子。此外，在發(fā)光層260中空穴及電子復(fù)合，激發(fā)摻雜劑而發(fā)光。像這樣具有由低分子有機材料構(gòu)成的發(fā)光層的低分子有機EL裝置壽命長，在發(fā)光效率方面優(yōu)良。
所述的發(fā)光層通過使用蒸鍍裝置進行蒸鍍處理而形成。所以，使用圖3對蒸鍍裝置進行說明。
圖3是蒸鍍裝置的說明圖。下面將以電阻加熱式真空蒸鍍裝置為例進行說明。該蒸鍍裝置100具有連接了真空泵102的小室104。在該小室104的內(nèi)部，設(shè)有基板夾具110。在該基板夾具110上，成為蒸鍍處理的對象的基板210被朝下保持。另一方面，按照與基板夾具110相面對的方式，設(shè)有填充了蒸鍍材料124的坩鍋120。在該坩鍋120上配設(shè)有電熱絲122，從而可以將坩鍋內(nèi)的蒸鍍材料124加熱。而且，為了防止蒸發(fā)了的蒸鍍材料附著在小室104的內(nèi)壁等上，設(shè)有防附著板130。
在使用該蒸鍍裝置進行蒸鍍處理時，首先，在基板夾具110上安裝基板210，并且向坩鍋120內(nèi)填充蒸鍍材料124。然后，運轉(zhuǎn)與小室104連接的真空泵102，對小室104的內(nèi)部抽真空。然后，向配設(shè)在坩鍋120上的電熱絲122通電，使電熱絲122發(fā)熱，將坩鍋內(nèi)的蒸鍍材料124加熱。這時，蒸鍍材料124即蒸發(fā)，附著在基板210的表面。而且，向基板以外的方向飛散的蒸鍍材料附著在防附著板130的表面。
圖4是對基板的蒸鍍處理的說明圖。而且，圖4中，將基板210向下描畫。這里，以在象素區(qū)域G上的發(fā)光層260的形成工序為例進行說明。在形成發(fā)光層260的情況下，在將蒸鍍掩模140配置于基板210的表面的狀態(tài)下，安裝在蒸鍍裝置的基板夾具上。該蒸鍍掩模140由不銹鋼等金屬薄板制成，在發(fā)光層260的形成區(qū)域中具有開口部142。另一方面，在蒸鍍裝置的坩鍋內(nèi)，作為蒸鍍材料填充發(fā)光層260的構(gòu)成材料。此外，當使該蒸鍍材料124蒸發(fā)時，蒸鍍材料124即穿過蒸鍍掩模140的開口部142，附著在基板210的表面的發(fā)光層260的形成區(qū)域上。而且，由于在發(fā)光層260的形成區(qū)域以外的區(qū)域上配置有蒸鍍掩模140，因此蒸鍍材料124就附著在蒸鍍掩模的表面。這樣，通過使蒸鍍材料124僅附著在發(fā)光層260的形成區(qū)域上，就可以形成發(fā)光層260。
另外，如果使蒸鍍掩模140的開口部142向象素區(qū)域B移動，與所述相同地進行蒸鍍處理，則可以在象素區(qū)域B上也形成發(fā)光層。此時，在蒸鍍掩模140的表面上，各象素區(qū)域R、G、B的發(fā)光層260的構(gòu)成材料就會依次堆積。而且，在防附著板上也同樣地堆積了有機物。所以，就需要清洗附著在蒸鍍掩模140或防附著板等上的有機物。
圖1是表示本實施方式的清洗裝置的概略構(gòu)成的說明圖。本實施方式的清洗裝置1具有將蒸鍍掩模140用吡咯烷酮的衍生物處理的第1載物臺10、對蒸鍍掩模140進行水漂洗處理的第2載物臺20、對蒸鍍掩模140進行流水漂洗處理的第3載物臺30、將蒸鍍掩模140用乙醇處理的第4載物臺40、使蒸鍍掩模140干燥的第5載物臺50、向各載物臺依次搬送蒸鍍掩模140的搬送機構(gòu)5。而且，各載物臺被設(shè)于清洗小室2的內(nèi)部。
第1載物臺10是將蒸鍍掩模140用吡咯烷酮的衍生物處理的載物臺。所以，在第1載物臺10上設(shè)有處理槽，在該處理槽的內(nèi)部填充有吡咯烷酮的衍生物。吡咯烷酮的衍生物是抗蝕劑剝離等中使用的藥品，在有機物的分解作用方面十分優(yōu)良。作為吡咯烷酮的衍生物，存在有2-吡咯烷酮或N-甲基-2-吡咯烷酮、N-乙烯基-2吡咯烷酮等。其中，如果采用以化學(xué)式1表示的N-甲基-2-吡咯烷酮，則可以在常溫下發(fā)揮較高的清洗效果。
而且，也可以在第1載物臺10的處理槽中，設(shè)置超聲波清洗機構(gòu)16。超聲波清洗機構(gòu)16向清洗液內(nèi)放射超聲波而產(chǎn)生駐波，利用聲壓的作用清洗被清洗物。超聲波清洗機構(gòu)16例如優(yōu)選放射800kHz以上的超聲波的機構(gòu)，更優(yōu)選以特定的時間間隔掃描頻率的機構(gòu)。這樣，清洗槽內(nèi)的駐波的分布就會變化，從而可以發(fā)揮較高的清洗效果。
第2載物臺20及第3載物臺30是將蒸鍍掩模140用水處理的載物臺。所以，在第2載物臺20的處理槽及第3載物臺30的處理槽中，填充有水。特別是，在第3載物臺30的處理槽中，設(shè)有水的攪拌機構(gòu)36。利用該攪拌機構(gòu)36，就可以在處理槽內(nèi)產(chǎn)生水流。
第4載物臺40是將蒸鍍掩模140用乙醇處理的載物臺。所以，在第4載物臺40的處理槽中，填充有乙醇。
第5載物臺50是使蒸鍍掩模140干燥的載物臺。而且，如果在第5載物臺50中設(shè)置吹風機56，則可以使蒸鍍掩模迅速干燥。另外，如果采用氮氣等惰性氣體的吹風機56，則可以防止蒸鍍掩模140的氧化等。
此外，設(shè)有向各載物臺依次搬送蒸鍍掩模140的搬送機構(gòu)5。搬送機構(gòu)5被制成箱狀，其壁面由沖孔金屬或網(wǎng)材料等構(gòu)成。這樣，液體就可以穿過搬送機構(gòu)5的壁面而自由出入。搬送機構(gòu)5被制成在其內(nèi)側(cè)可以收容1個或多個蒸鍍掩模140的大小，另外，被制成可以浸漬在各載物臺的處理槽內(nèi)的大小。此外，設(shè)有使該搬送機構(gòu)5向各載物臺依次移動，進而依次浸漬在各載物臺的處理槽中的驅(qū)動機構(gòu)(未圖示)。
使用圖5及圖1對使用所述的清洗裝置清洗蒸鍍掩模的方法進行說明。圖5是本實施方式的清洗方法的各工序的處理內(nèi)容及處理條件。本實施方式的清洗方法是具有將蒸鍍掩模140用吡咯烷酮的衍生物處理的第1工序、對蒸鍍掩模140進行水漂洗處理的第2工序、對蒸鍍掩模140進行流水漂洗處理的第3工序、將蒸鍍掩模140用乙醇處理的第4工序、使蒸鍍掩模140干燥的第5工序的方法。
第1工序中，將蒸鍍掩模140用吡咯烷酮的衍生物處理。具體來說，將蒸鍍掩模140收容在搬送機構(gòu)5中，使搬送機構(gòu)5向第1載物臺10移動，將搬送機構(gòu)5和蒸鍍掩模140一起浸漬在第1載物臺10的處理槽內(nèi)。浸漬條件例如采用室溫下3分鐘。這樣就可以將附著在蒸鍍掩模140上的有機物除去。而且，在第1載物臺10的處理槽中設(shè)置了超聲波清洗機構(gòu)16的情況下，通過同時使用超聲波清洗，就可以有效地除去有機物。而且，有時在蒸鍍處理中使用后被長時間放置在大氣中的防附著板等即使用10分鐘的浸漬清洗也無法除去有機物。但是，通過同時使用超聲波清洗，就可以將這樣的附著在防附著板上的有機物完全除去。
第2工序中，對蒸鍍掩模140進行水漂洗處理。具體來說，使搬送機構(gòu)5向第2載物臺20移動，將搬送機構(gòu)5和蒸鍍掩模140一起浸漬在處理槽內(nèi)。浸漬條件例如采用室溫下5分鐘。這樣就可以將附著在蒸鍍掩模140上的吡咯烷酮衍生物的大部分除去。
第3工序中，對蒸鍍掩模140進行流水漂洗處理。具體來說，預(yù)先驅(qū)動設(shè)置在第3載物臺30的處理槽內(nèi)的攪拌機構(gòu)36，在處理槽內(nèi)先產(chǎn)生水流。此外，使搬送機構(gòu)5向第3載物臺30移動，將搬送機構(gòu)5和蒸鍍掩模140一起浸漬在處理槽內(nèi)。浸漬條件例如采用室溫下5分鐘。這樣就可以將附著在蒸鍍掩模140上的吡咯烷酮衍生物完全除去。
第4工序中，將蒸鍍掩模140用乙醇處理。具體來說，使搬送機構(gòu)5向第4載物臺40移動，將搬送機構(gòu)5和蒸鍍掩模140一起浸漬在處理槽內(nèi)。浸漬條件例如采用室溫下3分鐘。這樣就可以將附著在蒸鍍掩模140的表面上的水置換為乙醇。
第5工序中，對蒸鍍掩模140進行干燥處理。具體來說，使搬送機構(gòu)5向第5載物臺50移動，將蒸鍍掩模140放置10分鐘。而且，由于將蒸鍍掩模140的表面置換為低沸點的乙醇，因此就可以使之自然干燥。另外，在第5載物臺50上設(shè)置了吹風機56的情況下，通過用該吹風機56向蒸鍍掩模140吹風，就可以使之更迅速地干燥。
如上詳述所示，本實施方式的清洗方法中，采用了使用吡咯烷酮的衍生物清洗附著在蒸鍍掩模上的有機物的構(gòu)成。在抗蝕劑剝離等中使用的吡咯烷酮的衍生物在有機物的分解作用方面十分優(yōu)良。所以，就不需要擦洗等物理的處理或制造裝置的改造，而可以在短時間內(nèi)除去有機物。所以，就可以容易地除去附著在蒸鍍掩模上的有機物。與此同時，可以防止由有機物的重量造成的蒸鍍掩模的彎曲。所以，就可以確保蒸鍍處理的精度。
另外，吡咯烷酮的衍生物即使在常溫下也可以發(fā)揮優(yōu)良的清洗效果。因而就不用伴隨著加熱，而可以將附著在蒸鍍掩模上的有機物除去。而且，在蒸鍍掩模的周緣部上，形成有與蒸鍍掩模主體的熱膨脹率不同的框架。當加熱該蒸鍍掩模時，由于蒸鍍掩模主體和框架的熱膨脹率的不同，就會有蒸鍍掩模主體變形的可能。在這一點上，本實施方式的清洗方法可以不伴隨著加熱地清洗蒸鍍掩模，從而可以防止蒸鍍掩模的變形。特別是，如果不需要考慮被清洗物的變形，則通過加熱清洗可以提高清洗效果。
而且，本發(fā)明的技術(shù)范圍并不限定于所述的各實施方式，包括在不脫離本發(fā)明的主旨的范圍內(nèi)，對所述的各實施方式添加了各種變更的方式。
即，實施方式中所舉的具體的材料或構(gòu)成只不過是一個例子而已，可以進行適當?shù)淖兏嵤┓绞街须m然對清洗附著在低分子有機EL裝置的發(fā)光層的蒸鍍掩模上的有機物的情況進行了說明，但是本發(fā)明可以廣泛適用于清洗附著在電光學(xué)裝置的制造裝置上的有機物的情況。例如，除了低分子有機EL裝置以外，可以廣泛適用于高分子有機EL裝置、液晶顯示裝置、等離子顯示器裝置、電場發(fā)射顯示器裝置(FED)等的制造裝置中。另外，除了蒸鍍處理中使用的制造裝置以外，可以廣泛適用于蒸鍍處理以外的成膜處理或蝕刻處理等中使用的制造裝置中。
對于多種清洗液，比較了有機物的清洗效果。作為清洗液，選定了10種溶劑或堿性水溶液。另外，作為被清洗物，采用了蒸鍍處理中使用的防附著板。該防附著板是在低分子有機EL裝置的功能層形成工序中采用的防附著板，在其表面，附著有銅酞菁或NPB(N，N-二(萘基)-N，N-二苯基-對二氨基聯(lián)苯)、Alq3(三(8-羥基喹啉)鋁)、紅熒烯、香豆素等有機物。將該防附著板在各清洗液中在室溫下浸漬了10分鐘。而且，不進行超聲波或擦洗等物理的清洗。漂洗為5分鐘的流水洗，干燥用吹氮氣來進行。
圖6中表示各清洗液的清洗結(jié)果及各清洗液的安全性。在作為清洗液采用了N-甲基-2-吡咯烷酮的情況下，確認將附著在防附著板上的有機物完全除去，顯示了最好的清洗效果。而且，作為N-甲基-2-吡咯烷酮，采用了Shipley制的抗蝕劑剝離液。
與之相反，在使用作為東京應(yīng)化制的抗蝕劑剝離液的二甲亞砜和單乙醇胺混合液的情況下，有機物的清洗速度慢，即使在浸漬了10分鐘后，也殘留有較多的有機物。而且，成分中的單乙醇胺由于是相當于PRTR藥品，可能對人體有影響，因此很難作為清洗液采用。
另一方面，用丙酮或乙醇、異丙醇之類的酮或醇也可以進行有機物的清洗。但是，由于確認被除去的有機物會再次附著，因此需要頻繁更換清洗液。另外，多數(shù)被確認有防附著板的污物殘留。此外，在將它們作為清洗液使用的情況下，需要很大的防爆炸設(shè)備。因此很難將它們作為清洗液采用。
而且，在使用TMAH(四甲基-氫氧化銨)或KOH(氫氧化鉀)等堿類清洗液的情況下，無法獲得良好的清洗效果。
根據(jù)以上情況，作為吡咯烷酮衍生物的N-甲基-2-吡咯烷酮被確認最適合作為附著在防附著板上的有機物的清洗液。
權(quán)利要求
1.一種清洗方法，其特征是，使用吡咯烷酮的衍生物來清洗附著在電光學(xué)裝置的制造裝置上的有機物。
2.一種清洗方法，是清洗附著在電光學(xué)裝置的制造裝置上的有機物的清洗方法，其特征是，具有將所述制造裝置用吡咯烷酮的衍生物處理的工序、將所述制造裝置用水處理的工序、將所述制造裝置用乙醇處理的工序。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的清洗方法，其特征是，所述吡咯烷酮的衍生物是N-甲基-2-吡咯烷酮。
4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任意一項所述的清洗方法，其特征是，所述電光學(xué)裝置的制造裝置，是有機EL裝置的功能層的蒸鍍處理中使用的防附著板。
5.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任意一項所述的清洗方法，其特征是，所述電光學(xué)裝置的制造裝置，是有機EL裝置的功能層的蒸鍍處理中使用的掩模。
6.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任意一項所述的清洗方法，其特征是，所述制造裝置的清洗在常溫下進行。
7.根據(jù)權(quán)利要求1～6中任意一項所述的清洗方法，其特征是，所述制造裝置的清洗是在同時使用超聲波的狀態(tài)下進行。
8.一種清洗裝置，是附著在電光學(xué)裝置的制造裝置上的有機物的清洗裝置，其特征是，具有將所述制造裝置用吡咯烷酮的衍生物處理的載物臺、將所述制造裝置用水處理的載物臺、將所述制造裝置用乙醇處理的載物臺、使所述制造裝置干燥的載物臺、向所述各載物臺依次搬送所述制造裝置的搬送機構(gòu)。
9.一種電光學(xué)裝置，其特征是，使用權(quán)利要求1～7中任意一項所述的清洗方法清洗所述電光學(xué)裝置的制造裝置，使用被清洗了的所述電光學(xué)裝置的制造裝置來制造。
全文摘要
本發(fā)明提供可以容易地除去附著在低分子有機EL裝置的蒸鍍掩模上的有機物的清洗方法及清洗裝置。附著在低分子有機EL裝置的蒸鍍掩模上的有機物的清洗裝置(1)，具有將蒸鍍掩模(140)用吡咯烷酮的衍生物處理的第1載物臺(10)、對蒸鍍掩模(140)進行水漂洗處理的第2載物臺(20)、對蒸鍍掩模(140)進行流水漂洗處理的第3載物臺(30)、將蒸鍍掩模(140)用乙醇處理的第4載物臺(40)、使蒸鍍掩模(140)干燥的第5載物臺(50)、向各載物臺依次搬送蒸鍍掩模(140)的搬送機構(gòu)(5)。作為吡咯烷酮的衍生物，優(yōu)選采用N－甲基－2－吡咯烷酮。
文檔編號C23C14/04GK1623688SQ20041010002
公開日2005年6月8日 申請日期2004年11月30日 優(yōu)先權(quán)日2003年12月2日
發(fā)明者細田登志子, 四谷真一 申請人:精工愛普生株式會社